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等离子体表面处理技术及进展

等离子体表面处理技术及进展

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中国真空学会第六届全国会员代表大会暨学术会议

作者：童洪辉核工业西南物理研究院

等离子体表面处理技术主要包括等离子体渗氮(或碳氮共渗)、离子注入、等离子体喷涂、等离子体辅助沉积薄膜和离子镀膜等,已获得了广泛的应用。但随材料表面性能的要求越来越高,单凭等离子体表面处理技术中的一种已很难满足其使用要求,... 详细信息

等离子体表面处理技术主要包括等离子体渗氮(或碳氮共渗)、离子注入、等离子体喷涂、等离子体辅助沉积薄膜和离子镀膜等,已获得了广泛的应用。但随材料表面性能的要求越来越高,单凭等离子体表面处理技术中的一种已很难满足其使用要求,发展新技术和综合运用两种或多种等离子体表面处理技术之长的复合表面处理延寿技术(即等离子体渗注镀复合表面强化新技术)已势在必行。本文介绍了近年得到大力发展的高效过滤金属等离子体沉积源、离化源、非平衡磁控靶、脉冲开关电源技术以及新型复合等离子体表面强化设备,并对一些实际应用亦作了简单介绍。

关键词：等离子体表面处理

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我国特种功能材料技术研究进展

我国特种功能材料技术研究进展

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中国真空学会第六届全国会员代表大会暨学术会议

作者：潘峰清华大学材料系

先进功能材料是国民经济、社会发展及国防建设的基础和先导;先进功能材料也是新材料领域的核心,对高新技术的发展起着重要的推动和支撑作用。先进功能材料还对我国相关传统产业的改造和升级,实现跨越式发展起着重要的促进作用。世界各... 详细信息

先进功能材料是国民经济、社会发展及国防建设的基础和先导;先进功能材料也是新材料领域的核心,对高新技术的发展起着重要的推动和支撑作用。先进功能材料还对我国相关传统产业的改造和升级,实现跨越式发展起着重要的促进作用。世界各国均非常重视功能材料的研发与应用。我国高技术(863)计划、国家重大基础研究[973]计划、国家自然科学基金项目中均安排了许多特种功能材料技术项目,并取得了大量研究成果。本文重点介绍近三年来我国特种功能材料技术中信息功能材料(片式电容、片式电感、片式变压器等)、能源转换及储能材料(围绕锂离子电池的相关材料)、稀土功能材料(高性能钕铁硼材料、钕铁氮材料、稀土发光材料等),生态环境材料、生物医用材料等方面的重要进展和产业化情况。

关键词：功能材料

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驱动电压对新型荫罩式PDP单元放电特性影响的研究

驱动电压对新型荫罩式PDP单元放电特性影响的研究

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中国真空学会第六届全国会员代表大会暨学术会议

作者：张健赵卫华屠彦尹涵春东南大学电子工程系东南大学电子工程系东南大学电子工程系东南大学电子工程系

彩色等离子体显示由于具有大屏幕、高亮度、高对比度、真彩色、宽视角和长寿命等优点,在大屏幕平板显示器件领域已建立了其领先地位,但还面临着进一步提高性能的要求。新型荫罩式PDP(SM-PDP)具有高亮度、高响应频率、低着火电压以及使... 详细信息

彩色等离子体显示由于具有大屏幕、高亮度、高对比度、真彩色、宽视角和长寿命等优点,在大屏幕平板显示器件领域已建立了其领先地位,但还面临着进一步提高性能的要求。新型荫罩式PDP(SM-PDP)具有高亮度、高响应频率、低着火电压以及使用寿命长等特点,为PDP的研究开辟了一个新的方向。研究影响SM-PDP性能的各项因素,可以为提高SM-PDP的性能提供帮助。其中驱动电压的变化,可以使PDP在放电过程中放电单元内的电场发生变化,从而改变放电的过程,最终改变PDP的性能。研究这些变化可以为选择合适的驱动电压,最终提高SM-PDP的性能提供帮助。

关键词：驱动电压 PDP 放电过程高亮度放电特性

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中高真空范围的静态膨胀法校准装置中容积比测量方法探讨

中高真空范围的静态膨胀法校准装置中容积比测量方法探讨

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中国真空学会第六届全国会员代表大会暨学术会议

作者：郑可可中国计量科学研究院热工处

静态膨胀方法(亦称作容积膨胀法,连续膨胀法)原理是将已知的小容积中压力较大的气体膨胀到另一大容积中,根据两容积的比值,推导出所获得的较小的压力值。在中高真空校准区域,静态膨胀法具有最高的精度,目前被世界各国家计量院广泛地用... 详细信息

