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文字说明：

T=题名（书名、题名），A=作者（责任者），K=主题词，P=出版物名称，PU=出版社名称，O=机构（作者单位、学位授予单位、专利申请人），L=中图分类号，C=学科分类号，U=全部字段，Y=年（出版发行年、学位年度、标准发布年）

检索规则说明：

AND代表“并且”；OR代表“或者”；NOT代表“不包含”；(注意必须大写,运算符两边需空一格)

检索范例：

范例一：(K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 AND Y=1982-2016
范例二：P=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT K=Visual AND Y=2011-2016

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限定检索结果

文献类型

342 篇 专利

馆藏范围

342 篇 电子文献
0 种 纸本馆藏

日期分布

机构

25 篇 东丽株式会社
23 篇 信越化学工业株式...
17 篇 东友精细化工有限...
11 篇 hoya株式会社
10 篇 旭化成电子材料株...
10 篇 株式会社尼康
7 篇 旭硝子株式会社
7 篇 富士胶片株式会社
6 篇 az电子材料有限公...
6 篇 昭和电工株式会社
6 篇 迪睿合株式会社
6 篇 帝国油墨制造股份...
5 篇 默克专利有限公司
5 篇 株式会社东进世美...
5 篇 精工爱普生株式会...
5 篇 关东三洋半导体股...
5 篇 荣昌化学制品株式...
5 篇 日产化学工业株式...
5 篇 株式会社adeka
5 篇 旭化成株式会社

作者

11 篇 诹访充史
9 篇 山口布士人
9 篇 古池润
6 篇 浦野宏之
6 篇 美谷岛祐介
6 篇 竹村胜也
6 篇 高田直人
6 篇 前田雅俊
6 篇 长原达郎
6 篇 吉川裕
6 篇 绪方智美
6 篇 鸟畑拓也
6 篇 有久慎司
6 篇 饭尾匡史
6 篇 新井良和
6 篇 内田博
5 篇 正元祐次
5 篇 五十岚优助
5 篇 金起洪
5 篇 西村直也

语言

342 篇 中文

检索条件"主题词=微细图案"

共 342 条记录，以下是1-10 订阅

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详细简洁

排序：

微细图案制作用振动切削装置

微细图案制作用振动切削装置

引用

作者：李承俊韩国庆尚南道梁山市梁州路133

本发明涉及微细图案制作用振动切削装置，更详细地，包括：切削部，能够对加工工件的表面进行加工；以及震荡部，与上述切削部连接，用于产生振动，上述震荡部使对上述加工工件执行切削加工的切削部发生振动，以在上述加工工件的表面进... 详细信息

标准号: CN116529005A

本发明涉及微细图案制作用振动切削装置，更详细地，包括：切削部，能够对加工工件的表面进行加工；以及震荡部，与上述切削部连接，用于产生振动，上述震荡部使对上述加工工件执行切削加工的切削部发生振动，以在上述加工工件的表面进行基于振动的图案加工。并且，根据本发明，本发明具有如下效果，可以在加工工件的表面精确地进行微细图案加工，可以提高发生振动的切削刀片的响应性。

关键词：加工工件切削微细图案震荡振动切削装置切削刀片切削加工图案加工响应性加工

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微细图案的制造方法以及使用了其的显示器件的制造方法

微细图案的制造方法以及使用了其的显示器件的制造方法

引用

作者：池田宏和野中敏章远山宜亮铃木孝秀德国达姆施塔特

[问题]本发明提供在液晶显示器件制造领域中适宜使用的、实效性地制造分辨极限以下的抗蚀图案的方法。具体提供：维持具有锥形形状的图案形状且为极限分辨以下的微细图案的制造方法。[解决方案]一种微细图案的制造方法，其包含以下的工... 详细信息

标准号: CN111247624A

[问题]本发明提供在液晶显示器件制造领域中适宜使用的、实效性地制造分辨极限以下的抗蚀图案的方法。具体提供：维持具有锥形形状的图案形状且为极限分辨以下的微细图案的制造方法。[解决方案]一种微细图案的制造方法，其包含以下的工序：在基板上，涂布包含碱溶解速度为的酚醛清漆树脂的抗蚀组合物，形成抗蚀组合物层的工序，将前述抗蚀组合物层进行曝光的工序，将前述抗蚀组合物层进行显影，形成抗蚀图案的工序，将前述抗蚀图案进行整面曝光的工序，在前述抗蚀图案的表面涂布微细图案形成组合物，形成微细图案形成组合物层的工序，将前述抗蚀图案以及微细图案形成组合物层进行加热，将前述微细图案形成组合物层的前述抗蚀图案附近区域进行固化而形成不溶化层的工序，以及将前述微细图案形成组合物层的未固化部分去除的工序。

关键词：微细图案抗蚀图案抗蚀组合物组合物层液晶显示器件制造酚醛清漆树脂制造表面涂布分辨极限附近区域图案形状锥形形状曝光碱溶解未固化溶化固化基板加热去除显影分辨

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微细图案成形方法、压印用模具制造方法及压印用模具、以及光学设备

微细图案成形方法、压印用模具制造方法及压印用模具、以及光学设...

