生成具有边界像素超采样效果的阴影的方法

专利申请号：CN201010285578.8

公 开 号：CN101937577A

发 明 人：王锐 华炜 鲍虎军 

代 理 人：陈昱彤

代理机构：33200 杭州求是专利事务所有限公司

专利类型：发明申请

申 请 日：20110105

公 开 日：20100917

专利主分类号：G06T15/50(20060101)

关 键 词：纹理 阴影 光源平面 像素 场景 轮廓图 掩码 视点 边界像素 采样效果 平面计算 平面投影 阴影颜色 深度图 位置图 采样 检测 

摘      要：本发明公开了一种生成具有边界像素超采样效果的阴影的方法：步骤为(1)先构造阴影掩码表；(2)再如下利用所述阴影掩码表生成阴影：1)在光源平面上生成场景中物体的深度图纹理；2)检测所述场景中物体的轮廓边，在光源平面上生成场景中物体的轮廓图纹理；3)在视点平面上生成场景中物体的位置图纹理和法向图纹理；4)对视点平面上的每一个像素用一个小平面逼近，后将各小平面投影到所述光源平面上；5)使用所述轮廓图纹理将小平面分类为轮廓上的小平面和非轮廓上的小平面两种；6)对所述非轮廓上和轮廓上的小平面计算其对应像素的阴影颜色值。使用本发明方法可以不需要进行超采样就得到具有子像素级别的反走样效果的阴影。