检索结果-内蒙古大学图书馆

您好，读者！请登录

内蒙古大学图书馆

首页
概况
党建
资源
服务
科研支持
- 论文收录引用证明
- 科技查新
知识产权
档案馆
帮助

咨询与建议

建议与咨询留下您的常用邮箱和电话号码，以便我们向您反馈解决方案和替代方法

您的常用邮箱：*

您的手机号码：*

问题描述：

当前已输入0个字，您还可以输入200个字

全部搜索
期刊论文
图书
学位论文
标准
纸本馆藏
外文资源发现
数据库导航
超星发现

高级检索

时间限定

出版年份：

文献类型

图书期刊文献学位论文多媒体

馆藏选择

电子馆藏纸本馆藏

核心期刊

全部期刊 SCI 收录期刊 SSCI 收录期刊 EI 收录期刊 CSCD 收录期刊 CSSCI 收录期刊

语言

中文英文

文献类型

期刊文献图书学位论文标准纸本馆藏

帮助

文字说明：

T=题名（书名、题名），A=作者（责任者），K=主题词，P=出版物名称，PU=出版社名称，O=机构（作者单位、学位授予单位、专利申请人），L=中图分类号，C=学科分类号，U=全部字段，Y=年（出版发行年、学位年度、标准发布年）

检索规则说明：

AND代表“并且”；OR代表“或者”；NOT代表“不包含”；(注意必须大写,运算符两边需空一格)

检索范例：

范例一：(K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 AND Y=1982-2016
范例二：P=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT K=Visual AND Y=2011-2016

分类表

所选分类

>> <<

限定检索结果

文献类型

181 篇 专利

馆藏范围

181 篇 电子文献
0 种 纸本馆藏

日期分布

机构

92 篇 三星显示有限公司
15 篇 应用材料公司
12 篇 昆山允升吉光电科...
11 篇 凸版印刷株式会社
9 篇 株式会社日本显示...
4 篇 上海微电子装备股...
4 篇 成都京东方光电科...
4 篇 京东方科技集团股...
3 篇 株式会社爱发科
2 篇 合肥维信诺科技有...
2 篇 株式会社富士
2 篇 昆山工研院新型平...
2 篇 a-成株式会社
2 篇 株式会社阿迪泰克...
2 篇 杭州临安柏盛印刷...
2 篇 乐金显示有限公司
2 篇 瓦里安半导体设备...
2 篇 武汉华星光电半导...
2 篇 日新电机株式会社
2 篇 皮姆思株式会社

作者

13 篇 宋升勇
12 篇 魏志凌
12 篇 洪宰敏
9 篇 金桢国
9 篇 金义圭
9 篇 李丞赈
9 篇 李娥凛
9 篇 金辉
9 篇 黄圭焕
8 篇 朴钟圣
8 篇 高小平
8 篇 文敏浩
8 篇 任星淳
8 篇 李锺大
7 篇 寺田玲尔
7 篇 文英慜
7 篇 三上菜穗子
7 篇 高晙赫
7 篇 赵恩翡
7 篇 郑庆靓

语言

181 篇 中文

检索条件"主题词=掩模框架"

共 181 条记录，以下是1-10 订阅

全选清除本页清除全部题录导出标记到"检索档案"

详细简洁

排序：

掩模框架组件、掩模组件和包括该掩模组件的沉积设备

掩模框架组件、掩模组件和包括该掩模组件的沉积设备

引用

作者：洪承柱禹珉娥李锺大闵秀玹朴钟圣宋珉澈张原荣韩国京畿道龙仁市

公开了一种掩模框架组件、掩模组件和沉积设备。该掩模框架组件包括掩模框架、第一支撑构件和第二支撑构件，掩模框架包括：第一表面，包括在第一方向上延伸的第一长侧部分、在与第一方向相交的第二方向上延伸的第一短侧部分、以及在第... 详细信息

标准号: CN117737645A

公开了一种掩模框架组件、掩模组件和沉积设备。该掩模框架组件包括掩模框架、第一支撑构件和第二支撑构件，掩模框架包括：第一表面，包括在第一方向上延伸的第一长侧部分、在与第一方向相交的第二方向上延伸的第一短侧部分、以及在第一方向或第二方向上延伸的第一凹入部分；第二表面，与第一表面相对并且包括在第一方向上延伸的第二长侧部分、在第二方向上延伸的第二短侧部分、以及在第一方向或第二方向上设置的第二凹入部分；第三表面，连接到第一表面和第二表面并且限定框架开口部分，第一支撑构件设置在第一凹入部分中，第二支撑构件设置在第二凹入部分中。

关键词：支撑构件凹入第一表面延伸掩模框架组件第二表面掩模框架沉积设备框架开口掩模组件相交

来源：评论

学校读者我要写书评

暂无评论

掩模框架、掩模板以及掩模结构

掩模框架、掩模板以及掩模结构

引用

作者：王建强 230000 安徽省合肥市新站区魏武路与新蚌埠路交口西南角

本发明涉及一种掩模框架、掩模板以及掩模结构，主框体，围合形成蒸镀区域；及遮挡条，设于主框体并至少部分位于蒸镀区域内；其中，遮挡条具有支撑面、限位面以及连接面，支撑面和限位面在第一方向上间隔设置，连接面连接于支撑面和限... 详细信息

