检索结果-内蒙古大学图书馆

包装工程 2007年第8期28卷 60-62页

作者：王梅赵荣丽李克天广东工业大学广州510090

在自动套准控制系统中,通过对印刷套准标记的检测,经过数据传输、计算和各级遥控装置的调整实现必要的校正。对印刷自动套准图象的识别进行了初步的研究。通过对摄取到的实际套准标记图像和标准图像进行比较,输出其角度偏差值和位置偏差... 详细信息

在自动套准控制系统中,通过对印刷套准标记的检测,经过数据传输、计算和各级遥控装置的调整实现必要的校正。对印刷自动套准图象的识别进行了初步的研究。通过对摄取到的实际套准标记图像和标准图像进行比较,输出其角度偏差值和位置偏差值,以此作为自动套准控制系统中时印刷机套准调节的依据,并对一种"米"形套准标记的识别和检测进行了分析。

关键词：自动套准套准标记图像识别方法角度偏差位置偏差

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印刷套准标记识别方法的研究

印刷套准标记识别方法的研究

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第十届全国包装工程学术会议

作者：王梅广东工业大学广州510090

印刷自动套准控制系统是实现印刷自动化的一个重要环节,也是印刷质量控制的一个重要方面.在自动套准控制系统中,通过对印刷套准标记的检测,经过数据传输、计算和各级遥控装置的调整实现必要的校正.本文对印刷自动套准图象识别的方法进... 详细信息

印刷自动套准控制系统是实现印刷自动化的一个重要环节,也是印刷质量控制的一个重要方面.在自动套准控制系统中,通过对印刷套准标记的检测,经过数据传输、计算和各级遥控装置的调整实现必要的校正.本文对印刷自动套准图象识别的方法进行了初步研究,提出了一种全新的套准标记.

关键词：套准自动套准套准标记图象识别霍夫变换

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印刷自动套准标记识别方法的研究

印刷自动套准标记识别方法的研究

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第十一届全国包装工程学术会议

作者：王梅赵荣丽李克天广东工业大学

在自动套准控制系统中,通过对印刷套准标记的检测,经过数据传输、计算和各级遥控装置的调整实现必要的校正。对印刷自动套准图象的识别进行了初步的研究。通过对摄取到的实际套准标记图像和标准图像进行比较,输出其角度偏差值和位置偏差值,以此作为自动套准控制系统中对印刷机套准调节的依据,并对一种"(?)"形套准标记的识别和检测进行了分析。

关键词：自动套准套准标记图像识别方法角度偏差位置偏差

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套准标记结构

套准标记结构

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作者：杜亚彭莉萍 100176 北京市大兴区经济技术开发区(亦庄)文昌大道18号

本实用新型提供一种套准标记结构，为中心对称图形，包括第一测试标记和第二测试标记，第一测试标记包括一对与X轴平行的第一横向标记和一对与Y轴平行的第一纵向标记，第一横向标记和第一纵向标记均包括位于同一直线上且不相连接的第一... 详细信息

标准号: CN206116392U

本实用新型提供一种套准标记结构，为中心对称图形，包括第一测试标记和第二测试标记，第一测试标记包括一对与X轴平行的第一横向标记和一对与Y轴平行的第一纵向标记，第一横向标记和第一纵向标记均包括位于同一直线上且不相连接的第一部分和第二部分；第一横向标记的第一部分及第一纵向标记的第一部分适于前层图形层的对准，第一横向标记的第二部分及第一纵向标记的第二部分适于后层图形层的对准；第二测试标记位于第一测试标记围成的几何图形内，适于当前图形层的对准。本实用新型的套准标记结构能够直接模拟当前图形层与前后图形层的对准，减少一个量测站点，缩短了生产的周期，且尺寸与原套准标记相同，不占用更多的面积。

关键词：测试标记图形层横向标记纵向标记套准标记对准本实用新型平行中心对称图形几何图形同一直线后层量测前层站点占用生产

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一种光刻套准标记的保护装置及金属溅射工艺方法

一种光刻套准标记的保护装置及金属溅射工艺方法

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作者：马万里赵文魁 100871 北京市海淀区成府路298号方正大厦9层