引用

作者：田边大二粟屋信义田中觉日本神奈川县

本发明提供一种按被成形物的规定位置形成控制了方向或位置的微细图案的成形方法、使用该成形方法的压印用模具制造方法、压印用模具、以及光学设备。所述成形方法包括：第1掩模图案形成工序，通过压印，在被成形物(2)的至少包含未形成... 详细信息

标准号: CN113169045A

本发明提供一种按被成形物的规定位置形成控制了方向或位置的微细图案的成形方法、使用该成形方法的压印用模具制造方法、压印用模具、以及光学设备。所述成形方法包括：第1掩模图案形成工序，通过压印，在被成形物(2)的至少包含未形成有微细图案(21)的区域的表面形成用于形成微细图案(21)的第1掩模图案(31)；第2掩模图案形成工序，在被成形物(2)及第1掩模图案(31)上形成抗蚀膜(4)，通过光照射进行曝光并且进行显影，以使未形成有微细图案(21)且形成有第1掩模图案(31)的区域露出的方式形成第2掩模图案(41)；以及微细图案形成工序，对该被成形物(2)进行蚀刻，形成微细图案(21)，将第1掩模图案形成工序、第2掩模图案形成工序、微细图案形成工序按该顺序反复进行。

关键词：掩模图案微细图案形成工序被成形物成形压印用模具蚀刻表面形成光学设备光照射抗蚀膜显影压印曝光制造

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微细图案形成系统

微细图案形成系统

引用

作者：郑光春柳志勋成俊基韩孝珍韩国京畿道

本实用新型涉及一种微细图案形成系统，本实用新型的微细图案形成系统，包括：输送部，连续输送形成有阴刻图案的衬底；和填充部，在与所述衬底接触的状态下向所述衬底供给填料，并且以垂直于所述衬底的虚拟的转轴为中心进行旋转，从而... 详细信息

标准号: CN205428873U

本实用新型涉及一种微细图案形成系统，本实用新型的微细图案形成系统，包括：输送部，连续输送形成有阴刻图案的衬底；和填充部，在与所述衬底接触的状态下向所述衬底供给填料，并且以垂直于所述衬底的虚拟的转轴为中心进行旋转，从而将所述填料填充到所述阴刻图案内。

关键词：衬底本实用新型微细图案形成系统阴刻图案衬底接触连续输送填料填充转轴填充虚拟垂直

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包含二乙炔二醇单体和导电聚合物的导电油墨和使用其制造微细图案的方法

包含二乙炔二醇单体和导电聚合物的导电油墨和使用其制造微细图案...

引用

作者：李粲雨金钟满朴帅敏韩国首尔

提供了一种含有二乙炔二醇单体和导电聚合物的导电油墨和一种使用其制造微细图案的方法。所述导电油墨包含导电聚合物和由以下化学式1表示的二乙炔二醇单体：[化学式1]HO‑(R1)n‑C≡C‑C≡C‑(R2)m‑OH。在化学式1中，n和m彼此独立地为1至10... 详细信息

标准号: CN111727225A

提供了一种含有二乙炔二醇单体和导电聚合物的导电油墨和一种使用其制造微细图案的方法。所述导电油墨包含导电聚合物和由以下化学式1表示的二乙炔二醇单体：[化学式1]HO‑(R₁)_n‑C≡C‑C≡C‑(R₂)_m‑OH。在化学式1中，n和m彼此独立地为1至10，R₁和R₂彼此独立地为CR_aR_b或(CR_aR_b)_xO，R_a和R_b各自独立地为氢或卤素，并且x为1至3的整数。在化学式1中，R₁和R₂可以都是CH₂，并且n和m可以是彼此独立地为1至4的整数。

关键词：彼此独立导电聚合物导电油墨乙炔二醇微细图案制造

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转印材料用固化性组合物和使用该组合物的微细图案形成方法

转印材料用固化性组合物和使用该组合物的微细图案形成方法

引用

作者：新井良和内田博日本东京都

本发明的目的在于提供一种转印材料用固化性组合物，其适合用于可以高生产量形成微细图案的工艺即紫外纳米压印法，有时还适合用于热纳米压印法，并且可以形成氟类气和氧气的蚀刻速度选择性高的微细图案。本发明的转印材料用固化性组合... 详细信息

标准号: CN101883797B

本发明的目的在于提供一种转印材料用固化性组合物，其适合用于可以高生产量形成微细图案的工艺即紫外纳米压印法，有时还适合用于热纳米压印法，并且可以形成氟类气和氧气的蚀刻速度选择性高的微细图案。本发明的转印材料用固化性组合物，其特征在于，含有在同一分子内具有特定倍半硅氧烷骨架和固化性官能团的含倍半硅氧烷骨架的化合物。

