本文对用MOCVD(Metalorganic Chemical Vapor Deposition)技术生长在GaN/Saphire衬底上的InN薄膜进行Hall、吸收谱以及光致发光(PL:Photoluminescence)谱的测量,并对PL线型进行分析,得到InN的带隙大致在0.7eV左右.发现吸收边以及PL谱的...
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本文对用MOCVD(Metalorganic Chemical Vapor Deposition)技术生长在GaN/Saphire衬底上的InN薄膜进行Hall、吸收谱以及光致发光(PL:Photoluminescence)谱的测量,并对PL线型进行分析,得到InN的带隙大致在0.7eV左右.发现吸收边以及PL谱的峰值能量都随载流子浓度的增加而蓝移.
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