一种硬质合金表面磁控溅射复合技术沉积W-N硬质膜的方法

专利申请号：CN201810849879.5

公 开 号：CN108977781A

发 明 人：匡同春 张子威 彭小珊 黎毓灵 邓阳 雷淑梅 王毅 陈灵 周克崧 钟喜春 曾德长 

代 理 人：何淑珍;冯振宁

代理机构：44102 广州粤高专利商标代理有限公司

专利类型：发明申请

申 请 日：20181211

公 开 日：20180728

专利主分类号：C23C14/35(20060101)

关 键 词：硬质膜 过渡层 沉积 制备 硬质合金表面 致密 基体表面 硬质合金 磁控溅射技术 辉光放电技术 电弧 高功率脉冲 化学稳定性 膜基结合力 表面平整 超声清洗 磁控溅射 复合技术 化学屏障 节能环保 离子清洗 摩擦性能 使用寿命 原位沉积 综合性能 研磨 热屏障 抛光 可控 刻蚀 清洁 

摘      要：本发明公开了一种硬质合金表面磁控溅射复合技术沉积W‑N硬质膜的方法。该方法先将基体研磨、抛光、超声清洗，然后对其表面进行离子清洗与刻蚀，而后在硬质合金表面沉积致密W‑N硬质膜过渡层，接着在过渡层上原位沉积W‑N硬质膜。本发明利用电弧增强辉光放电技术清洁基体表面，大幅度提高膜基结合力，其次在基体表面利用高功率脉冲磁控溅射技术沉积一层致密的W‑N硬质膜过渡层，进一步增强硬质膜结合强度，同时充当良好的热屏障和化学屏障。最终制备出摩擦性能优异、硬度高、表面平整、化学稳定性良好的W‑N硬质膜，有效提高硬质合金工件的综合性能和使用寿命。该硬质膜制备可控，制备方法简单，节能环保，易于实施，适合推广应用。