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AlGaN/GaN HEMT器件
AlGaN/GaN HEMT器件
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第十二届全国化合物半导体材料、微波器件光电器件学术会议
作者: 肖冬萍 魏珂 王润梅 中科院微电子中心
报道了AlGaN/GaN HEMT器件的制造工艺和器件的室温直流特性测试结果.器件的栅长为0.8μm,源漏间距为4μm,最大电流密度为25mA/mm,最大跨导为12mS/mm.
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碳化硅电子器件的基础问题
碳化硅电子器件的基础问题
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第十二届全国化合物半导体材料、微波器件光电器件学术会议
作者: 李效白 专用集成电路国家重点实验室(石家庄市)
SiC材料可以制作高频高温高压大电流大功率抗辐射的器件,成为第三代最具代表性的半导体材料之一,本文综述了碳化硅电子材料与器件近些年来国内外的发展和它的基础问题.
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SiC MESFET器件工艺研究
SiC MESFET器件工艺研究
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第十四届全国化合物半导体材料、微波器件光电器件学术会议
作者: 陈刚 柏松 张涛 汪浩 李哲洋 蒋幼泉 南京电子器件研究所 单片集成电路与模块国家级重点实验室210016
本文介绍制作4H-SiC MESFET器件中的总栅宽1mm,2GHz连续波下输出功率大于4W,小信号增益大于10dB的SiC MESFET管.
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热蒸发沉积的硫化锌薄膜的结构分析
热蒸发沉积的硫化锌薄膜的结构分析
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第九届全国化合物半导体.微波器件.光电器件学术会议
作者: 柳兆洪 陈振湘 大学物理系
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一种低成本长距离有源UHF射频标签的设计研究
一种低成本长距离有源UHF射频标签的设计研究
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第十四届全国化合物半导体材料、微波器件光电器件学术会议
作者: 陶慧斌 梁峰 邵志标 西安交通大学电子科学与技术系
本文简明分析了UHF频段的有源射频标签所涉及高灵敏和低功耗的接收电路,简单易行的发送电路以及超低功耗的基带处理电路.进行了设计验证,给出基于此结构的标签的各项实验测试结果.
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微波功率管在老化试验中失效机理分析
微波功率管在老化试验中失效机理分析
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第十三届全国化合物半导体材料、微波器件光电器件学术会议暨第九届全国固体薄膜学术会议
作者: 王慧敏 北京微电子技术研究所(北京)
本文针对微波功率管在老化试验中出现的失效现象进行分析,对于改进微波功率管的设计和工艺,提高器件的可靠性具有一定意义.
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超晶格缓冲层在GaAs/AlGaAs激光器材料中的应用
超晶格缓冲层在GaAs/AlGaAs激光器材料中的应用
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第九届全国化合物半导体.微波器件.光电器件学术会议
作者: 朱东海 梁基本 科学院半导体研究所半导体材料科学实验室
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GaN——第三代半导体的代表
GaN——第三代半导体的代表
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全国化合物半导体、微波器件和光电器件学术会议
作者: 梁春广 工业部第十三研究所(石家庄)
GaN是第三代半导体的代表。该文叙述了GaN材料的优良特性,制造微波高温半导体器件的研究动态和应用前景,尤其是GzNLED和LD近几年令人瞩目的进展以及在大屏幕全色显示、交通信号灯、汽车尾灯、甚至固体照明灯以及高速超大容量CD-ROM信... 详细信息
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GaAs衬底上MOCVD生长立方相GaN材料的稳定性研究
GaAs衬底上MOCVD生长立方相GaN材料的稳定性研究
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全国化合物半导体、微波器件和光电器件学术会议
作者: 孙小玲 杨辉 科学院半导体研究所 国家光电子工艺中心(北京) 科学院半导体研究所 超晶格开放实验室(北京)
该文采用高温热退火和激光退火的方式对低压MOCVD方法在GaAs衬底(001)面制备的立方相GaN薄膜进行处理,利用光致发光光谱和喇曼散射光谱来研究相变过程。首次报道了亚稳相c-GaN的相变条件及其光学特征。
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亚微米栅高电子迁移率晶体管的二维数值分析
亚微米栅高电子迁移率晶体管的二维数值分析
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第九届全国化合物半导体.微波器件.光电器件学术会议
作者: 张兴宏 杨玉芬 科学院半导体研究所
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