静态膨胀方法(亦称作容积膨胀法,连续膨胀法)原理是将已知的小容积中压力较大的气体膨胀到另一大容积中,根据两容积的比值,推导出所获得的较小的压力值。在中高真空校准区域,静态膨胀法具有最高的精度,目前被世界各国家计量院广泛地用于该范围段的真空基准装置。容积比的确定,在静态膨胀系统的设计、真空校准及周期复检过程中,是一个关键因素,是整个系统不确定度的主要来源之一。确定容积比大小可以有多种方法,包括重力(称重)法、膨胀法、定压法、磁悬浮真空计法等。本文对各种容积比测量方法进行了探讨及比较。并着重阐述了膨胀法原理,该方法属于现场原位测量方法,可以避免系统重新装配带来的新的不确定度。此外,针对该过程中涉及到的温度影响,给出了绝热条件下(实验室条件下难实现)和非绝热条件下由于温度梯度、温度漂移带来的不确定度的理论修正方法。

关键词：中高真空真空校准装置静态膨胀法容积比

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Cr/Cr2O3膜系的微结构研究

Cr/Cr2O3膜系的微结构研究

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中国真空学会第六届全国会员代表大会暨学术会议

作者：陈长琦王凤丹王君王旭迪程亚威合肥工业大学机械与汽车工程学院合肥工业大学机械与汽车工程学院合肥工业大学机械与汽车工程学院合肥工业大学机械与汽车工程学院合肥工业大学机械与汽车工程学院

研究了真空直流磁控溅射下充混合氮气氩气的体积比为0:1、2:1、5:1的混合气体分别作用下的Cr/Cr2O3膜层,选取在相同温度作用下的三种膜层,用原子力显微镜观察到膜层表面微结构形貌及颗粒大小出现很大差异的现象,通过XRD测试三种膜层的... 详细信息

研究了真空直流磁控溅射下充混合氮气氩气的体积比为0:1、2:1、5:1的混合气体分别作用下的Cr/Cr2O3膜层,选取在相同温度作用下的三种膜层,用原子力显微镜观察到膜层表面微结构形貌及颗粒大小出现很大差异的现象,通过XRD测试三种膜层的晶向生长谱图,得出在氮气氩气的体积比值不断增大的过程中,Cr的(110)衍射峰强度由强变弱,而Cr2O3(110)衍射峰强度由弱变强,在5:1时两峰的强度相当,得到理论设计上蚀刻线条边缘质量良好的膜系。

关键词：磁控溅射微结构 XRD 蚀刻

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质谱分析多系统航天器检漏研究

质谱分析多系统航天器检漏研究

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中国真空学会第六届全国会员代表大会暨学术会议

作者：闫荣鑫刘平冯琪洪晓鹏中国空间技术研究院总装与环境工程部中国空间技术研究院总装与环境工程部中国空间技术研究院总装与环境工程部中国空间技术研究院总装与环境工程部

采用示漏气体初值和终值及样值循环比较测量,直接注入示漏气体到收集室标定多系统漏率,使标准气样离子流和终值离子流尽可能一致,避开四极质谱计测量的线性和长期重复性问题,研制了以GAM500质谱系统为核心的多系统航天器检漏设备。分析... 详细信息

采用示漏气体初值和终值及样值循环比较测量,直接注入示漏气体到收集室标定多系统漏率,使标准气样离子流和终值离子流尽可能一致,避开四极质谱计测量的线性和长期重复性问题,研制了以GAM500质谱系统为核心的多系统航天器检漏设备。分析了收集室密封性能和循环风量对检漏结果的影响、取样和质谱分析的物理过程。在大气环境下,最小可检漏率灵敏度达到10-6Pa·m3/s。介绍了新型航天器多系统检漏的试验结果,提高了检漏的可靠性,大大地节约了检漏时间和费用。

