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同步辐射x射线研究氧化Au/Ni/p-GaN欧姆接触的形成机制
同步辐射x射线研究氧化Au/Ni/p-GaN欧姆接触的形成机制
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第十三届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议暨第九届全国固体薄膜学术会议
作者： 胡成余 秦志新 陈志忠 杨华 王琦 杨志坚 陈伟华 张国义 人工微结构和介观物理国家重点实验室 宽禁带半导体研究中心物理学院北京大学(北京)
利用同步辐射X射线衍射(XRD),同时运用2è扫描,ù扫描和ù-2è扫描这三种扫描方式研究了p-GaN上的Ni/Au电极在空气下不同温度合金后的微结构的演化,阐释了相应的欧姆接触形成的机制.结合不同温度下比接触电阻(Pc)的变化... 详细信息
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锌源温度对MOCVD法氧化锌薄膜生长的影响
锌源温度对MOCVD法氧化锌薄膜生长的影响
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第十三届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议暨第九届全国固体薄膜学术会议
作者： 刘博阳 杜国同 杨小天 赵佰军 张源涛 刘大力 杨树人 吉林大学电子科学与工程学院集成光电子国家联合重点实验室(吉林长春) 吉林大学物理学院相干光、原子与分子光谱教育部重点实验室(吉林长春) 吉林大学电子科学与工程学院集成光电子国家联合重点实验室(吉林长春)
本文研究了金属有机化学气相沉积(MOCVD)法生长氧化锌薄膜过程中锌源温度对薄膜生长和质量的影响.使用X射线衍射谱(XRD)、室温光荧光谱(PL)和原子力显微镜(AFM)对所生长氧化锌薄膜的晶体质量、光学特性和表面形貌进行了比较与研究.研究... 详细信息
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磁控溅射方法制备(CoCr/Pt)<,20>纳米多层膜及表征
磁控溅射方法制备(CoCr/Pt)<,20>纳米多层膜及表征
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第十三届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议暨第九届全国固体薄膜学术会议
作者： 黄阀 李宝河 杨涛 翟中海 朱逢吾 北京科技大学材料物理与化学系(北京) 金日成综合大学物理系(朝鲜民主主义人民共和国平壤) 北京科技大学材料物理与化学系(北京) 北京工商大学数理部(北京) 北京科技大学材料物理与化学系(北京)
采用磁控溅射方法制备了性能优良的以Pt为缓冲层的(CoCr/Pt)纳米多层膜,研究了溅射气压对(CoCr/Pt)纳米多层膜的微结构和磁性的影响.所有样品溅射时玻璃基片温度保持在220℃,Ar溅射气压从0.4Pa到1.6Pa.研究结果表明,Ar溅射气压对(CoCr/... 详细信息
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