标准号: CN114381687B

本发明涉及一种掩模框架、掩模板以及掩模结构，主框体，围合形成蒸镀区域；及遮挡条，设于主框体并至少部分位于蒸镀区域内；其中，遮挡条具有支撑面、限位面以及连接面，支撑面和限位面在第一方向上间隔设置，连接面连接于支撑面和限位面之间，支撑面、限位面以及连接面共同界定形成限位槽，限位槽用于限制掩模板移动。上述掩模框架，当磁板产生的磁场与基板的压力作用于掩模板时，在限位槽的限位作用下，掩模板无法在平行于蒸镀面的平面内相对掩模框架产生过大的偏移，从而避免因掩模板的移动导致蒸镀形成的显示面板发生混色不良现象，进而提高了显示面板的良品率。

关键词：掩模板限位面支撑面蒸镀掩模框架连接面限位槽显示面板遮挡条主框体不良现象间隔设置限位作用掩模结构偏移良品率移动磁板混色基板界定围合磁场平行

来源：评论

学校读者我要写书评

暂无评论

掩模框架及掩模组件

掩模框架及掩模组件

引用

作者：曹生贤金敏贞美国加利福尼亚州

掩模板包括：左框架，设置于左侧；右框架，设置于右侧；上框架，将左框架的上端部和右框架的上端部彼此连接；以及下框架，将左框架的下端部和右框架的下端部彼此连接。上框架包括：上直线框架，在水平方向中具有线性形状；以及上弯曲... 详细信息

标准号: CN112272874A

掩模板包括：左框架，设置于左侧；右框架，设置于右侧；上框架，将左框架的上端部和右框架的上端部彼此连接；以及下框架，将左框架的下端部和右框架的下端部彼此连接。上框架包括：上直线框架，在水平方向中具有线性形状；以及上弯曲框架，与上直线框架间隔开，上弯曲框架具有左右对称形状且向上凸出弯曲，并且掩模板耦接于上弯曲框架。如此一来，避免了掩模框架的变形及掩模板的变形，且也避免在水平或垂直切换掩模组件的位置的过程中的变形。

关键词：上弯曲掩模板右框架左框架变形彼此连接直线框架上端部上框架下端部凸出垂直切换线性形状掩模框架掩模组件左右对称下框架耦接

来源：评论

学校读者我要写书评

暂无评论

掩模框架

掩模框架

引用

作者：李锺奫李丞赈韩国京畿道

掩模框架包括：第一水平部分；第二水平部分，设置在第一水平部分下方；至少一个竖直部分，连接第一水平部分和第二水平部分；以及拉伸杆，联接到第一水平部分，并且拉伸杆配置成在拉伸杆的纵向方向上向第一水平部分施加收缩力。

标准号: CN114645244A

关键词：拉伸杆掩模框架收缩力竖直施加配置

来源：评论

学校读者我要写书评

暂无评论

掩模框架、掩模板以及掩模结构

掩模框架、掩模板以及掩模结构

引用

作者：王建强 230000 安徽省合肥市新站区魏武路与新蚌埠路交口西南角

标准号: CN114381687A

来源：评论

学校读者我要写书评

暂无评论

掩模框架和沉积设备

掩模框架和沉积设备

引用

作者：李钟奫李丞赈韩国京畿道龙仁市

本公开涉及一种掩模框架和一种沉积设备。所述掩模框架包括：支撑基底，包括多个内侧表面，所述多个内侧表面限定穿过所述支撑基底的第一开口；散热板，设置在所述多个内侧表面上以及多个固定部分，设置在所述支撑基底与所述散热板之间... 详细信息

标准号: CN114481019A

本公开涉及一种掩模框架和一种沉积设备。所述掩模框架包括：支撑基底，包括多个内侧表面，所述多个内侧表面限定穿过所述支撑基底的第一开口；散热板，设置在所述多个内侧表面上以及多个固定部分，设置在所述支撑基底与所述散热板之间，所述多个固定部分中的每一个包括将所述支撑基底附接到所述散热板的多个粘合部分和穿过所述固定部分限定的邻近于所述多个粘合部分的多个第二开口。

关键词：支撑基内侧表面散热板掩模框架粘合开口穿过沉积设备邻近

来源：评论

学校读者我要写书评

暂无评论

混合型掩模棒和采用混合型掩模棒的掩模框架组件

混合型掩模棒和采用混合型掩模棒的掩模框架组件

引用

作者：李秀奂河在秀柳光泰崔镇百表相佑韩国京畿道龙仁市

提供了一种混合型掩模棒和一种采用混合型掩模棒的掩模框架组件。该掩模框架组件包括掩模框架以及掩模棒，所述掩模棒包括：第一掩模棒，在第一方向上延伸；第二掩模棒，在与第一方向交叉的第二方向上延伸；以及多个第三掩模棒，连接到... 详细信息

