一种用于高数值孔径投影光刻系统的照明模式产生装置

专利申请号：CN201410131217.6

公 开 号：CN103869632A

发 明 人：邢莎莎 林妩媚 邢廷文 杜猛 张海波 

代 理 人：杨学明;李新华

代理机构：11251 北京科迪生专利代理有限责任公司

专利类型：发明申请

申 请 日：20140618

公 开 日：20140402

专利主分类号：G03F7/20(20060101)

关 键 词：变形镜 照明模式 阵列结构 透镜组 驱动器 投影光刻系统 分子激光器 光斑 复眼阵列 光斑位置 精确控制 静电驱动 控制系统 数值孔径 阵列制造 耦合镜组 高空间 可旋转 平行 旋转 转化 

摘      要：本发明提供一种用于高数值孔径投影光刻系统的照明模式产生装置，包括准分子激光器，扩束准直系统，单排微复眼阵列，光束分布调整单元，傅里叶透镜组和控制系统。其中，光束分布调整单元由两个相互平行的微变形镜阵列和位于其间的耦合镜组组成，微变形镜阵列的每个镜单元由静电驱动可在一维方向连续旋转，使入射于其上的光束有不同的出射角，并通过傅里叶透镜组转化为目标面上不同的光斑位置，从而实现不同照明模式。本发明采用两组一维微变形镜阵列结构，避免制作同时需要高驱动器密度和高空间频率的二维可旋转微变形镜阵列结构，且两个只在一维方向上运动的微变形镜阵列制造加工方面较为简单，更利于实现光斑分布的精确控制。