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用于器件制造过程的方法
用于器件制造过程的方法
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作者： M·豪普特曼 A·B·伊斯梅尔 R·拉赫曼 李嘉鹏 荷兰维德霍温
披露了一种用于产生用于器件制造过程的采样方案的方法，所述方法包括：获得多个处理后的衬底的测量数据时间序列；转换所述测量数据时间序列以获得频域数据；使用所述频域数据来确定时间采样方案；基于根据所述时间采样方案在衬底上所... 详细信息
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用于产生用于器件制造过程的采样方案的方法和计算机程序
用于产生用于器件制造过程的采样方案的方法和计算机程序
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作者： M·豪普特曼 A·B·伊斯梅尔 R·拉赫曼 李嘉鹏 荷兰维德霍温
披露了一种用于产生用于器件制造过程的采样方案的方法，所述方法包括：获得多个处理后的衬底的测量数据时间序列；转换所述测量数据时间序列以获得频域数据；使用所述频域数据来确定时间采样方案；基于根据所述时间采样方案在衬底上所... 详细信息
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测量器件制造过程的参数的方法和量测设备
测量器件制造过程的参数的方法和量测设备
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作者： A·齐亚托马斯 A·维尔马 B·韦斯特拉特恩 荷兰维德霍温
本发明披露一种对器件制造过程的参数进行测量的方法。所述方法包括通过使用测量辐射照射衬底上的目标并且使用光学设备以检测由所述目标所散射的所述测量辐射来测量所述目标。所述目标包括具有第一周期性部件和第二周期性部件的目标结... 详细信息
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测量器件制造过程的参数的方法和量测设备
测量器件制造过程的参数的方法和量测设备
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作者： A·齐亚托马斯 A·维尔马 B·韦斯特拉特恩 荷兰维德霍温
本发明披露一种对器件制造过程的参数进行测量的方法。所述方法包括通过使用测量辐射照射衬底上的目标并且使用光学设备以检测由所述目标所散射的所述测量辐射来测量所述目标。所述目标包括具有第一周期性部件和第二周期性部件的目标结... 详细信息
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测量器件制造过程的参数的方法和量测设备
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作者： A·齐亚托马斯 A·维尔马 B·韦斯特拉特恩 荷兰维德霍温
本发明披露一种对器件制造过程的参数进行测量的方法。所述方法包括通过使用测量辐射照射衬底上的目标并且使用光学设备以检测由所述目标所散射的所述测量辐射来测量所述目标。所述目标包括具有第一周期性部件和第二周期性部件的目标结... 详细信息
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一种FDSOI器件结构及其制备方法
一种FDSOI器件结构及其制备方法
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作者： 李中华 李润领 李楠 冷江华 关天鹏 201203 上海市浦东新区康桥东路298号1幢1060室
本发明提供一种FDSOI器件结构及其制备方法，硅基底；位于硅基底上的埋氧层；位于埋氧层上的锗硅沟道，锗硅沟道的厚度为位于锗硅沟道层上的硅层；位于硅层上的金属栅极及依附于金属栅极侧壁的侧墙；位于硅层上、金属栅极两侧的源漏区... 详细信息
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一种高容错率抑制漏源电压过冲的U槽SiC VDMOSFET结构
一种高容错率抑制漏源电压过冲的U槽SiC VDMOSFET结构
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作者： 许一力 310000 浙江省杭州市萧山区永晖路548号钱江电气大厦18层
本发明公开一种高容错率抑制漏源电压过冲的U槽SiC VDMOSFET结构，包括MOS元胞，MOS元胞引入U槽，缩小单个重复元胞尺寸，提升电流密度，MOS元胞的JFET区下方的P阱形成窄JFET区的屏蔽结构且在对应的位置采用了阶梯栅氧，屏蔽结构可以提... 详细信息
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计算机可读介质
计算机可读介质
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作者： C·D·富凯 B·卡斯川普 A·J·登鲍埃夫 J·C·H·缪尔肯斯 J·B·卡瓦纳 J·P·库门 N·卡伦 荷兰维德霍温
本文公开了一种计算机可读介质，所述计算机可读介质上记录有指令，所述指令配置成使计算机系统至少：获得关于来自设计布局的一部分的热点的信息，所述设计布局将由器件制造过程处理到衬底上；针对所述热点确定所述器件制造过程的处理... 详细信息
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用于检查晶片的系统和方法
用于检查晶片的系统和方法
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作者： I·里埃布雷格茨 N·森 K·图伊斯 R·J·G·古森斯 荷兰维德霍温
本文公开了一种用于涉及将图案加工到衬底上的器件制造过程的计算机实施的缺陷预测方法。不可校正误差用于帮助预测可能存在缺陷的位置，从而提高计量生良品率。在一个实施例中，不可校正误差信息涉及由于光刻系统的透镜硬件、成像狭缝... 详细信息
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一种基于熵源选择原理的真随机数发生器与物理不可克隆函数一体化模块
一种基于熵源选择原理的真随机数发生器与物理不可克隆函数一体化...
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作者： 黄科杰 杨智尧 沈海斌 310058 浙江省杭州市西湖区余杭塘路866号
本发明公开了一种基于熵源选择原理的真随机数发生器与物理不可克隆函数一体化模块，该模块具有M个相同的基本单元和一个TRNG后处理模块，每个基本单元包含熵源阵列模块、偏置衡量模块、输出检验模块、PUF后处理模块与状态控制模块。每... 详细信息
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