标准号: CN117051357A

提供了一种混合型掩模棒和一种采用混合型掩模棒的掩模框架组件。该掩模框架组件包括掩模框架以及掩模棒，所述掩模棒包括：第一掩模棒，在第一方向上延伸；第二掩模棒，在与第一方向交叉的第二方向上延伸；以及多个第三掩模棒，连接到第一掩模棒和第二掩模棒，所述至少一个第一掩模棒、所述至少一个第二掩模棒和所述多个第三掩模棒限定多个沉积区域，其中，第一掩模棒包括第一棒和布置在第一棒上的第二棒，并且第一棒和第二棒中的至少一个包括在其中第一掩模棒连接到第二掩模棒的局部凹陷部分。

关键词：掩模掩模框架组件沉积区域方向交叉掩模框架凹陷延伸

来源：评论

学校读者我要写书评

暂无评论

使用激光清洗机的掩模框架表面处理方法

使用激光清洗机的掩模框架表面处理方法

引用

作者：崔宗成韩国京畿道

本发明涉及一种使用激光清洗机对掩模框架进行表面处理的方法。因此，其技术要点是使用激光清洗机来去除表面处理对象掩膜框架的表面污染物、异物以及杂质的方法，其特征在于，与现有技术相比从源头上排除了使用药品，从而显著改善工作... 详细信息

标准号: CN114589166A

本发明涉及一种使用激光清洗机对掩模框架进行表面处理的方法。因此，其技术要点是使用激光清洗机来去除表面处理对象掩膜框架的表面污染物、异物以及杂质的方法，其特征在于，与现有技术相比从源头上排除了使用药品，从而显著改善工作环境和后处理工艺，由于在进行表面处理工作时通过自动化工艺完成，不仅大大缩短工作时间，而且节省劳动力并防止安全事故的发生，从而在降低成本的同时大大改善安全性和生产率，尤其是掩模框架本身的质量大幅提高，从而可以确保高质量的最终产品。

关键词：激光清洗机掩模框架表面污染物自动化工艺后处理安全事故对象掩膜技术要点异物去除源头

来源：评论

学校读者我要写书评

暂无评论

使用激光清洗机的掩模框架表面处理方法

使用激光清洗机的掩模框架表面处理方法

引用

作者：崔宗成韩国京畿道

标准号: CN114589166B

关键词：激光清洗机掩模框架表面污染物自动化工艺后处理安全事故对象掩膜技术要点异物去除源头

来源：评论

学校读者我要写书评

暂无评论

掩模框架

掩模框架

引用

作者：金泳贤崔一成敏赫韩国仁川广域市

本实用新型提供一种掩模框架。公开的本实用新型的一种掩模框架，其特征在于，包括：第一及第二切割部件，相对而设；第三及第四切割部件，与上述第一及第二切割部件垂直而设并相对而设；及焊接区域，各设置于上述第一至第四切割部件中... 详细信息

标准号: CN217973372U

本实用新型提供一种掩模框架。公开的本实用新型的一种掩模框架，其特征在于，包括：第一及第二切割部件，相对而设；第三及第四切割部件，与上述第一及第二切割部件垂直而设并相对而设；及焊接区域，各设置于上述第一至第四切割部件中相对而设的区域；在上述焊接区域的上述第一至第四切割部件截面，形成各为增强水平支撑力相互结合的第一结合部及第二结合部；上述第一及第二结合部各以凹凸图案形成，而上述凹凸图案形成于上述第一至第四切割部件的截面的上侧和下侧。本实用新型的掩模框架，从由轧制板材构成的母材制造多个掩模框架，从而最大限度地减少材料损失。

关键词：切割部件掩模框架本实用新型结合部凹凸图案形成焊接区域减少材料轧制板材支撑力母材垂直制造

来源：评论

学校读者我要写书评

暂无评论

没有更多数据了...

全选清除本页清除全部题录导出标记到“检索档案”

共19页 << < 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 > >>

检索报告对象比较合并检索0

隐藏清空

合并搜索

回到顶部

执行限定条件

内容：

评分：

请选择保存的检索档案：

请选择收藏分类：

订阅名称：

通借通还

温馨提示：

图书名称：

借书校区：

取书校区：

手机号码：

邮箱地址：

一卡通帐号：

电话和邮箱必须正确填写，我们会与您联系确认。

联系人：

所在院系：

联系邮箱：

联系电话：

内蒙古自治区呼和浩特市赛罕区大学西街235号邮编: 010021

建议与咨询 留下您的常用邮箱和电话号码，以便我们向您反馈解决方案和替代方法

时间限定

文献类型

馆藏选择

核心期刊

语言

文献类型

帮助

文字说明：

检索规则说明：

检索范例：

分类表

所选分类

限定检索结果

文献类型

馆藏范围

日期分布

机构

作者

语言

请选择保存的检索档案： 新增检索档案 确定 取消

请选择收藏分类： 新增自定义分类 确定 取消

通借通还

建议与咨询留下您的常用邮箱和电话号码，以便我们向您反馈解决方案和替代方法

请选择保存的检索档案：

请选择收藏分类：