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微腔调制常温Ge量子点光荧光特性研究
微腔调制常温Ge量子点光荧光特性研究
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第十三届全国化合物半导体材料、微波器件光电器件学术会议暨第九届全国固体薄膜学术会议
作者: 李传波 毛容伟 左玉华 成步文 余金中 王启明 中国科学院半导体研究所集成光电子国家重点实验室(北京)
本文报道了微腔对Ge量子点常温光荧光的调制特性.生长在SOI硅片上的Ge量子点的常温光荧光呈多峰分布,随波长增加,峰与峰之间的间隔增加.这种多峰结构与SOI硅片所形成的微腔有关,只有满足特定波长的光荧光才能透出腔体并被探测器搜集.模... 详细信息
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二维光子晶体激光器的FDTD仿真
二维光子晶体激光器的FDTD仿真
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第十三届全国化合物半导体材料、微波器件光电器件学术会议暨第九届全国固体薄膜学术会议
作者: 孙增辉 陈弘达 张晓帆 许兴胜 裴为华 周毅 中国科学院半导体研究所集成光电子学国家重点联合实验室(北京)
二维光子晶体结构在平面内可以形成光子禁带,改变光子晶体结构的完整,可以在禁带内引入缺陷态,从而形成谐振模式.本文主要利用时域有限差分法(FDTD)计算了二维光子晶体的带隙结构,仿真了二维光子晶体激光器的微腔对谐振模的选择.
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一种新型的三稳态纳电子器件
一种新型的三稳态纳电子器件
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第十三届全国化合物半导体材料、微波器件光电器件学术会议暨第九届全国固体薄膜学术会议
作者: 牛萍娟 陈乃金 郭维廉 梁惠来 王文新 天津工业大学信息与通信工程学院 天津大学电子信息工程学院 中科院物理所分子束外延实验室
我们制作了在电流-电压特性曲线上具有双微分负阻的共振隧穿器件,室温就可达到较高的峰谷比5.2:1,这种器件采用两个隧穿二极管背靠背串联的结构,可以在多值逻辑或其它有关降低电路复杂性方面有较为广泛的应用.
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内嵌自组装InAs量子点调制掺杂场效应管的光电特性研究
内嵌自组装InAs量子点调制掺杂场效应管的光电特性研究
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第十三届全国化合物半导体材料、微波器件光电器件学术会议暨第九届全国固体薄膜学术会议
作者: 曾宇昕 刘伟 杨富华 徐萍 谭平恒 章昊 边历峰 郑厚植 曾一平 中科院半导体研究所超晶格国家重点实验室(北京) 中科院半导体研究所新材料部(北京)
研究了阱中生长自组装InAs量子点的光谱特性,获得了室温1.265μm近红外荧光发光,探讨了与量子点尺寸分布相联系的发光峰随温度的超常红移现象.制备了内嵌InAs量子点的异质结调制掺杂场效应晶体管,获得了高耐压的场效应器件电学特性,并... 详细信息
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大功率670nm半导体激光器的研制
大功率670nm半导体激光器的研制
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第十三届全国化合物半导体材料、微波器件光电器件学术会议暨第九届全国固体薄膜学术会议
采用低压金属有机化学气相沉积(MOCVD)生长了670nm激光器外延片,有源区采用单量子阱结构,阱区、垒区分别为InGaAsP和AlGaInP.利用该外延制作了带无电流注入区的氧化条形激光器.激光器腔长为900um,电流注入区条宽100um,两端的无注入区... 详细信息
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低温退火对稀磁半导体(Ga,Mn)As性质的影响
低温退火对稀磁半导体(Ga,Mn)As性质的影响
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第十三届全国化合物半导体材料、微波器件光电器件学术会议暨第九届全国固体薄膜学术会议
作者: 邓加军 赵建华 蒋春萍 牛智川 杨富华 郑厚植 中国科学院半导体研究所超晶格国家重点实验室(北京)
利用低温分子束外延技术在GaAs(001)上外延生长出厚度为500nm的稀磁半导体(Ga,Mn)As薄膜,双晶X-射线衍射证明其为闪锌矿结构,晶格参数为0.5683nm,据此推导出其Mn含量为7﹪.磁测量结果揭示其铁磁转变温度为65K.观察了低温退火处理对(Ga,M... 详细信息
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半导体纳米粒子Bi<,2>S<,3>和NiS的非线性吸收特性
半导体纳米粒子Bi<,2>S<,3>和NiS的非线性吸收特性
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第十三届全国化合物半导体材料、微波器件光电器件学术会议暨第九届全国固体薄膜学术会议
作者: 掌蕴东 朱俊杰 张云军 袁萍 孙旭涛 哈尔滨工业大学光电子技术研究所 可调谐气体激光国家重点实验室 南京大学化学与化工学院 配位化学国家重点实验室
测量了两种纳米粒子BiS和NiS的光限幅特性和非线性光学响应,测量了非线性吸收特性,数值模拟计算了它们的非线性吸收系数分别为BiS非线性吸收系数β≈9cm/GW,NiS非线性吸收系数β≈8cm/GW.
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MOCVD法生长高质量的侧向外延GaN
MOCVD法生长高质量的侧向外延GaN
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第十三届全国化合物半导体材料、微波器件光电器件学术会议暨第九届全国固体薄膜学术会议
作者: 陈俊 张纪才 张书明 朱建军 杨辉 中科院半导体所 集成光电子学国家重点实验室(北京)
运用低压金属有机气相外延法(MOCVD),在GaN/蓝宝石复合衬底上,采用侧向外延生长技术制备出高质量的GaN外延膜,并对其进行扫描电镜、X射线双晶衍射、透射电镜测量和分析.发现完全合并后的GaN外延层的表面平整,晶体质量较衬底有大幅的提... 详细信息
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PHEMT MIMIC互推式振荡器设计
PHEMT MIMIC互推式振荡器设计
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第十三届全国化合物半导体材料、微波器件光电器件学术会议暨第九届全国固体薄膜学术会议
作者: 应子罡 吕昕 高本庆 李拂晓 高建峰 北京理工大学信息科学技术学院电子工程系(北京) 南京电子器件研究所(南京) 北京理工大学信息科学技术学院电子工程系(北京) 南京电子器件研究所(南京)
本文分析了单片互推式振荡器的设计原理,阐明了设计步骤,利用55所的0.5um GaAs PHEMT的管芯模型设计了工作频率为52.56GHz的MIMIC互推式振荡器,仿真结果表明该种振荡器具有工作频率高、负载迁移小、结构紧凑等优点.
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AlN缓冲层TMAl流量对Si(111)上GaN晶体质量的影响
AlN缓冲层TMAl流量对Si(111)上GaN晶体质量的影响
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第十三届全国化合物半导体材料、微波器件光电器件学术会议暨第九届全国固体薄膜学术会议
作者: 伍墨 张宝顺 王建峰 朱建军 杨辉 中国科学院半导体研究所 国家集成光电子研发中心(北京)
在Si(111)上生长六方GaN,一般采用AlN缓冲层技术,一方面可以抑制Si衬底上的Si原子扩散到GaN中形成SiN,另一方面,可以缓解GaN与Si衬底之间的张应力,从而可以提高GaN外延层的晶体质量.本文进述了影响AlN缓冲层的一些因数以及AlN缓冲层的... 详细信息
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