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高特征温度P型掺杂1.3μm五层InAs/GaAs量子点结构激光器
高特征温度P型掺杂1.3μm五层InAs/GaAs量子点结构激光器
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第十五届全国化合物半导体材料、微波器件光电器件学术会议
作者: 季海铭 曹玉莲 杨涛 马文全 曹青 陈良惠 中国科学院半导体研究所 纳米光电子实验室北京 100083
为了研制输出与温度无关可直接调制的1.3微米光通信系统光源,我们生长并制作了P型掺杂1.3 μm五层InAs/GaAs量子点结构激光器。条宽2.5μm、腔长1200μm的边发射激光器在室温脉冲条件下测得的激射波长为1325nm,阈值电流为13mA,输出功率... 详细信息
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脉冲缓冲层对AlN外延层位错密度的影响
脉冲缓冲层对AlN外延层位错密度的影响
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第十五届全国化合物半导体材料,微波器件光电器件学术会议
作者: 桑立雯 秦志新 方浩 代涛 杨志坚 沈波 张国义 张小平 俞大鹏 北京大学介观物理和人工微结构国家重点实验室宽禁带半导体研究中心 北京大学电镜室
在蓝宝石衬底上采用交替通Al源和NH的方法生长的100周期的AlN作为缓冲层,随后外延生长AlN薄膜。X射线衍射结果表明AlN外延层中的位错密度大大降低。通过透射电镜观察位错在样品中的形貌,发现在缓冲层和外延层之间存在明显的界面。界面... 详细信息
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Mn掺杂GaN基稀磁半导体材料制备和特性研究
Mn掺杂GaN基稀磁半导体材料制备和特性研究
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第十五届全国化合物半导体材料、微波器件光电器件学术会议
作者: 谢自力 宋黎红 崔影超 韩平 施毅 郑有炓 张荣 崔旭高 陶志阔 修向前 刘斌 李弋 傅德颐 张曾 南京大学物理系 江苏省光电功能材料重点实验室南京 210093
稀磁半导体由于具有电子自旋输运和存储特性而倍受瞩目。近年来,稀磁半导体的III-V族氮化研究取得了很大的进展。本文利用金属有机化学气相沉积法在蓝宝石衬底上生长了Mn掺杂GaN基稀磁半导体材料。原子力显微镜研究表明。少量的锰... 详细信息
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MOCVD生长Mn掺杂GaN薄膜的结构与磁学性能研究
MOCVD生长Mn掺杂GaN薄膜的结构与磁学性能研究
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第十五届全国化合物半导体材料、微波器件光电器件学术会议
作者: 崔旭高 张荣 陶志阔 李鑫 修向前 谢自力 郑有炓 江苏省光电信息功能材料重点实验室 南京大学物理系南京 210093
我们用MOCVD技术在(0001)取向的蓝宝石衬地上生长出Mn掺杂的GaN薄膜。测试结果表明,Mn掺杂浓度小于2.7%时没有第二相质出现。Raman谱结果表明,由于Mn离子的介入,替换了Ga位的阳离子,从而使得A1(LO)模的振动峰向低频方向移动。ESR结... 详细信息
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功率PHEMT器件大信号建模
功率PHEMT器件大信号建模
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第十五届全国化合物半导体材料,微波器件光电器件学术会议
作者: 刘军 孙玲玲 吴颜明 杭州电子科技大学射频电路与系统教育部重点实验室
提出一种新的、可同时适用于GaAs、GaN基PHEM/HEM/HFE器件大/小信号等效电路模型。沟道电流模型方程连续、可导,可精确拟合实际器件正、反向区、截止区以及亚阈值区特性,且漏导精确,主结构跨导至少可精确拟合至3阶。电荷方程在实现连续... 详细信息
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S波段SiC MESFET微波功率MMIC
S波段SiC MESFET微波功率MMIC
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第十五届全国化合物半导体材料、微波器件光电器件学术会议
作者: 柏松 蒋幼泉 陈辰 陈刚 冯忠 钱峰 陈征 吴鹏 任春江 李哲洋 郑惟彬 单片集成电路与模块国家级重点实验室 南京电子器件研究所南京 210016
利用本实验室生长的半绝缘衬底上的4H-SiC外延材料开展了SiC MESFET和删TC的工艺技术研究。在实现SiC衬底减薄和通孔技术的基础上,采用微带技术以及全套的无源器件,设计并研制了国内第一片SiC微波功率MMIC。研制的SiC MMIC工作频段为S波... 详细信息
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GaN基垂直腔面发射激光器的研制及特性分析
GaN基垂直腔面发射激光器的研制及特性分析
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第十五届全国化合物半导体材料、微波器件光电器件学术会议
作者: 张江勇 蔡丽娥 张保平 尚景智 余金中 王启明 中国科学院半导体研究所集成光电子学国家联合重点实验室 北京 100083 厦门大学物理系/半导体光子学研究中心福建厦门 361005 厦门大学物理系/半导体光子学研究中心 福建厦门 361005
以高反射率的SiO2/Ta2O5介质膜DBR作为反射镜,并利用激光剥离技术,制备了GaN基垂直腔面发射激光器(VCSEL)。在光泵条件下,实现了低阈值蓝光激射,阈值能量密度为6.5mJ/cm2,激射波长为449.5 nm,半商宽小于0.1 nm。重要性能指标达到了国际... 详细信息
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AlGaN/GaN异质结场效应晶体管夹断电压与阈值电压的关系
AlGaN/GaN异质结场效应晶体管夹断电压与阈值电压的关系
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第十五届全国化合物半导体材料、微波器件光电器件学术会议
作者: 吕元杰 林兆军 赵建芝 张宇 王占国 山东大学物理学院 济南 250100 中国科学院半导体研究所半导体材料科学重点实验室 北京 100083
本文我们首先通过AlGaN/GaN HFET栅源间的C-V曲线求出沟道的二维电子气浓度,然后利用C-V曲线的积分曲线求出阈值电压,进而通过薛定谔方程和泊松方程的自洽求解验证了当栅肖特基栅金属所加偏压为开启电压时,费米能级EF与异质界面处GaN导... 详细信息
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宽光谱范围高响应度的InGaAs/InP光电探测器
宽光谱范围高响应度的InGaAs/InP光电探测器
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第十五届全国化合物半导体材料,微波器件光电器件学术会议
作者: 归强 裴为华 陈弘达 中国科学院半导体研究所集成光电子学国家重点实验室
报道了一种在0.6~1.65μm波段使用的InGaAs/InP光电探测器。该探测器使用的是外延在InP衬底上的InGaAs材料,探测器结构采用PIN结构通过选择性扩散的方法制作,通过调整掩模尺寸和控制扩散条件,可以制备出具有不同光敏面尺寸及光电特性... 详细信息
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优化场板GaN HEMT沟道电子温度分布抑制电流崩塌
优化场板GaN HEMT沟道电子温度分布抑制电流崩塌
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第十五届全国化合物半导体材料,微波器件光电器件学术会议
作者: 杜江锋 罗大为 罗谦 卢盛辉 于奇 杨谟华 电子科技大学微电子与固体电子学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室
基于带场板GaN HEMT器件理模型和电流崩塌效应机理,通过仿真优化场板结构参数调制沟道中二维电子气温度分布,以达到抑制器件电流崩塌目的。研究表明,优化场板长度及绝缘层厚度能有效降低沟道电子峰值温度。对于外加源漏电压为100V,栅... 详细信息
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