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具有阶梯刻蚀斜面终端的逆阻型碳化硅门极可关断晶闸管
具有阶梯刻蚀斜面终端的逆阻型碳化硅门极可关断晶闸管
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第一届全国集成微系统科学技术及其建模与仿真学术交流会暨科学挑战专题强约束集成微系统领域十三五中期进展学术交流会
作者: 周坤 张林 李良辉 徐星亮 李志 李俊焘 微系统与太赫兹研究中心 中国工程物理研究院 微系统与太赫兹研究中心 中国工程物理研究院 电子工程研究所 中国工程物理研究院
碳化硅(SiC)功率器件在电力电子应用以及脉冲功率应用中有很大吸引力。作为双极性器件,门极可关断晶闸管(GTO)因其高压大电流特性而备受青睐。逆向阻断(RB)SiC GTO因其双向阻断能力而在交流交流电力变换以及脉冲功率应用中具有吸引力。
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电子效应对辐照条件下晶体硅中点缺陷的形成与演化的影响
电子效应对辐照条件下晶体硅中点缺陷的形成与演化的影响
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第一届全国集成微系统科学技术及其建模与仿真学术交流会暨科学挑战专题强约束集成微系统领域十三五中期进展学术交流会
作者: 黄兵 崔彬 魏苏淮 北京计算科学研究中心 山东大学物理系 北京计算科学研究中心
半导体材料的电子学性质与材料中的缺陷状态关系密切,粒子辐照会引起材料内部的缺陷状态发生剧变,从而导致材料电学性能剧变。本文采用经典分子动力学方法,模拟辐照产生初级位移原子后300fs时间内,点缺陷的形成与演化过程。
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基于纳米图形化衬底的高质量AlN厚膜MOCVD外延生长研究
基于纳米图形化衬底的高质量AlN厚膜MOCVD外延生长研究
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第一届全国集成微系统科学技术及其建模与仿真学术交流会暨科学挑战专题强约束集成微系统领域十三五中期进展学术交流会
作者: 陈长清 王帅 龙瀚凌 张毅 陈谦 戴江南 华中科技大学武汉光电国家研究中心 武汉430074
紫外光源在杀菌消毒、水净化、生化探测、紫外固化等方面都有着巨大应用前景。目前,紫外光源主要来自汞灯。汞是种剧毒物质。此外,汞灯紫外光源设备体积大、功耗高、电压高等缺点不利于其在日常生活及特殊环境下的应用。
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三维封装的等效热参数提取技术
三维封装的等效热参数提取技术
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第一届全国集成微系统科学技术及其建模与仿真学术交流会暨科学挑战专题强约束集成微系统领域十三五中期进展学术交流会
作者: 唐旻 姜鑫 上海交通大学电子工程系
三维系统级封装技术是下集成电路封装设计最有发展潜力的实现方案。由于三维封装结构的高度复杂性以及多尺度问题,若对所有细节进行建模,将会消耗巨大的计算资源,导致分析效率非常低下。本文将封装中的硅通孔层以及凸点层等复杂... 详细信息
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载流子寿命对脉冲功率应用碳化硅功率器件的影响
载流子寿命对脉冲功率应用碳化硅功率器件的影响
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第一届全国集成微系统科学技术及其建模与仿真学术交流会暨科学挑战专题强约束集成微系统领域十三五中期进展学术交流会
作者: 周坤 崔潆心 张林 徐星亮 李志 李俊焘 微系统与太赫兹研究中心 中国工程物理研究院 微系统与太赫兹研究中心 中国工程物理研究院 电子工程研究所 中国工程物理研究院
碳化硅功率器件在电力电子应用以及脉冲功率应用中有很大吸引力。作为双极性器件,SiC GTO和PiN器件因其高压大电流特性而备受青睐。载流子寿命对于器件导通时的电导调制效果至关重要。
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基于FPGA的真空光镊反馈控制
基于FPGA的真空光镊反馈控制
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第一届全国集成微系统科学技术及其建模与仿真学术交流会暨科学挑战专题强约束集成微系统领域十三五中期进展学术交流会
作者: 郑瑜 孙方稳 中国科学技术大学中科院量子信息重点实验
在真空光镊系统中,通过位置测量信号反馈调制捕获光光从而控制被捕获粒子运动状态是种常用的光镊技术。传统上通过模拟电路与锁相放大器等方式实现的反馈控制技术,实时性较差且难以部署复杂控制方案。本文介绍了在真空光镊系统中... 详细信息
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T形栅用30~100nm超短沟道的自对准工艺实现
T形栅用30~100nm超短沟道的自对准工艺实现
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第一届全国集成微系统科学技术及其建模与仿真学术交流会暨科学挑战专题强约束集成微系统领域十三五中期进展学术交流会
作者: 张世勇 徐建星 郑鹏辉 程哲 张韵 童小东 中国工程物理研究院微系统与太赫兹研究中心 中国科学院半导体研究所
超短沟道T型栅是太赫兹GaN HEMT器件的项关键工艺,栅足的长度是决定器件工作频率的关键参数。传统的电子束工艺能够实现栅长为100-250nm的沟道,自对准工艺不受电子束光刻线宽的限制,能够制备100nm以下的超短沟道,是提高GaN基HEMT... 详细信息
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GaN激光器AlGaN/GaN/AlGaN复合电子阻挡层的优化设计
GaN激光器AlGaN/GaN/AlGaN复合电子阻挡层的优化设计
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第一届全国集成微系统科学技术及其建模与仿真学术交流会暨科学挑战专题强约束集成微系统领域十三五中期进展学术交流会
作者: 王文杰 杨浩军 邓泽佳 谢武泽 中国工程物理研究院微系统与太赫兹研究中心 成都610200 中国工程物理研究院电子工程研究所 绵阳621999
GaN激光器在大注入电流工作时,大量的电流会从有源区溢出,大大降低发光效率,同时产生的热量会严重影响激光器的寿命。采用新型的AlGaN/GaN/AlGaN复合电子阻挡层替代常规AlGaN电子阻挡层(EBL),能够更有效抑制电子从有源区泄露,提升... 详细信息
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高频GaN HEMT器件研究
高频GaN HEMT器件研究
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第一届全国集成微系统科学技术及其建模与仿真学术交流会暨科学挑战专题强约束集成微系统领域十三五中期进展学术交流会
作者: 童小东 张世勇 徐建星 郑鹏辉 王蓉 王丁 杨流云 王新 谭为 中国工程物理研究院电子工程研究所&微系统与太赫兹研究中心 北京大学
氮化镓(GaN)单晶材料是种宽禁带半导体材料,具有高击穿电压、高电子迁移率、高电子饱和速度及高热导率的特性。得益于优异的材料特性,基于GaN基异质结结构的高电子迁移率晶体管(GaN HEMT)在高功率、高频、及高效率等方面具有巨大优势。
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基于ADI方法的三维封装系统快速热仿真技术
基于ADI方法的三维封装系统快速热仿真技术
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第一届全国集成微系统科学技术及其建模与仿真学术交流会暨科学挑战专题强约束集成微系统领域十三五中期进展学术交流会
作者: 唐旻 姜鑫 上海交通大学电子工程系
三维封装结构的高度复杂性以及多尺度问题使得传统热仿真方法效率低下,无法实现对复杂三维封装结构的快速热仿真。面对上述需求,提出了种基于交替方向隐式(ADI)差分方法的快速仿真技术,并采用并行循环约化(PCR)方法对其进行GPU加... 详细信息
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