本发明公开了一种光刻套准标记的保护装置，该装置包括多个固定晶片的压块，每个压块具有一个外伸至晶片上部的挡条，用以遮挡晶片上的光刻套准标记。本发明还提供了使用该光刻套准标记的保护装置进行金属溅射的工艺方法包括：在与压块... 详细信息

标准号: CN102315141A

本发明公开了一种光刻套准标记的保护装置，该装置包括多个固定晶片的压块，每个压块具有一个外伸至晶片上部的挡条，用以遮挡晶片上的光刻套准标记。本发明还提供了使用该光刻套准标记的保护装置进行金属溅射的工艺方法包括：在与压块固定的晶片平行的平面上，旋转压块上外伸的挡条，使挡条遮挡住晶片上前层工艺留下的光刻套准标记；对晶片进行金属溅射操作，在晶片上挡条遮挡区域之外的区域溅射金属层。本发明在固定晶片的压块上设置一个外伸至晶片上部的挡条，该挡条能够在金属溅射工艺过程中遮挡住晶片上的光刻套准标记，使得光刻套准标记的形貌清晰，在后续光刻工序中，能够准确地对准，保证了光刻工序的正常进行。

关键词：晶片套准标记光刻挡条压块金属溅射保护装置固定晶片光刻工序上部形貌工艺过程金属层溅射上挡平行旋转固定

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电子束和光学混合和匹配曝光套准标记的制备方法

电子束和光学混合和匹配曝光套准标记的制备方法

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作者：刘明徐秋霞陈宝钦龙世兵牛洁斌 100029 北京市朝阳区北土城西路3号

本发明是一种电子束和光学混合和匹配曝光套准标记的制备方法，包括：电子束和光学混合和匹配曝光的套准标记的设计；用电子束曝光系统制备套准标记掩模版；采用光学投影系统将掩模版上的套准标记曝光在硅片上；采用干法刻蚀将套准标记... 详细信息

标准号: CN100394306C

本发明是一种电子束和光学混合和匹配曝光套准标记的制备方法，包括：电子束和光学混合和匹配曝光的套准标记的设计；用电子束曝光系统制备套准标记掩模版；采用光学投影系统将掩模版上的套准标记曝光在硅片上；采用干法刻蚀将套准标记转移到硅片上；在电子束曝光系统中采用合适的修正方法查找标记等。该方法实现了电子束曝光系统和光学曝光系统的混合和匹配曝光，其套准精度优于100nm，使我们在缺乏昂贵的193nm投影光刻机的情况下，利用电子束曝光纳米尺寸的图形，而用普通的365nm光学投影光刻机曝光其它大尺寸的图形。本发明方法结合了电子束系统曝光的高分辨率和光学投影光刻机的高效率，大大提高了纳米器件和电路的研制效率。

关键词：套准标记曝光电子束曝光系统电子束匹配光学投影光刻机硅片模版光学曝光系统光学投影系统电子束曝光电子束系统投影光刻机干法刻蚀高分辨率纳米尺寸纳米器件套准精度制备方法大尺寸高效率电路修正研制转移

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一种光刻套准标记的保护装置及金属溅射工艺方法

一种光刻套准标记的保护装置及金属溅射工艺方法

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作者：马万里赵文魁 100871 北京市海淀区成府路298号方正大厦9层

标准号: CN102315141B

关键词：晶片套准标记光刻挡条压块金属溅射保护装置固定晶片光刻工序上部形貌工艺过程金属层溅射上挡平行旋转固定

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套准标记及其制造方法

套准标记及其制造方法

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作者：谢丁生潘川方绍明刘鹏飞马万里潘光然 100871 北京市海淀区成府路298号方正大厦5层

