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  • 4 篇 意法半导体国际有...
  • 3 篇 台湾积体电路制造...
  • 2 篇 asml荷兰有限公司

作者

  • 4 篇 r·格梅利
  • 4 篇 a·古普塔
  • 4 篇 o·兰简
  • 3 篇 黄泰维
  • 3 篇 雷鸣
  • 3 篇 陈晓葳
  • 3 篇 魏莹璐
  • 3 篇 林生元
  • 2 篇 k·图伊斯
  • 2 篇 i·里埃布雷格茨
  • 2 篇 r·j·g·古森斯
  • 2 篇 n·森

语言

  • 9 篇 中文
检索条件"主题词=不可校正误差"
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包括用于误差校正电路的响应管理器的存储器架构
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作者： O·兰简 R·格梅利 A·古普塔 意大利阿格拉布里安扎
本公开涉及包括用于误差校正电路的响应管理器的存储器架构。存储器包括接收数据分组的误差校正电路系统，输出指示在数据分组中存在或不存在可校正误差的可校正误差标志，并输出指示在数据分组中存在或不存在不可校正误差的不可校正误... 详细信息
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作者： O·兰简 R·格梅利 A·古普塔 意大利阿格拉布里安扎
本公开涉及包括用于误差校正电路的响应管理器的存储器架构。存储器包括接收数据分组的误差校正电路系统，输出指示在数据分组中存在或不存在可校正误差的可校正误差标志，并输出指示在数据分组中存在或不存在不可校正误差的不可校正误... 详细信息
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作者： O·兰简 R·格梅利 A·古普塔 意大利阿格拉布里安扎
本公开涉及包括用于误差校正电路的响应管理器的存储器架构。存储器包括接收数据分组的误差校正电路系统，输出指示在数据分组中存在或不存在可校正误差的可校正误差标志，并输出指示在数据分组中存在或不存在不可校正误差的不可校正误... 详细信息
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用于检查晶片的系统和方法
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作者： I·里埃布雷格茨 N·森 K·图伊斯 R·J·G·古森斯 荷兰维德霍温
本文公开了一种用于涉及将图案加工到衬底上的器件制造过程的计算机实施的缺陷预测方法。不可校正误差用于帮助预测可能存在缺陷的位置，从而提高计量生良品率。在一个实施例中，不可校正误差信息涉及由于光刻系统的透镜硬件、成像狭缝... 详细信息
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用于检查晶片的系统和方法
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作者： I·里埃布雷格茨 N·森 K·图伊斯 R·J·G·古森斯 荷兰维德霍温
本文公开了一种用于涉及将图案加工到衬底上的器件制造过程的计算机实施的缺陷预测方法。不可校正误差用于帮助预测可能存在缺陷的位置，从而提高计量生良品率。在一个实施例中，不可校正误差信息涉及由于光刻系统的透镜硬件、成像狭缝... 详细信息
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半导体制程及其制程设备与控制装置
半导体制程及其制程设备与控制装置
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作者： 魏莹璐 雷鸣 林生元 黃泰维 陈晓葳 中国台湾新竹科学工业园区新竹市力行六路八号
本发明提供一种半导体制程及其制程设备与控制装置。其中半导体制程包括：对第一晶圆进行第一制程步骤；在完成所述第一制程步骤后，依据所述第一晶圆的实际表面形貌信息获取第一不可校正误差信息；以及，依据所述第一不可校正误差信息... 详细信息
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电路
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作者： O·兰简 R·格梅利 A·古普塔 意大利阿格拉布里安扎
本实用新型的实施例涉及电路。存储器包括接收数据分组的误差校正电路系统，输出指示在数据分组中存在或不存在可校正误差的可校正误差标志，并输出指示在数据分组中存在或不存在不可校正误差的不可校正误差标志。若可校正误差标志指示... 详细信息
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半导体制程及其制程设备与控制装置
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作者： 魏莹璐 雷鸣 林生元 黄泰维 陈晓葳 中国台湾新竹科学工业园区新竹市力行六路八号
本发明提供一种半导体制程及其制程设备与控制装置。其中半导体制程包括：对第一晶圆进行第一制程步骤；在完成所述第一制程步骤后，依据所述第一晶圆的实际表面形貌信息获取第一不可校正误差信息；以及，依据所述第一不可校正误差信息... 详细信息
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半导体制程及其制程设备与控制装置
半导体制程及其制程设备与控制装置
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作者： 魏莹璐 雷鸣 林生元 黃泰维 陈晓葳 中国台湾新竹科学工业园区新竹市力行六路八号
本发明提供一种半导体制程及其制程设备与控制装置。其中半导体制程包括：对第一晶圆进行第一制程步骤；在完成所述第一制程步骤后，依据所述第一晶圆的实际表面形貌信息获取第一不可校正误差信息；以及，依据所述第一不可校正误差信息... 详细信息
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