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机构

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作者

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高化学活性大气压低温等离子体射流及其在表面有机物脱除中的应用
高化学活性大气压低温等离子体射流及其在表面有机物脱除中的应用
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第十四届全国等离子体科学技术会议暨第五届中国电推进技术学术研讨会
作者： 任春生 王德真 钱牧扬 大连理工大学物理与光电工程学院
不同于低气压放电等离子体,大气压放电因为不需要真空设备而可以实现连续的在线操作,制造与运行成本都大大降低,所以具有广泛的应用前景。但要真正实现不需要真空设备,大气压放电就必须运行在大气环境中,而在空气中实现稳定的辉光放电... 详细信息
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等离子体中热阴极发射情况下的鞘层结构问题
等离子体中热阴极发射情况下的鞘层结构问题
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第十四届全国等离子体科学技术会议暨第五届中国电推进技术学术研讨会
作者： 马锦秀 王道泳 李毅人 瞿涛 张文贵 郑尧邦 中国科学技术大学近代物理系 中科院基础等离子体物理重点实验室
热阴极发射常常用来产生稳态等离子体源以及用作发射探针诊断等离子体参数等,热发射电子要经过鞘层进入等离子体,但是等离子体中热阴极附近的鞘层结构问题没有完善的模型,以至于发射探针Ⅰ-Ⅴ曲线没有较好的理论模型,使得实验诊断等离... 详细信息
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HT-7超导托卡马克上X射线能谱测量系统
HT-7超导托卡马克上X射线能谱测量系统
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第十四届全国等离子体科学技术会议暨第五届中国电推进技术学术研讨会
作者： 林士耀 许平 卢洪伟 张继宗 杜晓第 钟国强 毛松涛 段艳敏 胡立群 万宝年 中科院等离子体物理研究所
X射线能谱测量作为一种成熟的X射线分析手段,在核聚变领域也得到了广泛的使用。在超导托卡马克上,X射线能谱测量被用来分析软X射线、低能硬X射线、高能硬X射线等不同能量范围的X射线信号,这些不同能段的X射线能谱被用来做各种的物理分析... 详细信息
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二维双频容性耦合硅烷放电模拟
二维双频容性耦合硅烷放电模拟
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第十四届全国等离子体科学技术会议暨第五届中国电推进技术学术研讨会
作者： 刘相梅 宋远红 王友年 大连理工大学物理与光电工程学院
在等离子体加工过程中产生的尘埃微粒对用于材料处理的气体放电有重要影响,一方面在沉积和刻蚀过程中这些微粒会落到基片上,造成不合格的产品。这已成为当今半导体生产中基片污染的重要原因,许多工作致力于了解尘埃微粒的形成机理、条... 详细信息
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HL-2A真空紫外光谱测量及杂质研究
HL-2A真空紫外光谱测量及杂质研究
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第十四届全国等离子体科学技术会议暨第五届中国电推进技术学术研讨会
作者： 崔正英 孙平 高亚东 董春凤 付柄忠 陈伟 李伟 丁玄同 杨青巍 核工业西南物理研究院
等离子体中的杂质主要来源于等离子体与第一壁的相互作用,杂质的产生不单要污染等离子体,更会引起器壁的损坏。杂质的存在会严重影响等离子体品质、等离子体压强和电流分布、以及密度的控制等,因此等离子体中杂质输运及其控制的实验研... 详细信息
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分子束质谱研究托卡马克边缘等离子体杂质形成
分子束质谱研究托卡马克边缘等离子体杂质形成
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第十四届全国等离子体科学技术会议暨第五届中国电推进技术学术研讨会
作者： 肖青梅 刘佳宏 李聪 王德真 丁洪斌 大连理工大学物理与光电工程学院 大连民族学院应用数学与物理系
磁约束等离子体聚变反应堆中,器壁或面向等离子体的材料放出的各种粒子(包括所吸附的工作气体、杂质气体及组成材料本身的元素物质),进入等离子体后对等离子体约束特性造成不良影响。另一方面,等离子体与材料相互作用会造成壁材料的损伤... 详细信息
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等离子体化学工艺:机遇与挑战
等离子体化学工艺:机遇与挑战
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第十四届全国等离子体科学技术会议暨第五届中国电推进技术学术研讨会
作者： 刘昌俊 天津大学化工学院
作为国民经济支柱产业之一的化学工业,在当前能源、资源与环境严峻形势下,正面临充满发展机遇和挑战的局面。传统的化工生产或将发生重大变化。各种高新技术的采用,正在改变化工厂的概念,未来的化工厂或将变得更加紧凑,更安全、节能和... 详细信息
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超强激光与凹形靶相互作用产生准直质子束的研究
超强激光与凹形靶相互作用产生准直质子束的研究
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第十四届全国等离子体科学技术会议暨第五届中国电推进技术学术研讨会
作者： 杨晓虎 马燕云 徐涵 邵福球 银燕 国防科学技术大学理学院物理系 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 国防科学技术大学计算机学院并行与分布计算国家实验室
超短超强激光与固体靶相互作用产生的高能质子束在医疗、可控核聚变及高能物理等领域均有重要的应用价值,然而这种质子源往往能谱较宽,发散角较大,因此,减小并控制其能能散度和发散角对实际应用十分重要。
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可调亲、疏水性的SiOx薄膜等离子体制备
可调亲、疏水性的SiOx薄膜等离子体制备
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第十四届全国等离子体科学技术会议暨第五届中国电推进技术学术研讨会
作者： 周振 陈强 刘福平 任兆杏 北京印刷学院印刷包装材料与技术北京市重点实验室 合肥研飞电器科技有限公司
氧化硅薄膜是一种应用广泛的功能材料。本文以六甲基二硅氧烷为单体,在大气压下,采用冷等离子弧制备了SiO薄膜同时研究了其亲、疏水性。通过傅立埃红外光谱（FTIR）对SiO薄膜进行了结构分析研究;通过原子力显微镜（AFM）和数字显微镜分... 详细信息
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热等离子体制备过渡金属掺杂的氧化锌纳米棒
热等离子体制备过渡金属掺杂的氧化锌纳米棒
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第十四届全国等离子体科学技术会议暨第五届中国电推进技术学术研讨会
作者： 胡鹏 袁方利 李晋林 陈运法 多相复杂系统国家重点实验室 中国科学院过程工程研究所
氧化锌作为一种宽禁带(3.37 eV)、高激子结合能(60 meV)的Ⅱ—Ⅵ半导体材料,具有过渡金属原子掺杂程度大,室温下具有大的激子束缚能等特点,掺杂后不但可以提高本身固有的一些性能,还可以扩大其应用领域,有望成为新一代信息处理和储存、... 详细信息
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