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用于织构表面研究的方法和装置

用于织构表面研究的方法和装置

专利申请号:CN201010230911.5

公 开 号:CN101957187A

发 明 人:彼得·施瓦茨 乌韦·斯珀林 

代 理 人:高占元

代理机构:44217 深圳市顺天达专利商标代理有限公司

专利类型:发明申请

申 请 日:20110126

公 开 日:20100706

专利主分类号:G01B11/30(20060101)

关 键 词:图像 附加属性 光学研究 评价记录 图像特征 照射射线 特征值 织构 射线 照射 研究 

摘      要:本发明公开了一种用于织构表面(10)的光学研究的方法,包括以下步骤:照射射线到被研究的所述表面(10);接收来自至少部分照射到所述表面(10)和被所述表面(10)反射的射线的图像;定位评价记录的图像并确定作为该图像特征的至少一个值(K)。根据本发明,在使用所述特征值(K)及使用所述表面(10)的事前已知或经测定的至少一个附加属性(E)的同时,确定作为所述表面特征的参数(G)。

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