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抛光设备

抛光设备

专利申请号:CN201110447907.9

公 开 号:CN102513920A

发 明 人:锅谷治 户川哲二 福岛诚 安田穗积 

代 理 人:陈珊;刘兴鹏

代理机构:72002 永新专利商标代理有限公司

专利类型:发明申请

申 请 日:20120627

公 开 日:20051031

专利主分类号:B24B37/07(20120101)

关 键 词:距离测量传感器 垂直运动机构 最佳位置 抛光垫 夹持半导体晶片 抛光半导体晶片 滚珠丝杆机构 抛光设备 位置计算 控制器 检测 接触 

摘      要:抛光设备(1)具有抛光垫(22)、用于夹持半导体晶片(W)的顶环(20)、可操作地沿垂直方向移动顶环(20)的垂直运动机构(24)、当顶环(20)的下表面接触抛光垫(22)时可操作地检测顶环(20)的距离测量传感器(46)、可操作地基于距离测量传感器(46)检测到的位置计算顶环(20)抛光半导体晶片(W)的最佳位置的控制器(47)。垂直运动机构(24)包括可操作地将顶环(20)移动到最佳位置的滚珠丝杆机构(30,32,38,42)。

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