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内蒙古自治区呼和浩特市赛罕区大学西街235号 邮编: 010021
专利申请号:CN200410047691.7
公 开 号:CN100367387C
代 理 人:汪惠民
代理机构:11021 中科专利商标代理有限责任公司
专利类型:授权发明
申 请 日:20080206
公 开 日:20040526
专利主分类号:G11B7/26(20060101)
关 键 词:感热材料层 原盘 曝光状态 辅助层 信息存储媒体 凹凸图形 光学常数 截面形状 模式记录 热传导 基板 热学 接触
摘 要:本发明涉及光信息存储媒体的原盘制造方法,它利用热模式记录法,使用由基板(101)、因曝光状态发生变化的感热材料层(102)以及与感热材料层相接触配置的至少有一层的记录辅助层(103)所构成的记录原盘,通过任意的选择记录辅助层的热传导率、光学常数以及厚度等,用热学或光学的方法来控制感热材料层的曝光状态,从而容易的控制形成在原盘上的凹凸图形的截面形状。