用于大幅度微纳结构的扫描探针测量系统及其方法

专利申请号：CN201210204638.8

公 开 号：CN102735880A

发 明 人：居冰峰 陈远流 张威 朱吴乐 姜燕 

代 理 人：张法高

代理机构：33200 杭州求是专利事务所有限公司

专利类型：发明申请

申 请 日：20121017

公 开 日：20120620

专利主分类号：G01Q60/10(20100101)

关 键 词：扫描探针 微纳结构 测量系统 电机驱动 精密测量 精密位移 压电陶瓷 长行程 电容式位移传感器 压电陶瓷驱动器 形貌 工件表面形貌 扫描探针显微 系统及其方法 电机驱动器 直线编码器 伺服 测量范围 电路单元 联动控制 扫描测量 两级 微动 

摘      要：本发明公开一种用于大幅度微纳结构测量的扫描探针测量系统及其方法。包括手调微动台、行程为25mm的电机驱动精密位移台、电机驱动器、行程为60μm的长行程压电陶瓷、压电陶瓷驱动器、PID控制电路单元、扫描探针测头、直线编码器、电容式位移传感器等。通过电机驱动的精密位移台和长行程压电陶瓷的两级伺服联动控制，实现大幅度微纳结构表面形貌的扫描探针显微超精密测量。本发明克服了传统扫描探针测量系统纵向测量范围有限、不适用于大幅度微纳结构扫描测量的缺点，提供了一种新型的扫描探针测头系统及其方法，满足了大幅度微纳结构工件表面形貌超精密测量需求。