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Kim, Y.H. Cabral Jr., C. Gusev, E.P. Carruthers, R. Gignac, L. Gribelyuk, M. Cartier, E. Zafar, S. Copel, M. Narayanan, V. Newbury, J. Price, B. Acevedo, J. Jamison, P. Linder, B. Natzle, W. Cai, J. Jammy, R. Ieong, M.  Systematic study of workfunction engineering and scavenging effect using NiSi alloy FUSI metal gates with advanced gate stacks [M].IEEE International Electron Devices Meeting, 2005 IEDM,
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