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基于缺陷模式的静态分析方法和工具

基于缺陷模式的静态分析方法和工具

专利申请号:CN201510994119.X

公 开 号:CN106919501A

发 明 人:刘磊 何沁洁 孙渊博 常青 穆森 

代 理 人:刘东升

代理机构:11011 中国兵器工业集团公司专利中心

专利类型:发明申请

申 请 日:20170704

公 开 日:20151225

专利主分类号:G06F11/36(20060101)

关 键 词:缺陷模式 应用系统 去除 迁移 程序静态分析 兼容性检查 编辑程序 静态分析 匹配成功 缺陷分析 逐行扫描 源程序 遍历 可控 调用 匹配 分析 评估 缺陷模式 去除 程序静态分析 编辑程序 匹配成功 缺陷分析 逐行扫描 源程序 遍历 调用 匹配 分析 

摘      要:本发明公开了一种基于缺陷模式的程序静态分析方法和工具,包括:预编辑程序的缺陷模式;遍历文件,找到所需分析的文件;对源程序进行逐行扫描,去除无需分析的代码;进行缺陷分析,调用该缺陷模式与去除代码后的程序进行匹配,如果匹配成功,则说明该文件存在该缺陷。本发明的有益效果在于,本发明的一种基于缺陷模式的静态分析方法和工具,可以实现应用系统的兼容性检查,对迁移前的准备做出指导,对应用系统的自主可控迁移进行评估和指导。

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