检索结果-内蒙古大学图书馆

作者： K·弗瓦克比利时哈维里

一种用于确定磁体沿所述磁体的主表面的磁场分布的设备以及相关联的方法，所述设备包括：被安排成处于固定的彼此相对位置的至少两个独立的磁场相机模块的布置，每一磁场相机模块被适配成通过相应检测表面来测量它被暴露于其中的磁场分... 详细信息

标准号: CN104884966B

一种用于确定磁体沿所述磁体的主表面的磁场分布的设备以及相关联的方法，所述设备包括：被安排成处于固定的彼此相对位置的至少两个独立的磁场相机模块的布置，每一磁场相机模块被适配成通过相应检测表面来测量它被暴露于其中的磁场分布；用于提供所述主表面和所述布置之间的预定相对移动以扫描所述磁体沿所述主表面的磁场分布的装置。

关键词：磁场分布主表面相机模块磁场彼此相对检测表面相对移动固定的适配扫描测量关联暴露

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包括在相背的主表面上具有机械紧固件的配对表面的翼片的医用制品固定系统

包括在相背的主表面上具有机械紧固件的配对表面的翼片的医用制品...

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作者：奈穆尔·卡里姆珍妮弗·N·汉森希皮·K·桑希胡佳美国明尼苏达州

本发明提供了一种医用制品固定系统。所述系统可包括贴片，该贴片包括皮肤接触粘合剂。所述系统还可包括至少一个翼片，该翼片包括联接到贴片的固定端和能够相对于贴片移动，并且被构造用于将医用制品的至少一部分固定到贴片的自由端。... 详细信息

标准号: CN108348730A

本发明提供了一种医用制品固定系统。所述系统可包括贴片，该贴片包括皮肤接触粘合剂。所述系统还可包括至少一个翼片，该翼片包括联接到贴片的固定端和能够相对于贴片移动，并且被构造用于将医用制品的至少一部分固定到贴片的自由端。翼片的至少自由端可包括被构造成面向医用制品的第一主表面，该第一主表面的至少一部分包括机械紧固件的第一配对表面；以及与所述第一主表面相背的第二主表面，第二主表面被构造成背离医用制品，第二主表面的至少一部分包括机械紧固件的第二配对表面，第二配对表面被构造用于接合相同翼片、不同翼片或它们两者的第一配对表面。

关键词：主表面贴片翼片配对表面医用制品机械紧固件自由端皮肤接触粘合剂固定系统接合固定端相背背离移动

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基于DirectX的气象雷达实时显示技术研究

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现代雷达 2010年第3期32卷 62-65页

作者：宋军军薛兰南京电子技术研究所南京210039

提出了一种在Windows操作系统下的图像实时显示新型方法,该方法充分应用DirectX的更好的兼容性和更有效的图形加速特性,使用多缓存区进行图像数据存储、实时插值和边缘平滑处理、绘画和页面翻转的技术。以上技术使得气象回波的PPI和RHI... 详细信息

提出了一种在Windows操作系统下的图像实时显示新型方法,该方法充分应用DirectX的更好的兼容性和更有效的图形加速特性,使用多缓存区进行图像数据存储、实时插值和边缘平滑处理、绘画和页面翻转的技术。以上技术使得气象回波的PPI和RHI显示更逼真地复现了天气的实时变化情况,并且显著地改进了系统的实时处理性能。实验结果证明了使用该技术的有效性和可行性。

关键词：主表面离屏表面色彩键线性编址

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高表面品质光学膜

高表面品质光学膜

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作者：安德鲁·约翰·欧德科克叶盛克里斯托弗·元庭·廖阿尔曼·博罗曼德美国加利福尼亚州

薄膜组件包括光学薄膜和设置在光学薄膜的主表面上方的非连续的间隔层。在光学薄膜的多层堆叠体内，间隔层可以位于相邻薄膜的相对区域之间，使得间隔层分隔相邻薄膜并阻止或防止表面‑与‑表面的接触。

