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文献类型

  • 6 篇 专利

馆藏范围

  • 6 篇 电子文献
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日期分布

机构

  • 3 篇 上海华力集成电路...
  • 2 篇 合肥晶合集成电路...
  • 1 篇 台湾积体电路制造...

作者

  • 6 篇 罗丁硕
  • 2 篇 胡展源
  • 1 篇 郑威昌
  • 1 篇 杨然富
  • 1 篇 廖启宏
  • 1 篇 蔡孟霖
  • 1 篇 王耀增
  • 1 篇 李永尧
  • 1 篇 赵弘文
  • 1 篇 陈炳旭

语言

  • 6 篇 中文
检索条件"作者=罗丁硕"
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光刻掩膜版中曝光图形的确定方法、系统及制作方法
光刻掩膜版中曝光图形的确定方法、系统及制作方法
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作者： 罗丁硕 230012 安徽省合肥市新站区合肥综合保税区内西淝河路88号
本发明公开了一种光刻掩膜版中曝光图形的确定方法、系统及制作方法。该方法包括：获取第一光刻掩膜版中第一图形区域的第一位置信息，第一图形区域包括多个第一曝光图形，用于在第一材料层上形成第一对位标记；获取第二图形区域在第二... 详细信息
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光刻掩膜版中曝光图形的确定方法、系统及制作方法
光刻掩膜版中曝光图形的确定方法、系统及制作方法
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作者： 罗丁硕 230012 安徽省合肥市新站区合肥综合保税区内西淝河路88号
本发明公开了一种光刻掩膜版中曝光图形的确定方法、系统及制作方法。该方法包括：获取第一光刻掩膜版中第一图形区域的第一位置信息，第一图形区域包括多个第一曝光图形，用于在第一材料层上形成第一对位标记；获取第二图形区域在第二... 详细信息
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洗晶边工艺方法
洗晶边工艺方法
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作者： 罗丁硕 胡展源 201315 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区康桥东路298号1幢1060室
本发明公开了一种洗晶边工艺方法，包括步骤：步骤一、在光刻胶涂布装置上对晶圆的正面进行光刻胶涂布；步骤二、从正面碰嘴喷射溶剂到晶圆的正面边缘并对晶圆进行旋转实现对晶边的光刻胶进行去除；调节晶圆转速且在保证对所述晶边的光... 详细信息
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洗晶边工艺方法
洗晶边工艺方法
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作者： 罗丁硕 胡展源 201315 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区康桥东路298号1幢1060室
本发明公开了一种洗晶边工艺方法，包括步骤：步骤一、在光刻胶涂布装置上对晶圆的正面进行光刻胶涂布；步骤二、从正面碰嘴喷射溶剂到晶圆的正面边缘并对晶圆进行旋转实现对晶边的光刻胶进行去除；调节晶圆转速且在保证对所述晶边的光... 详细信息
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光刻胶涂布方法
光刻胶涂布方法
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作者： 王耀增 罗丁硕 杨然富 赵弘文 蔡孟霖 201315 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区康桥东路298号1幢1060室
本发明公开了一种光刻胶涂布方法，包括步骤：步骤一、提供一具有沟槽式结构的衬底；步骤二、将衬底放置在涂胶机台上，根据在衬底上所需要涂布的总光刻胶层的厚度计算出整个光刻胶涂布所需要的光刻胶总喷量；将光刻胶总喷量分解成两次... 详细信息
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排气系统的涡流产生器
排气系统的涡流产生器
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作者： 郑威昌 陈炳旭 廖啟宏 罗丁硕 李永尧 中国台湾新竹市新竹科学工业园区力行六路八号
一种排气系统的涡流产生器。涡流产生器包含装设在排气管内表面的环状轴承。涡流产生器还包含装设在环状轴承上的环状叶片组件。环状叶片组件包含具有上游开口的前导面。分流器还包含具有下游开口的后面，其中上游开口与下游开口是以排... 详细信息
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