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稀磁半导体TiMnO2(Mn:TiO2)分子束外延生长和磁学性质
稀磁半导体TiMnO2(Mn:TiO2)分子束外延生长和磁学性质
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第十五届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议
作者: 李树玮 李新宇 吴曙翔 许灵敏 刘雅晶 邢祥军 中山大学光电材料与技术国家重点实验室 广州 510275
本文用分子束外延生长的Mn掺杂的宽带半导体TiO2薄膜研究了结晶质量与磁性质的关系。以慢速率生长的外延薄膜具有好的晶体结构,而以快速率生长的外延薄膜具有很多空位。X射线光电子能谱显示Mn2+离了与缺陷之间存在相互作用。与具有缺陷... 详细信息
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天线的几何结构对低温GaAs光电导THz发射的影响
天线的几何结构对低温GaAs光电导THz发射的影响
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第十五届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议
作者: 崔利杰 曾一平 王保强 朱战平 石小溪 黄振 李淼 赵国忠 中国科学院半导体研究所材料中心 北京 100083 中国科学院半导体研究所材料中心 北京10008 首都师范大学物理系 北京 100087
本文研究了用飞秒激光激发低温生长的砷化镓(LT-GaAs)大孔径光电导天线产生太赫兹(THz)波的辐射特性。通过设计七种大孔径天线结构,来研究天线的几何结构对THz发射性能的影响。实验发现七种天线的有效频谱宽度都达到了3THz,而且七种不... 详细信息
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垂直结构GaN基LEDs热压键合应力损伤分析
垂直结构GaN基LEDs热压键合应力损伤分析
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第十五届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议
作者: 刘志强 王良臣 樊晶美 郭恩卿 王国宏 李晋闽 中科院半导体所照明研发中心 北京 100083
热压键合是垂直结构LED制备的关键工艺步骤,本文通过TEM、PL、Raman等测试手段,探讨热压键合造成的应力损伤、GaN材料缺陷、LED内量子效率以及反向漏电间的内在联系,研究以键合引起的应力诱导垂直结构GaN基LED光电特性的退化机制,探讨... 详细信息
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F16CuPc掺杂NPB空穴注入层对有机电致发光器件的改善
F16CuPc掺杂NPB空穴注入层对有机电致发光器件的改善
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第十五届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议
作者: 关敏 曹国华 李林森 曾一平 中国科学院半导体研究所材料中心 北京 100083
实验中制备了一种F16CuPc掺杂NPB薄膜,它作为宅穴注入层相校于单纯的NPB薄膜对有机电致发光器件性能有所改善。例如,在2000 cd/m2下,第一个器件的效率是2.7cd/A,高于单独使用NPB薄膜的器件得到的1.6cd/A。另外,复合薄膜的热稳定性强于... 详细信息
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GaN基雪崩二极管的蒙特卡罗模拟
GaN基雪崩二极管的蒙特卡罗模拟
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第十五届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议
作者: 郑致远 王钢 中山大学光电材料与技术国家重点实验室 广州 510275
由于宽禁带、高增益所带来的优越光电性能,GaN基材料雪崩二极管(APD)在近年得到广泛的关注,成为紫外探测的重要工具。本文使用蒙特卡罗方法对GaN基雪崩二极管器件进行理论模拟,通过二维模型我们通过模拟得到了载流子漂移速度、平均能量... 详细信息
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一种检验GaN基外延材料质量的简易方法
一种检验GaN基外延材料质量的简易方法
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第十五届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议
作者: 李诚瞻 魏珂 郑英奎 刘果果 庞磊 刘新宇 中国科学院微电子研究所 北京 100029
研究GaN基外延材料对AlGaN/GaNHEMT电流崩塌效应影响,基于背对背肖特基I-V特性的对称性与AlGaN/GaNHEMT电流崩塌效应的对应关系,提出一种检验GaN基外延材料的简便方法。实验观察到,背对背肖特基结I-V特性对称性好的外延材料,所对应的AlG... 详细信息
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通孔结构Si衬底AlGaN/GaN HFET的热特性模拟
通孔结构Si衬底AlGaN/GaN HFET的热特性模拟
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第十五届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议
作者: 文于华 范冰丰 骆思伟 王钢 刘扬 中山大学光电材料与技术国家重点实验室 广州 510275
使用有限元软件ANSYS,对通孔结构Si衬底AlGaN,GaN HFET进行了热特性模拟。首先,根据器件结构建立了以栅极为热源的分析模型。然后,通过改变衬底材料、衬底厚度、栅间距、以及通孔深度,分别研究了两栅指结构HFET的峰值温度和热阻。最后,... 详细信息
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AlXGa1-XN/GaN异质结构中二维电子气的自旋光电流效应
AlXGa1-XN/GaN异质结构中二维电子气的自旋光电流效应
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第十五届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议
作者: 贺小伟 沈波 陈涌海 尹春明 张琦 许福军 北京大学物理学院 人工微结构和介观物理国家重点实验室北京 100871 中国科学院半导体研究所材料物理开放实验室 北京 100083
GaN基宽禁带半导体作为第三代半导体材料是目前国际半导体科学与技术研究的前沿,在自旋电子学领域的研究也正受到越来越多的重视。本文利用自旋光电流效应(CPGE)对AlxGa1-xN/GaN异质结构中二维电子气(2DEG)的自旋性质进行了研究,主要包... 详细信息
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InP基共振遂穿二极管(RTD)研究
InP基共振遂穿二极管(RTD)研究
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第十五届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议
作者: 韩春林 薛舫时 高建峰 陈辰 单片集成电路和模块国家级重点实验室 南京电子器件研究所 南京 210016
我们在实验中对InGaAs/AlAs/InP共振遂穿二极管(RTD)材料结构进行了优化设计,并用MBE设备在(100)半绝缘InP单晶片上生长了RTD外延材料。我们采用电子束光刻工艺和空气桥互连技术,制作了InP基RTD器件。并在室温下测试了器件的电学特性:... 详细信息
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离子注入AlN单晶的荧光谱分析
离子注入AlN单晶的荧光谱分析
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第十五届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议
作者: 李巍巍 赵有文 董志远 杨俊 胡炜杰 中国科学院半导体研究所 北京912信箱100083
对自成核生长的(0001)AlN单晶进行了高浓度Si、Zn离子注入掺杂。利用阴极荧光(CL)和光荧光(PL)谱分析了单晶的缺陷和发光特性。PL结果显示离子注入后AlN的带边发光峰变为位于200nm~254nm之间的宽峰,高温退火后注入产生的损伤缺陷消失,... 详细信息
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