标准号: CN117063094A

关键词：光学薄膜间隔层相邻薄膜薄膜组件非连续主表面堆叠多层分隔体内

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具有结构化表面的聚合物膜

具有结构化表面的聚合物膜

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作者：布雷特·J·西特尔道恩·V·穆伊雷斯乔纳森·T·卡尔维维安·W·琼斯欧文·M·安德森戈登·A·屈恩雷乔舒亚·J·洛加埃林·A·麦克道尔美国明尼苏达州

本发明描述了一种聚合物膜，该聚合物膜包括具有多个相交延伸结构的主表面。对于该多个延伸结构中的至少大部分结构：每个结构沿着该结构的长度延伸，沿着横向于该长度的方向并且大体沿着第一主表面具有平均宽度，并且沿着大体垂直于该... 详细信息

标准号: CN113195604B

本发明描述了一种聚合物膜，该聚合物膜包括具有多个相交延伸结构的主表面。对于该多个延伸结构中的至少大部分结构：每个结构沿着该结构的长度延伸，沿着横向于该长度的方向并且大体沿着第一主表面具有平均宽度，并且沿着大体垂直于该第一主表面的方向具有平均高度；并且该结构的平均宽度可在1微米至200微米的范围内，该结构的平均高度可在1微米至200微米的范围内，并且长度可为平均宽度的至少3倍。这些延伸结构可随机地或伪随机地取向并且可通过微复制纸的表面来形成。

关键词：延伸结构主表面聚合物膜长度延伸随机地微复制伪随机取向相交垂直

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具绕射防眩表面及薄的耐用抗反射涂层的显示器制品

具绕射防眩表面及薄的耐用抗反射涂层的显示器制品

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作者：尚登·迪伊·哈特卡尔·威廉·科赫三世卡洛·安东尼·科西克·威廉姆斯林琳瓦格萨·西那拉特内威廉·艾伦·伍德美国纽约

本文描述了一种显示器制品，包含：基板，包含厚度及主表面；绕射表面区域，由所述主表面界定；及抗反射涂层，安置于所述绕射表面区域上。所述绕射表面区域包含结构特征，所述结构特征包含呈多模式分布的不同高度。所述基板展现出各自... 详细信息

标准号: CN116113610A

本文描述了一种显示器制品，包含：基板，包含厚度及主表面；绕射表面区域，由所述主表面界定；及抗反射涂层，安置于所述绕射表面区域上。所述绕射表面区域包含结构特征，所述结构特征包含呈多模式分布的不同高度。所述基板展现出各自在0°的入射角下<4％的闪烁及<20％的透射率雾度。所述抗反射涂层包含多个交替的高折射率层及低折射率层。此外，所述低折射率层中的每一个包含小于或等于约1.8的折射率，且所述高折射率层中的每一个包含大于1.8的折射率。所述制品展现出在20°的入射角下小于0.2％的第一表面平均可见镜面反射率及在玻氏压头硬度试验中≥8GPa的最大硬度。

关键词：绕射表面低折射率层高折射率层抗反射涂层入射角折射率主表面基板镜面反射率显示器制品第一表面硬度试验多模式交替的透射率界定雾度压头闪烁安置

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具有表面热交换通道的冲压SiC流体模块

具有表面热交换通道的冲压SiC流体模块

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作者： A·L·簇诺 H·利姆 M·J·麦克劳克林三世 K·D·肖尼西 J·S·萨瑟兰美国纽约州

流反应器或流反应器组件包括：底板，具有第一和第二主表面的第一流体模块，内部加工流体通路，和第一主表面中的热交换通道，所述第一主表面堆叠在底板上；具有第一和第二主表面的第二流体模块，内部加工流体通路和第一主表面中的热交... 详细信息

标准号: CN116209516A

流反应器或流反应器组件包括：底板，具有第一和第二主表面的第一流体模块，内部加工流体通路，和第一主表面中的热交换通道，所述第一主表面堆叠在底板上；具有第一和第二主表面的第二流体模块，内部加工流体通路和第一主表面中的热交换通道，所述第一主表面堆叠在第一流体模块的第二主表面上，具有与第一和第二流体模块相同构造的任选的额外流体模块，依次堆叠在第二流体模块上，以及在其底主表面中具有热交换通道的顶板，底主表面堆叠在(1)第二流体模块和(2)任选的额外流体模块中的最上方那个流体模块上。