关键词：固化性组合物硅氧烷骨架微细图案转印材料固化性官能团纳米压印蚀刻速度紫外纳米生产量化合物压印氧气

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微细图案形成系统

微细图案形成系统

引用

作者：郑光春柳志勋成俊基韩孝珍韩国京畿道安山市檀园区陵安路108(新吉洞)

本实用新型涉及一种微细图案形成系统，本实用新型的微细图案形成系统包括：输送部，连续输送形成有阴刻图案的衬底；供给部，向所述衬底供给填料；和旋转填充部，沿所述衬底的输送方向设置在所述供给部的后方，在与所述衬底接触的状态... 详细信息

标准号: CN205666228U

本实用新型涉及一种微细图案形成系统，本实用新型的微细图案形成系统包括：输送部，连续输送形成有阴刻图案的衬底；供给部，向所述衬底供给填料；和旋转填充部，沿所述衬底的输送方向设置在所述供给部的后方，在与所述衬底接触的状态下进行旋转，从而将所供给的填料填充到所述阴刻图案内。

关键词：衬底本实用新型微细图案形成系统阴刻图案供给部衬底接触方向设置连续输送填料填充填充

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光固化性组合物及表面具有微细图案的成形体的制造方法

光固化性组合物及表面具有微细图案的成形体的制造方法

引用

作者：藤江彩子川口泰秀中山史子日本东京

本发明提供能够形成环境特性、脱模性优异的固化物、氟表面活性剂与其它成分的相溶性优异的光固化性组合物、以及能够制造表面具有模的相反图案被精密地转印而得的微细图案且表面的组成均匀的成形体的方法。一种光固化性组合物，是以具... 详细信息

标准号: CN103038860A

本发明提供能够形成环境特性、脱模性优异的固化物、氟表面活性剂与其它成分的相溶性优异的光固化性组合物、以及能够制造表面具有模的相反图案被精密地转印而得的微细图案且表面的组成均匀的成形体的方法。一种光固化性组合物，是以具有一个以上（甲基）丙烯酰氧基的化合物为主成分的压印用光固化性组合物，含有以下聚合物（D）。含有CH₂=C（R¹¹）-C（O）O-Q-R^f单元20～45质量%、CH₂=C（R²¹）-C（O）O-（CH₂CH（R²²）O）_n-H（数均分子量350以下）单元20～65质量%和CH₂=C（R³¹）-C（O）O-R³²单元5～40质量%、质均分子量1000～5000的聚合物（D）。R¹¹、R²¹、R³¹=氢原子、甲基、Q=2价的连接基团等、R^f=碳数1～6的多氟烷基等、R²²=氢原子等、n=3～6、R³²=碳数2～15的脂肪族烃基。

关键词：固化性组合物聚合物氢原子碳数化合物为主成分表面活性剂丙烯酰氧基环境特性微细图案成形体固化物脂肪族溶性脱模压印转印精密图案连接

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转印材料用固化性组合物和使用该组合物的微细图案形成方法

转印材料用固化性组合物和使用该组合物的微细图案形成方法

引用

作者：新井良和内田博日本东京都

标准号: CN101883797A

关键词：固化性组合物硅氧烷骨架微细图案转印材料固化性官能团纳米压印蚀刻速度紫外纳米生产量化合物压印氧气

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具有微细图案的树脂薄膜的制造方法和有机EL显示装置的制造方法以及微细图案形成用基材膜及带有支撑构件的树脂薄膜

具有微细图案的树脂薄膜的制造方法和有机EL显示装置的制造方法以...

引用

作者：岸本克彦崎尾进日本国大阪府堺市堺区匠町1番地

在平板状的支撑构件(3)的第一面形成金属膜(3),金属膜(3)的支撑构件(2)的表面形成树脂固化膜。对树脂固化膜照射微细加工用的激光,通过形成所期望的微细图案(13),形成具有微细图案的树脂薄膜(1)。其后,向作为支撑构件(2)的第一面的相反... 详细信息

标准号: CN113874539A

在平板状的支撑构件(3)的第一面形成金属膜(3),金属膜(3)的支撑构件(2)的表面形成树脂固化膜。对树脂固化膜照射微细加工用的激光,通过形成所期望的微细图案(13),形成具有微细图案的树脂薄膜(1)。其后,向作为支撑构件(2)的第一面的相反面的第二面照射与微细加工用的激光不同波长的紫外光,将树脂薄膜(1)从支撑构件(2)剥离。

关键词：支撑构件树脂薄膜微细加工微细图案金属膜照射激光表面形成树脂树脂固化膜紫外光第二面固化膜平板状波长面形剥离期望

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