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内蒙古自治区呼和浩特市赛罕区大学西街235号 邮编: 010021
专利申请号:CN201010230911.5
公 开 号:CN101957187A
代 理 人:高占元
代理机构:44217 深圳市顺天达专利商标代理有限公司
专利类型:发明申请
申 请 日:20110126
公 开 日:20100706
专利主分类号:G01B11/30(20060101)
关 键 词:图像 附加属性 光学研究 评价记录 图像特征 照射射线 特征值 织构 射线 照射 研究
摘 要:本发明公开了一种用于织构表面(10)的光学研究的方法,包括以下步骤:照射射线到被研究的所述表面(10);接收来自至少部分照射到所述表面(10)和被所述表面(10)反射的射线的图像;定位评价记录的图像并确定作为该图像特征的至少一个值(K)。根据本发明,在使用所述特征值(K)及使用所述表面(10)的事前已知或经测定的至少一个附加属性(E)的同时,确定作为所述表面特征的参数(G)。