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检索条件"作者=杨林安"
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等离子增强化学气相淀积硅化钛薄膜的特性
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无机材料学报 1994年 第2期9卷 204-208页
作者: 严北平 周南生 于宗光 杨林安 西安电子科技大学
本文以四氯化钛(TiCl4)和硅烷(SiH4)为源物质,采用等离子增强化学气相淀积(PECVD)工艺结合常规热退火制备了优良的TiSi2薄膜.研究了淀积和退火条件对薄膜性质的影响.用四探针检测了退火前后薄膜的薄层电阻... 详细信息
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SiC功率金属-半导体场效应管的陷阱效应模型
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物理学报 2003年 第2期52卷 302-306页
作者: 杨林安 张义门 于春利 张玉明 西安电子科技大学微电子研究所 西安710071
针对 4H SiC射频大功率MESFET ,建立了一个解析的陷阱效应模型 ,该模型采用简化参数描述方法 ,并结合自热效应分析 ,从理论上完善了SiCMESFET大信号直流I V特性的解析模型 ,且避免了数值方法模拟陷阱效应的巨大计算量 .
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4H碳化硅射频功率金属半导体场效应晶体管的模型及工艺研究
4H碳化硅射频功率金属半导体场效应晶体管的模型及工艺研究
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作者: 杨林安 西安电子科技大学
学位级别:博士
碳化硅(SiC)是近十几年来迅速发展起来的宽禁带半导体材料之一。与广泛应用于微波领域的半导体材料GaAs相比,SiC材料具有宽禁带、高击穿电场、高载流子饱和漂移速率、高热导率、高功率密度等等许多优点,随着SiC材料制造工艺的不断... 详细信息
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广东省土地利用变化及其生态环境效应研究
广东省土地利用变化及其生态环境效应研究
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作者: 杨林安 中国科学院研究生院
学位级别:博士
土地利用/土地覆盖变化(LUCC)是全球环境变化的热点问题,其中土地利用的动态变化、驱动力与生态环境效应问题引起了全世界的广泛关注。本文选取广东省作为研究区域,以1996-2008年土地利用调查变更数据、广东统计年鉴、广东国土资源年... 详细信息
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旅行社品牌价值研究——基于游客和旅游供应商的角度
旅行社品牌价值研究——基于游客和旅游供应商的角度
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作者: 杨林安 湖南师范大学
学位级别:硕士
品牌价值是一种超越企业实体和产品以外的价值,对旅行社来说更是一种潜在的利润和收益。但目前我国对旅行社品牌价值意识的觉醒较晚,对旅行社品牌价值的研究也只是处于摸索阶段,品牌价值的管理和提升方面与市场的要求、游客的期待都... 详细信息
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旅游社品牌价值研究 ——基于游客和旅游供应商的角度
旅游社品牌价值研究 ——基于游客和旅游供应商的角度
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作者: 杨林安 湖南师范大学
学位级别:硕士
品牌价值是一种超越企业实体和产品以外的价值,对旅行社来说更是一种潜在的利润和收益。但目前我国对旅行社品牌价值意识的觉醒较晚,对旅行社品牌价值的研究也只是处于摸索阶段,品牌价值的管理和提升方面与市场的要求、游客的期待都相... 详细信息
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PECVD硅化钛薄膜性质和应用的研究
PECVD硅化钛薄膜性质和应用的研究
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作者: 杨林安 西安电子科技大学
学位级别:硕士
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A Novel Technique of Parameter Extraction for Short Channel Length LDD MOSFETs
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Journal of Semiconductors 2004年 第10期25卷 1215-1220页
作者: 于春利 郝跃 杨林安 西安电子科技大学微电子研究所 西安710071
A novel parameter extraction technique suitable f or short channel length lightly-doped-drain (LDD) MOSFET's is proposed which seg ments the total gate bias range,and executes the linear regression in every subs ... 详细信息
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A Novel Empirical Model of I-V Characteristics for LDD MOSFET Including Substrate Current 
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Journal of Semiconductors 2004年 第7期25卷 778-783页
作者: 于春利 郝跃 杨林安 西安电子科技大学微电子研究所 西安710071
A compact model for LDD MOSFET is proposed,which involves the hyperbolic tangent function description and the physics of device with emphasis on the substrate current *** simulation results demonstrate good agreement... 详细信息
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PECVD法淀积TiSi_2薄膜性质及应用研究
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固体电子学研究与进展 1990年 第3期10卷 313-316页
作者: 杨林安 周南生 严北平 西安电子科技大学
利用平板电容耦合式PECVD设备淀积TiSi_2薄膜,经800℃,30分钟的扩散炉退火,TiSi_x形成稳定的TiSi_2.用俄歇电子能谱和X射线衍射来监测硅化物的形成.用扫描电子显微镜观察了TiSi_2薄膜的等离子刻蚀情况.分别采用I—V法和C—V法测量了TiSi... 详细信息
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