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964 条 记 录,以下是841-850 订阅
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2.5~10Gb/s HEMT IC全耗尽型光驱动电路中器件性能的研究
2.5~10Gb/s HEMT IC全耗尽型光驱动电路中器件性能的研究
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全国化合物半导体.微波器件光电器件学术会议
作者: 高建军 袁志鹏 吴德馨 中科院微电子中心(北京)
主要针对高速光纤通信系统中调制器驱动电器HEMTIC设计开展研究。着重讨论了PHEMT器件阈值电压、特征频率对外调制驱动电路特性的影响,给出了满足电路性能要求的参数范围;对2.5~10Gb/sPHEMTIC光驱动电路进行了计算机仿真,眼图模拟... 详细信息
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940nm高功率列阵半导体激光器
940nm高功率列阵半导体激光器
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全国化合物半导体.微波器件光电器件学术会议
作者: 曲轶 薄报学 高欣 吉林大学电子工程系 长春光学精密机械学院高功率半导体激光国家重点实 长春光学精密机械学院高功率半导体激光国家重点实验室
利用分子束外延生长方法生长出InGaAs/GaAs应变量子阱材料。利用该材料制作出的应变量子阱列阵半导体激光器准连续(500μs,100Hz)输出功率达到27W(室温),峰值波长为939~941nm,并分析了影响列阵半导体激光器输出功率的因素。
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用离子注入的方法实现InGaAs/InGaAs激光器材料的量子阱混合
用离子注入的方法实现InGaAs/InGaAs激光器材料的量子阱混合
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全国化合物半导体.微波器件光电器件学术会议
作者: 刘超 李国辉 韩德俊 北京师范大学低能核物理研究所 北京市辐射中心
为了在光开关器件的局部区域实现量子阱混合,选用1~2MeV、1×10~5×10cm的P离子注入到InGaAs/InGaAs分别限制多量子阱(SCH-MQW)激光器结构,在700℃下快速热退火90s。发现光致发光谱的峰值位置发生蓝移9~89nm。蓝移的大小随... 详细信息
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AlGaAsSb/InGaAsSb多量子阱结构的光致发光谱
AlGaAsSb/InGaAsSb多量子阱结构的光致发光谱
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全国化合物半导体.微波器件光电器件学术会议
作者: 郑燕兰 李爱珍 中国科学院信息功能材料国家重点实验室 中国科学院上海冶金研究所
用固态源MBE技术生长了AlGaAsSb/InGaAsSb多量子阱材料,研究了通过改变多量子阱AlGaAsSb/InGaAsSb中的结构参数,如多量子阱中AlGaAsSb/InGaAsSb的阱宽,AlGaAsSb/InGaAsSb的垒宽及垒层中Al组分和阱层中的In组分,多量子阱中的阱数等... 详细信息
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偏振差分反射谱(RDS)测试系统
偏振差分反射谱(RDS)测试系统
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全国化合物半导体.微波器件光电器件学术会议
作者: 万寿科 陈涌海 王占国 北京科学院半导体研究所材料开放室实验室(北京)
利用RDS测试系统,可以在近垂直入射条件下,测量出样品的反射系数在样品平面内 两个相互垂直的方向上的细微差异,即所谓平面内光学各向异性。它对研究半导体材料及其量子阱超晶格等低维结构中的平面内光学各向异性、半导体表面重构和... 详细信息
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计算机程序控制电晕极化系统
计算机程序控制电晕极化系统
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全国化合物半导体.微波器件光电器件学术会议
作者: 石志文 应志春 陈廷杰 应冉沂 国家光电子工艺中心中国科学院半导体研究所(北京) 国土资源部岩矿测试技术研究所(北京) 北京汇理信息技术公司(北京)
研制了计算机程序控制的电晕极化系统,系统由586计算机、加热设备、高压电源、 计算机程序控制硬件设备和软件等组成,实现了电晕极化实验自动化。此实验系统使用方便、灵活、稳定,是极化聚合材料、光波导和调制器件研究中关键工艺... 详细信息
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2.5G DFB量子阱激光器p型欧姆接触电极的研究
2.5G DFB量子阱激光器p型欧姆接触电极的研究
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全国化合物半导体.微波器件光电器件学术会议
作者: 李秉臣 彭晔 朱洪亮 中国科学院半导体研究所 国家光电子工艺中心(北京)
对2.5G DFB量子阱激光器p型低阻欧姆接触电极进行了研究,在退火温度400℃,退火时间30s进行快速热退火条件下,对Au-Pt-Ti/InAs/p-InGaAs(掺Zn>1×10cm)MQW/n-InP和Au-Pt-Ti/p-InGaAs(掺Zn>1×10cm/MQW/n-InP两种结构进行了... 详细信息
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LP-MOCVD生长大功率InGaAsP/GaAs量子阱激光器
LP-MOCVD生长大功率InGaAsP/GaAs量子阱激光器
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全国化合物半导体.微波器件光电器件学术会议
作者: 李忠辉 王向武 张宝顺 长春光学精密机械学院高功率半导体激光国家重点实验室 信息产业部电子第五十五所新材料中心(南京)
设计并利用LP-MOCVD生长了InGaAsP/GaAs分别限制单量子阱结构,采用无铝的InGaP做光学包层。腔面未镀膜情况下,测试10支条宽100μm,腔长1mm的激光器样品,连续输出功率超过1W,阈值电流密度为330~490A/cm,外微分量子效率为55℅~78... 详细信息
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NH<,3>-MBE生长极化场二维电子气材料
NH<,3>-MBE生长极化场二维电子气材料
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全国化合物半导体.微波器件光电器件学术会议
作者: 孙殿照 刘宏新 王军喜 王晓亮 中国科学院半导体所材料中心(北京) 中国科学院 半导体所材料中心(北京)
介绍了用NH-MBE技术在蓝宝石C面上外延的高质量的GaN单层膜以及GaN/AlN/GaN 极化感应二维电子气材料。外延膜都是N面材料。形成的二维电子气是“倒置二维电子气” 。GaN单层膜的室温电子迁移率为300cm/Vs。二维电子气材料的迁移率为680c... 详细信息
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用低温Raman散射光谱研究不同处理的CdZnTe表面
用低温Raman散射光谱研究不同处理的CdZnTe表面
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全国化合物半导体.微波器件光电器件学术会议
作者: 裴慧元 方家熊 传感技术国家重点实验室中国科学院上海技术物理研究所(上海)
利用低温Raman散射光谱分析,比较了4种典型处理的CdZnTe表面声子散射信号和表面元素沉积的变化。对-220~-90cm的反斯托克斯分量进行分析得出,BM液腐蚀后的表面晶格完整性最好;LB液处理有利于进一步改善表面粗糙度和表面漏电流;离子... 详细信息
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