基于角谱扫描照明的微结构成像方法

专利申请号：CN201310355085.0

公 开 号：CN103411561B

发 明 人：刘俭 谭久彬 王宇航 

代 理 人：张伟

代理机构：23209 哈尔滨市伟晨专利代理事务所(普通合伙)

专利类型：授权发明

申 请 日：20151209

公 开 日：20130815

专利主分类号：G01B11/24(20060101)

关 键 词：测微结构 光阑 二维扫描振镜 显微物镜 样品表面 样品图像 成像 反射 微结构表面形貌 探测信号强度 分光镜反射 背景噪声 表面轮廓 不同空间 测量精度 成像透镜 成像装置 从激光器 高低起伏 扫描透镜 照明角度 分光镜 漫反射 微结构 多张 角谱 重构 照射 扫描 对应 聚焦 找到 导致 发出 复杂 设计 自身 

摘      要：基于角谱扫描照明的微结构成像装置与方法属于微结构表面形貌成像领域；该装置从激光器发出的光束经过二维扫描振镜反射后，依次经过扫描透镜、第一光阑、成像透镜、分光镜、第二光阑、显微物镜照射到被测微结构样品表面，由被测微结构样品表面漫反射的光束再次经过显微物镜、第二光阑，并由分光镜反射，经管镜聚焦到CCD相机成像；该方法将二维扫描振镜置于不同空间位置，得到多张被测微结构样品图像，并重构被测微结构样品图像；这种设计使被测微结构样品的每一部分都能找到对应的最佳照明角度，避免被测微结构样品自身表面轮廓的高低起伏导致的某些区域无法照明或者发生复杂反射，提高探测信号强度，降低背景噪声，进而提高测量精度。