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  • 2 篇 asml荷兰有限公司

作者

  • 2 篇 埃尔伯塔斯·亚得里...
  • 2 篇 埃瑞克·罗埃劳夫·...
  • 2 篇 恩格尔伯塔斯·安东...
  • 2 篇 威尔赫尔姆斯·约瑟...
  • 2 篇 皮特·保罗·斯汀贾...
  • 2 篇 艾米爱尔·尤泽夫·...
  • 2 篇 鲁德·安东尼尔斯·...

语言

  • 2 篇 中文
检索条件"作者=埃尔伯塔斯·亚得里亚内斯·史密特斯"
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具有编码器型位置传感器系统的光刻设备
具有编码器型位置传感器系统的光刻设备
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作者: ·保罗·汀贾尔 威尔赫尔姆·约瑟夫·鲍克 艾米爱尔·尤泽夫·梅勒妮·尤森 埃瑞克·罗埃劳夫·鲁普 恩格尔·安东尼尔·弗朗西·范德帕 鲁德·安东尼尔·卡萨丽娜·玛丽亚·比伦 埃尔伯塔斯·亚得里亚内斯·史密特斯 荷兰维德霍温
本发明公开了一种光刻设备,所述光刻设备包括编码器型传感器系 统,所述编码器型传感器系统配置用于测量光刻设备的衬底台相对于参考 结构的位置。所述编码器型传感器系统包括编码器传感器头和编码器传感 器目标,而所述光刻设备包括用于...
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具有编码器型位置传感器系统的光刻设备
具有编码器型位置传感器系统的光刻设备
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作者: ·保罗·汀贾尔 威尔赫尔姆·约瑟夫·鲍克 艾米爱尔·尤泽夫·梅勒妮·尤森 埃瑞克·罗埃劳夫·鲁普 恩格尔·安东尼尔·弗朗西·范德帕 鲁德·安东尼尔·卡萨丽娜·玛丽亚·比伦 埃尔伯塔斯·亚得里亚内斯·史密特斯 荷兰维德霍温
本发明公开了一种光刻设备,所述光刻设备包括编码器型传感器系统,所述编码器型传感器系统配置用于测量光刻设备的衬底台相对于参考结构的位置。所述编码器型传感器系统包括编码器传感器头和编码器传感器目标,而所述光刻设备包括用于... 详细信息
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