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主题

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作者

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语言

  • 131 篇 中文
检索条件"主题词=异质结双极型晶体管"
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一种铟镓磷异质结双极型晶体管及其制造方法
一种铟镓磷异质结双极型晶体管及其制造方法
收藏 引用
作者: 汪耀祖 310018 浙江省杭州市下沙经济技术开发区20号大街199号
本发明公开了一种铟镓磷异质结双极型晶体管及其制造方法。铟镓磷异质结双极型晶体管从下至上依次包括衬底、重掺杂次集电极区层、重掺杂铟镓磷蚀刻终止层、轻掺杂集电区层、基区层、轻掺杂铟镓磷发射区层和重掺杂发射帽层。本发明能够... 详细信息
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一种铟镓磷异质结双极型晶体管及其制造方法
一种铟镓磷异质结双极型晶体管及其制造方法
收藏 引用
作者: 汪耀祖 310018 浙江省杭州市下沙经济技术开发区20号大街199号
本发明公开了一种铟镓磷异质结双极型晶体管及其制造方法。铟镓磷异质结双极型晶体管从下至上依次包括衬底、重掺杂次集电极区层、重掺杂铟镓磷蚀刻终止层、轻掺杂集电区层、基区层、轻掺杂铟镓磷发射区层和重掺杂发射帽层。本发明能够... 详细信息
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W波段InGaAs/InP动态二分频器(英文)
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红外与毫米波学报 2012年 第5期31卷 393-398页
作者: 钟英辉 苏永波 金智 王显泰 曹玉雄 姚鸿飞 宁晓曦 张玉明 刘新宇 中国科学院微电子研究所微波器件与集成电路研究室 北京100029 西安电子科技大学微电子学院 陕西西安710071
采用fT=214 GHz,fmax=193 GHz的InGaAs/InP异质结双极型晶体管工艺,设计了一款基于时钟驱动反相器的动态二分频器.该分频器工作频段为60~100 GHz,但由于测试系统上限频率的限制,只能测出62~83 GHz的工作范围.在-4.2 V和-5.2 V的单... 详细信息
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面向100 GHz+数模混合电路的0.5 μm InP DHBT工艺(英文)
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红外与毫米波学报 2017年 第2期36卷 167-172页
作者: 程伟 张有涛 王元 牛斌 陆海燕 常龙 谢俊领 南京电子器件研究所微波毫米波单片集成和模块电路重点实验室 江苏南京210016
报道了一种高性能的3英寸磷化铟双异质结双极型晶体管工艺.发射极尺寸为0.5μm×5μm的磷化铟双异质结双极型晶体管,电流增益截止频率以及最高振荡频率分别达到350 GHz以及532 GHz,击穿电压4.8 V.基于该工艺研制了114 GHz静态分频... 详细信息
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一种新的HBT小信号模参数优化提取法
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电子学报 2010年 第3期38卷 567-571页
作者: 胡晓萍 胡建萍 郑梁 钟叶龙 杭州电子科技大学电子信息学院 浙江杭州310037 华数华夏视联控股有限公司 浙江杭州310018
阐述了一种新的异质结双极型晶体管(HBT)的小信号模参数提取方法——综合多偏置点优化参数提取法.对HBT小信号模进行推导并确定外部参数和内部参数的计算公式;介绍了多偏置点优化算法,并在GaInP/GaAsHBT器件上进行了鲁棒性和精确性... 详细信息
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Ge组分对SiGe HBT直流特性的影响
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固体电子学研究与进展 2008年 第4期28卷 479-482页
作者: 张永 李成 赖虹凯 陈松岩 康俊勇 成步文 王启明 厦门大学物理系 半导体光子学研究中心厦门361005 中国科学院半导体研究所 集成光电子国家重点实验室北京100083
制作了基区Ge组分分别为0.20和0.23的多发射极指数双台面构SiGe异质结双极型晶体管(HBT)。实验果表明,基区Ge组分的微小增加,引起了较大的基极复合电流,但减小了总的基极电流,提高了发射的注入效率,电流增益成倍地提高。Ge组分从0... 详细信息
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基于IBM SiGe BiCMOS工艺5PAe的中功率放大器
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固体电子学研究与进展 2009年 第1期29卷 46-49页
作者: 宋家友 王志功 彭艳军 东南大学射频与光电集成电路研究所 南京210096 郑州大学信息工程学院 郑州450052
采用IBM公司刚刚推出试用的0.35μm SiGe BiCMOS开发性工艺5PAe设计并实现了一个C波段功率放大器。该放大器采用两级单端构,除集电极扼流电感外,其余元件全部片上实现,具有集成度高、构简单的特点。通过在子基极和匹配电感中串联... 详细信息
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应用于移动终端的线性功率放大器设计
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固体电子学研究与进展 2012年 第1期32卷 40-44页
作者: 黄继伟 王志功 廖英豪 李诚瞻 杨寒冰 方志坚 射频与光电集成电路研究所 东南大学南京210096 广州润芯信息技术有限公司 广州510063
设计了一种应用于移动终端的InGaP/GaAs HBT功率放大器。该放大器采用了一种新颖的在片偏置电路技术,不仅避免了由于电源和温度变化导致的直流偏置点的不稳定,而且补偿了由于输入信号增大所引起的动态偏置点的偏离。电流镜构的偏置电... 详细信息
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一种偏置电流可调节的高效率2.4GHz锗硅功率放大器
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固体电子学研究与进展 2009年 第3期29卷 364-368页
作者: 彭艳军 王志功 宋家友 东南大学射频与光电集成电路研究所 郑州大学信息工程学院
基于IBM0.35μm SiGe BiCMOS工艺BiCMOS5PAe实现了一种偏置电流可调节的高效率2.4GHz锗硅功率放大器。该功率放大器采用两级单端构和一种新偏置电路,除射频扼流电感外,其它元件均片内集成。采用的新偏置电路用于调节功率放大器的... 详细信息
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应用于WLAN InGaP/GaAs HBT线性功率放大器
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固体电子学研究与进展 2015年 第1期35卷 46-51页
作者: 何旭 郑远 朱彦青 陈新宇 杨磊 南京电子器件研究所 南京210016 南京国博电子有限公司 南京211111
设计了一款基于2μm InGaP/GaAs HBT工艺的移动通信用高线性功率放大器,应用于移动终端WLAN 802.11b/g/n 2.4-2.5GHz。整个放大器芯片由三级放大电路构成,芯片面积为1.9mm×1.7mm。在VCC=Vbias=+5V、VReg=VPdown=+2.85V双电源供... 详细信息
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