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964 条 记 录,以下是271-280 订阅
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F16CuPc掺杂NPB空穴注入层对有机电致发光器件的改善
F16CuPc掺杂NPB空穴注入层对有机电致发光器件的改善
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第十五届全国化合物半导体材料、微波器件光电器件学术会议
作者: 关敏 曹国华 李林森 曾一平 中国科学院半导体研究所材料中心 北京 100083
实验中制备了一种F16CuPc掺杂NPB薄膜,它作为宅穴注入层相校于单纯的NPB薄膜对有机电致发光器件性能有所改善。例如,在2000 cd/m2下,第一个器件的效率是2.7cd/A,高于单独使用NPB薄膜的器件得到的1.6cd/A。另外,复合薄膜的热稳定性强于... 详细信息
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天线几何结构对低温GaAs光电导THz发射的影响
天线几何结构对低温GaAs光电导THz发射的影响
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第十五届全国化合物半导体材料,微波器件光电器件学术会议
作者: 崔利杰 曾一平 王保强 朱战平 石小溪 黄振 李淼 赵国忠 中国科学院半导体研究所材料中心 首都师范大学物理系
研究了用飞秒激光激发低温生长的GaAs(LT-GaAs)大孔径光电导天线产生太赫兹(Hz)波的辐射特性。通过设计七种大孔径天线结构,来研究天线的几何结构对THz发射性能的影响。实验发现七种天线的有效频谱宽度都达到了3 THz,而且七种不同几何... 详细信息
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ZnO半导体纳米线/PVA复合结构的制备及其紫外发光特性
ZnO半导体纳米线/PVA复合结构的制备及其紫外发光特性
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第十五届全国化合物半导体材料,微波器件光电器件学术会议
作者: 贺永宁 张雯 崔吾元 崔万照 王东 朱长纯 侯洵 西安交通大学电子与信息工程学院 西安交通大学理学院 中国空间技术研究院西安分院空间微波技术国家重点实验室
采用高纯Zn粉氧化工艺在常压、盲口石英舟及生长温度600℃时得到了形貌一致、产额高的ZnO半导体纳米线粉;将该ZnO半导体纳米线粉分散在PVA中并通过热聚合形成了ZnO半导体纳米线/PVA复合结构膜。研究表明,PVA为ZnO半导体纳米线提供了隔... 详细信息
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离子注入工艺在4H-SiC器件中的应用
离子注入工艺在4H-SiC器件中的应用
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第十五届全国化合物半导体材料,微波器件光电器件学术会议
作者: 李春 陈刚 南京电子器件研究所五中心 南京电子器件研究所单片集成电路与模块国家级重点实验室
介绍了离子注入工艺可在SiC器件中形成欧姆接触,其电阻值经退火后可达到10Ω·cm;同时也可利用离子注入在平面工艺中形成良好的电学隔离,避免工艺复杂化,提高了成品率。最后通过B注入形成边缘终端制作4H-SiC肖特基势垒二极管的例子... 详细信息
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天线的几何结构对低温GaAs光电导THz发射的影响
天线的几何结构对低温GaAs光电导THz发射的影响
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第十五届全国化合物半导体材料、微波器件光电器件学术会议
作者: 崔利杰 曾一平 王保强 朱战平 石小溪 黄振 李淼 赵国忠 中国科学院半导体研究所材料中心 北京 100083 中国科学院半导体研究所材料中心 北京10008 首都师范大学物理系 北京 100087
本文研究了用飞秒激光激发低温生长的砷化镓(LT-GaAs)大孔径光电导天线产生太赫兹(THz)波的辐射特性。通过设计七种大孔径天线结构,来研究天线的几何结构对THz发射性能的影响。实验发现七种天线的有效频谱宽度都达到了3THz,而且七种不... 详细信息
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MOCVD方法低温下外延ZnO/Si薄膜及其性质的研究
MOCVD方法低温下外延ZnO/Si薄膜及其性质的研究
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第十五届全国化合物半导体材料、微波器件光电器件学术会议
作者: 钟泽 苏剑锋 舒妲 陈小庆 傅竹西 中国科学技术大学物理系 合肥 230026
以水汽作为氧源,二乙基锌为锌源,采用LP-MOCVD方法在Si(111)衬底上低温下成功了生长高质量的ZnO薄膜,使用X射线衍射,原子力显微镜,光致发光谱等手段表征了薄膜的性质。通过改变衬底温度,载气流量及反应源的流量等参数研究了生长条件对... 详细信息
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改进了渡越时间方程的InP DHBT模型
改进了渡越时间方程的InP DHBT模型
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第十五届全国化合物半导体材料,微波器件光电器件学术会议
作者: 葛霁 金智 程伟 苏永波 刘新宇 中国科学院微电子研究所
建立了一个改进了渡越时间方程的InP DHB大信号模型。从HB电荷方程出发,首先给出了InP DHB的耗尽电荷方程,接着分析了InP DHB集电极复合结构对载流子速度的影响,测试了集电极复合结构的InP DHB的渡越时间,提出了一个简单准确的渡越时间... 详细信息
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空穴注入结构对有机电致发光器件性能影响
空穴注入结构对有机电致发光器件性能影响
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第十五届全国化合物半导体材料,微波器件光电器件学术会议
作者: 曹国华 关敏 曹俊松 李林森 曾一平 中国科学院半导体研究所新材料部
分别以CuPc、C和C/CuPc为空穴注入结构制备了ITO/HIL/NPB/Alq/LiF/Al结构有机电致发光器件(HIL是空穴注入层)。相比于单层C注入层器件,由于C/CuPc结构器件中增加了CuPc作为空穴传输的能量阶梯,器件的电流密度和亮度分别被提高了96%和1... 详细信息
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InP基共振遂穿二极管研究
InP基共振遂穿二极管研究
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第十五届全国化合物半导体材料,微波器件光电器件学术会议
作者: 韩春林 薛舫时 高建峰 陈辰 南京电子器件研究所单片集成电路和模块国家级重点实验室
在实验中对InGaAs/AlAs/InP共振遂穿二极管(RD)进行了优化设计,并用MBE设备在(100)半绝缘InP单晶片上生长了RD外延材料。采用电子束光刻工艺和空气桥互连技术,制作了InP基RD器件。在室温下测试了器件的电学特性,峰值电流密度24.6 kA... 详细信息
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磁控溅射掺Er SiN薄膜的光致荧光谱
磁控溅射掺Er SiN薄膜的光致荧光谱
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第十五届全国化合物半导体材料,微波器件光电器件学术会议
作者: 丁武昌 郑军 左玉华 成步文 余金中 王启明 郭亨群 吕蓬 申继伟 中科院半导体研究所光电集成实验室 华侨大学信息科学与工程学院
采用磁控溅射法生长了掺Er SiN薄膜,在高温退火后测试了薄膜的光致荧光谱。薄膜在可见光区域以及红外光区域都表现出了很强的光致发光,观察到了Er离子各高能级到基态的跃迁。对样品进行了RBS等性分析,给出了薄膜的元素组成,并对Er离... 详细信息
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