关键词：四极质谱航天器检漏质谱分析

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直流磁控溅射法制备In2O3:Mo透明导电氧化物薄膜

直流磁控溅射法制备In2O3:Mo透明导电氧化物薄膜

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中国真空学会第六届全国会员代表大会暨学术会议

作者：李喜峰缪维娜张群章壮健华中一复旦大学材料科学系复旦大学材料科学系复旦大学材料科学系复旦大学材料科学系复旦大学材料科学系

高迁移率透明导电氧化物(TCO)薄膜在透明电子学中具有重要的作用,因为它能够保证透明电子器件具有高的运行速度。因此,开展研究具有高迁移率的透明导电氧化物薄膜不仅具有理论意义而且具有应用价值。反应蒸发法制备的掺钼氧化铟In2O3:Mo... 详细信息

高迁移率透明导电氧化物(TCO)薄膜在透明电子学中具有重要的作用,因为它能够保证透明电子器件具有高的运行速度。因此,开展研究具有高迁移率的透明导电氧化物薄膜不仅具有理论意义而且具有应用价值。反应蒸发法制备的掺钼氧化铟In2O3:Mo(IMO)薄膜由于具有较高的载流子迁移率同时具有良好的光学透明性从而受到了较大的重视[1]。本文介绍采用直流磁控溅射法制备具有良好结晶性和高载流子迁移率I M O薄膜的条件。研究和讨论氧分压、基板温度和溅射电流等制备参数对薄膜光电性能的影响。

关键词：直流磁控溅射法高迁移率 IMO 导电氧化物反应蒸发法 In2O3:Mo

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单线圈感应耦合等离子体功率转换效率的研究

单线圈感应耦合等离子体功率转换效率的研究

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中国真空学会第六届全国会员代表大会暨学术会议

作者：狄小莲辛煜叶超宁兆元苏州大学物理科学与技术学院苏州大学物理科学与技术学院苏州大学物理科学与技术学院苏州大学物理科学与技术学院

本文分别从实验和理论计算的角度上对感应耦合放电的功率转换效率进行了研究,功率转换效率是等离子体吸收功率与通过匹配网络传输到线圈上的功率之比。平面型单线圈通过感应耦合在真空室中生成低气压、高密度Ar等离子体。随着功率从0W... 详细信息

本文分别从实验和理论计算的角度上对感应耦合放电的功率转换效率进行了研究,功率转换效率是等离子体吸收功率与通过匹配网络传输到线圈上的功率之比。平面型单线圈通过感应耦合在真空室中生成低气压、高密度Ar等离子体。随着功率从0W逐渐增加到30W时,微弱发光的等离子体突然变成了明亮的高密度等离子体,这主要是由于放电模式的改变,即从E放电模式跳跃到H放电模式。通过测量感应线圈的电压、电流及功率因子等参量,得到了不同放电功率条件下的功率转换效率。利用变压器等效电路模型从理论上计算了功率转换效率,模型中考虑了低气压等离子体随机加热机制,理论计算结果与实验结果进行了比较。

关键词：感应耦合等离子体功率转换效率放电模式

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内凹表面等离子体浸没离子注入技术研究进展

内凹表面等离子体浸没离子注入技术研究进展

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中国真空学会第六届全国会员代表大会暨学术会议

作者：田修波杨士勤 RickyK.Y.Fu PaulK.Chu 现代焊接生产技术国家重点实验室哈尔滨工业大学现代焊接生产技术国家重点实验室哈尔滨工业大学现代焊接生产技术国家重点实验室哈尔滨工业大学现代焊接生产技术国家重点实验室哈尔滨工业大学

等离子体浸没离子注入是一种有效的表面处理手段。由于离子加速是通过等离子体鞘层和工件之间的电势差促成的,因而该技术对于管筒内表面或凹槽内表面离子注入提供(?)极大的方便。由于等离子体鞘层对工件几何象形,在一定意义上讲,等离子... 详细信息

等离子体浸没离子注入是一种有效的表面处理手段。由于离子加速是通过等离子体鞘层和工件之间的电势差促成的,因而该技术对于管筒内表面或凹槽内表面离子注入提供(?)极大的方便。由于等离子体鞘层对工件几何象形,在一定意义上讲,等离子体注入技术可以看作将无数个小的离子源移进圆筒或凹槽内部,从而获得传统束线离子注入无法获得的注入。本文结合作者的研究工作以及国内外的文献报道,综述了近些年利用等离子体注入技术在内凹表面处理上的研究进展,并提出了技术展望。

关键词：等离子体浸没离子注入技术等离子体鞘层

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低介电常数薄膜沉积和性质的研究

低介电常数薄膜沉积和性质的研究

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中国真空学会第六届全国会员代表大会暨学术会议