关键词：主表面第二流体堆叠热交换通道流体模块底板第一流体加工流体反应器组件反应器

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半导体基板的表面处理方法及表面处理剂组合物

半导体基板的表面处理方法及表面处理剂组合物

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作者：奥村雄三福井由季盐田彩织照井贵阳公文创一日本山口县

本发明的半导体基板的表面处理方法是对于基板的主表面上具有形成有图案的图案形成区域与形成于图案形成区域的周缘的斜面区域的半导体基板的主表面进行处理的处理方法，前述图案具有图案尺寸为30nm以下的凹凸结构，前述方法包括表面处... 详细信息

标准号: CN115699259A

本发明的半导体基板的表面处理方法是对于基板的主表面上具有形成有图案的图案形成区域与形成于图案形成区域的周缘的斜面区域的半导体基板的主表面进行处理的处理方法，前述图案具有图案尺寸为30nm以下的凹凸结构，前述方法包括表面处理工序，其使包含甲硅烷基化剂的表面处理剂组合物接触半导体基板的主表面的图案形成区域及斜面区域上，对使表面处理剂组合物接触而经表面处理的二氧化硅基板的表面，IPA后退角在室温25度下为3°以上、和/或水后退角在室温25度下为40°以上。

关键词：图案形成区域半导体基板主表面表面处理剂组合物斜面区域图案表面处理工序二氧化硅基板甲硅烷基化剂凹凸结构基板

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具有高表面能量接合接口的载具内部元件及形成此元件的方法

具有高表面能量接合接口的载具内部元件及形成此元件的方法

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作者：林仁杰阿林·李·纬克尔美国纽约

本发明公开一种形成载具内部元件的方法。在该方法中，玻璃制品被布置在形成表面的形成表面上。该玻璃制品具有第一主表面及第二主表面。该第一主表面面向该形成表面，且该第二主表面与该第一主表面相反。该第二主表面包括具有至少35mN/... 详细信息

标准号: CN117529459A

本发明公开一种形成载具内部元件的方法。在该方法中，玻璃制品被布置在形成表面的形成表面上。该玻璃制品具有第一主表面及第二主表面。该第一主表面面向该形成表面，且该第二主表面与该第一主表面相反。该第二主表面包括具有至少35mN/m的表面自由能量的区域。粘合剂被施加至该玻璃制品的该第二主表面的该区域。该粘合剂与框架接触以将该框架附接至该玻璃制品。

关键词：主表面玻璃制品粘合剂表面自由能量内部元件附接载具施加

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包括纳米结构化表面和封闭空隙的制品、其制备方法和光学元件

包括纳米结构化表面和封闭空隙的制品、其制备方法和光学元件

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作者：杰弗里·L·所罗门克里斯托弗·S·莱昂斯约瑟夫·C·斯帕尼奥拉托马斯·P·克伦美国明尼苏达州

本公开提供了一种制品，该制品包括：具有含纳米特征的纳米结构化第一表面和相对的第二表面的层，和无机层，该无机层包括键合到该纳米结构化第一表面的一部分的主表面。该纳米结构化第一表面包括由单一成分形成的突出特征和/或凹陷特... 详细信息

标准号: CN115956405A

本公开提供了一种制品，该制品包括：具有含纳米特征的纳米结构化第一表面和相对的第二表面的层，和无机层，该无机层包括键合到该纳米结构化第一表面的一部分的主表面。该纳米结构化第一表面包括由单一成分形成的突出特征和/或凹陷特征。该制品包括由该纳米结构化第一表面部分地限定的至少一个封闭空隙。本公开还提供了一种制备该制品的方法，该方法包括：用偶联剂处理无机层的主表面；使层的纳米结构化表面与经处理的无机层接触；以及通过键合该纳米结构化表面或该经处理的无机层中的至少一者来经由已键合的偶联剂将两个层固定在一起。另外，本公开提供了一种包括该制品的光学元件。该制品的该纳米结构化表面受到该无机层的保护而不受损坏和污染。

关键词：无机层纳米结构化第一表面纳米结构化表面主表面键合偶联剂处理第二表面光学元件纳米特征突出特征偶联剂凹陷制备封闭污染

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