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文献类型

  • 18 篇 期刊文献
  • 2 篇 学位论文
  • 1 篇 会议

馆藏范围

  • 21 篇 电子文献
  • 0 种 纸本馆藏

日期分布

学科分类号

  • 16 篇 工学
    • 16 篇 电子科学与技术(可...
    • 7 篇 材料科学与工程(可...

主题

  • 21 篇 亚微米器件
  • 2 篇 mesfet
  • 2 篇 mosfet
  • 2 篇 载流子密度
  • 2 篇 载流子浓度
  • 2 篇 工艺优化
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  • 2 篇 集成电路
  • 2 篇 半导体器件
  • 2 篇 方程
  • 1 篇 碰撞电离
  • 1 篇 模拟方法
  • 1 篇 制造技术
  • 1 篇 噪音
  • 1 篇 电工材料
  • 1 篇 磁性隧道结
  • 1 篇 高k介质
  • 1 篇 cmos
  • 1 篇 数学
  • 1 篇 栅极

机构

  • 3 篇 山东大学
  • 2 篇 东南大学
  • 1 篇 河北大学
  • 1 篇 航空航天部二院计...
  • 1 篇 华晶公司
  • 1 篇 华中理工大学
  • 1 篇 天津大学
  • 1 篇 中国科学院微电子...
  • 1 篇 清华大学
  • 1 篇 英国霍华德大学
  • 1 篇 西北电讯工程学院
  • 1 篇 华东师范大学
  • 1 篇 科学院微电子中心
  • 1 篇 苏州大学
  • 1 篇 电子科技大学
  • 1 篇 科学院半导体所

作者

  • 2 篇 徐永勋
  • 1 篇 范焕章
  • 1 篇 相进
  • 1 篇 李志坚
  • 1 篇 战长青
  • 1 篇 perry j.robertso...
  • 1 篇 陈明华
  • 1 篇 赵鸿麟
  • 1 篇 宋湘云
  • 1 篇 李惠军
  • 1 篇 张安康
  • 1 篇 黎想
  • 1 篇 王明网
  • 1 篇 刘三清
  • 1 篇 ying jian-hua
  • 1 篇 李文渊
  • 1 篇 王秀春
  • 1 篇 邱正安
  • 1 篇 黄敞
  • 1 篇 潘姬

语言

  • 21 篇 中文
检索条件"主题词=亚微米器件"
21 条 记 录,以下是1-10 订阅
排序:
亚微米器件制造技术的发展动态
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半导体技术 2000年 第1期25卷 8-10,18页
作者: 范焕章 黎想 华东师范大学电子系 上海200062
主要从光刻、隔离。
来源: 评论
亚微米器件的一些物理问题
收藏 引用
物理 1990年 第12期19卷 709-713页
作者: 方兆烓 彭英才 苏州大学物理系 河北大学电子系
要建造功能比现有的更强大的超级计算机、新型雷达,或在微波段以上甚高频率下工作的通讯卫星,就需要超高速的半导体器件亚微米器件就是为了适应这种需要而发展起来的.在亚微米器件中,由于空间上的短尺度与时间上的瞬变,各种物理... 详细信息
来源: 评论
亚微米器件的高场输运和新的模拟方法
收藏 引用
微纳电子技术 1985年 第5期 24-29页
作者: Eugène Constant 相进
本文的目的是:第一部分研究亚微米器件中可能发生的一些新的输运现象;第二部分提出并描述了考虑这些输运现象的新的模拟方法。
来源: 评论
扩展电阻法测量亚微米器件的结深和杂质分布
收藏 引用
电子器件 1998年 第3期21卷 141-148页
作者: 张安康 李文渊 王健华 陈明华 东南大学无锡分校 华晶公司
本文介绍了亚微米器件结深和杂质分布的测量方法,叙述了扩展电阻法测量结深的原理。
来源: 评论
电子束直写在亚微米器件制造中的应用
电子束直写在亚微米器件制造中的应用
收藏 引用
全国化合物半导体、微波器件和光电器件学术会议
作者: 梁俊厚 陈宝钦 科学院微电子中心(北京) 科学院半导体所(北京)
该文报导了用电子束直写研制亚微米器件的结果,研究人员针对不同的电子束机型,采用了不同的电子束曝光工艺(包括抗蚀剂工艺、曝光工艺及图形转换工艺),研制的器件包括具有0.2um栅长的高电子迁移率晶体管(HEMT)具有叉指宽度为0.8... 详细信息
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适合VLSI/ULSI的深亚微米MOS器件模型BSIM2的研究
收藏 引用
微电子学 1997年 第3期27卷 176-180页
作者: 陈勇 肖兵 杨漠华 电子科技大学微电子科学与工程系
论述了深亚微米MOS器件模型BSIM2。从强反型区、亚阈区、过渡区及输出电阻等几方面,以物理概念为基础进行了较详细分析,并与国内1μm工艺的nMOS测量数据进行了比较。
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基于Taurus Workbench的亚微米n沟MOS器件关键工艺参数的优化
收藏 引用
微电子学 2003年 第3期33卷 196-199页
作者: 徐永勋 李惠军 山东大学信息科学与工程学院 山东济南250100
 简要介绍了集成电路虚拟工厂系统TaurusWorkbench。对亚微米n沟MOS工艺的特点进行了分析。在TaurusWorkbench环境下进行亚微米n沟MOS器件关键工艺参数的优化,优化结果印证了新工艺条件对器件性能的改善。
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亚微米半导体器件模拟方法的探索
收藏 引用
微电子学 1995年 第2期25卷 55-61页
作者: 王明网 魏同立 东南大学微电子中心
本文综述了近十年来半导体器件模拟的发展概况,阐述了漂移扩散模型(DDM)、流体动力学模型(HDM)、玻耳兹曼模型(BTM)、全量子模型(QTM)的各自适用范围,概括了玻耳兹曼的一些新解法,HDM,BTM适合于亚微米半... 详细信息
来源: 评论
Si亚微米MESFET的Monte Carlo法模拟
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电子学报 1994年 第2期22卷 1-7页
作者: 赵鸿麟 战长青 潘姬 天津大学电子工程系
本文是继用MonteCarlo法模拟GaAs亚微米器件后,进一步用该法模拟Si亚微米MESFET。文中除了处理Si和GaAs散射机制不同外,在模拟方法上有重要进步:用FFT(FastFourierTransforma... 详细信息
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考虑碰撞电离下的亚微米MOSFET的二维数值模拟和分析
收藏 引用
Journal of Semiconductors 1993年 第5期14卷 292-296页
作者: 张锡盛 何新平 李志坚 清华大学微电子所 清华大学微电子所 北京 100084
本文讨论了准确模拟亚微米MOSFET碰撞电离所用的模型和算法。碰撞电离项被自洽地加到器件模拟程序PISCES中,用这个程序,我们计算了PN结击穿电压和0.75μm MOS-FET不同偏压下的衬底电流,结果和实验符合。
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