本发明涉及集成电路制造中的光刻套准。为了解决目前集成电路制造中，由于介质层或金属层的覆盖导致的套准标记形貌不清晰的问题，本发明公开了一种套准标记及其制造方法。本发明提供的套准标记的制造方法包括步骤：在硅片衬底的介质层... 详细信息

标准号: CN101587824B

本发明涉及集成电路制造中的光刻套准。为了解决目前集成电路制造中，由于介质层或金属层的覆盖导致的套准标记形貌不清晰的问题，本发明公开了一种套准标记及其制造方法。本发明提供的套准标记的制造方法包括步骤：在硅片衬底的介质层上形成第一套准标记；在所述第一套准标记的正上方形成至少一层第二套准标记。本发明提供的套准标记包括：在硅片衬底的介质层上形成有第一套准标记；在所述第一套准标记的正上方形成有至少一层第二套准标记。本发明用于集成电路制造中的光刻套准，尤其是DM0S管的光刻套准。

关键词：套准标记集成电路制造介质层光刻正上方硅片衬底形貌金属层

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套准标记及其形成方法

套准标记及其形成方法

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作者：邓国贵赵简林益世 201203 上海市浦东新区张江路18号

本发明提供一种套准标记及其形成方法，套准标记的形成方法包括：提供衬底，在衬底的标记区中形成多个条形浅沟槽隔离结构，多个条形浅沟槽隔离结构之间的衬底用于组成第一光栅，在衬底的标记区上形成多个栅条，栅条位于相邻两个条形浅... 详细信息

标准号: CN105702662B

本发明提供一种套准标记及其形成方法，套准标记的形成方法包括：提供衬底，在衬底的标记区中形成多个条形浅沟槽隔离结构，多个条形浅沟槽隔离结构之间的衬底用于组成第一光栅，在衬底的标记区上形成多个栅条，栅条位于相邻两个条形浅沟槽隔离结构之间的衬底上方，在多个栅条之间形成间隔层，多个栅条组成第二光栅。第一光栅在衬底平面上的位置和形状与第二光栅的位置相同、形状相似，光通过第二光栅和第一光栅之后，形成第一衍射波形和第二衍射波形能够发生干涉形成干涉光，干涉光的振幅更大，光强更强，使光学检测设备容易探测到干涉光的波形，并更准确获得反应第二光栅位置的信息，对套准标记测试得到第二光栅位置结果更加精确。

关键词：光栅衬底栅条浅沟槽隔离结构套准标记干涉光光栅位置标记区衍射光学检测设备衬底平面形状相似间隔层光强探测测试干涉

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套准标记及其形成方法

套准标记及其形成方法

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作者：邓国贵 201315 上海市浦东新区良腾路6号

本发明提供了一种套准标记及其形成方法，所述套准标记包括位于半导体基底中的第一光栅以及位于半导体基底表面的第二光栅；其中第一光栅包括多个第一栅条，每个第一栅条为一个浅沟槽隔离结构，半导体基底位于相邻浅沟槽隔离结构之间的... 详细信息

标准号: CN110400789B

本发明提供了一种套准标记及其形成方法，所述套准标记包括位于半导体基底中的第一光栅以及位于半导体基底表面的第二光栅；其中第一光栅包括多个第一栅条，每个第一栅条为一个浅沟槽隔离结构，半导体基底位于相邻浅沟槽隔离结构之间的部分构成第一狭缝，第二光栅包括多个第二栅条以及设置在其间的第二狭缝，第二栅条及第一栅条在所述半导体基底表面的投影重合。所述套准标记的形成方法用于形成一种套准标记。本发明提供的套准标记中，第一光栅与第二光栅位置相同，形状相似，使得第一光栅和第二光栅的衍射波携带的信息相同，第一光栅的衍射波和第二光栅的衍射波可以发生干涉以得到强度较高的干涉波，以提高套准标记的套准精度测量的准确性。

关键词：光栅套准标记栅条衍射波半导体基底表面浅沟槽隔离结构半导体基底狭缝光栅位置精度测量投影重合形状相似干涉套准携带

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