检索结果-内蒙古大学图书馆

红外与激光工程 2021年第1期50卷 280-286页

作者：刘壮王超江伦史浩东长春理工大学空间光电技术研究所吉林长春130022

针对"低慢小"目标光学成像识别能力差、复杂背景下信噪比低等问题,设计了一款低空高空间分辨率激光雷达光学系统。发射光学系统扫描器件采用MEMS反射镜,设计了专用扩束光学系统保证不同扫描角度发射激光的光束质量;接收光学... 详细信息

针对"低慢小"目标光学成像识别能力差、复杂背景下信噪比低等问题,设计了一款低空高空间分辨率激光雷达光学系统。发射光学系统扫描器件采用MEMS反射镜,设计了专用扩束光学系统保证不同扫描角度发射激光的光束质量;接收光学系统采用物镜、数字微反射镜器件结合偏振器件,可同时实现激光回波接收与可见光成像,相较于采用单点探测器接收的激光接收系统,具有背景噪声低的优势。给出了光学系统的性能参数,利用光学设计软件设计了光学系统,该系统空间分辨率为0.5 mrad/pixel,扫描点阵列规模为200×200。模拟结果表明设计方法可行,计算其在大气中的探测距离可达到1000 m,背景噪声相较于单点探测器接收系统可降低约22162倍。

关键词：光学设计激光雷达 MEMS微反射镜数字微反射镜器件背景噪声

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基于纳米微晶玻璃的空间悬浮显示

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计量与测试技术 2024年第2期51卷 103-105页

作者：贾斌刘吉成高洪跃黄玄旻沈宇上海大学机电工程与自动化学院精密机械工程系

本文介绍了基于纳米微晶玻璃的空间悬浮显示的研究。使用纳米微晶玻璃作为悬浮显示的承载介质,并设计其实验系统,引入峰值信噪比的图像评价指标,测量激光功率对图像质量的影响,实现高清晰度、高分辨率的空间悬浮显示。

关键词：纳米微晶玻璃空间投影空间悬浮显示数字微反射镜器件峰值信噪比

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基于结构化泵浦的双输出激光器

基于结构化泵浦的双输出激光器

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作者：张子龙孔令玉胡耶童赵长明 100081 北京市海淀区中关村南大街5号

本发明属于激光器技术领域，公开了一种基于结构化泵浦的双向输出激光器。本发明中的双输出激光器利用数字微反射镜器件实现结构化泵浦，可以同时在两个互相垂直的方向上输出结构光束，具有结构紧凑、调控灵活、输出多样化的优势。

标准号: CN117856020A

关键词：结构化泵浦数字微反射镜器件激光器技术领域输出激光器互相垂直输出结构激光器双输出输出灵活调控

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辅助曝光装置

辅助曝光装置

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作者：佐竹顺太田义治日本东京都

本发明提供一种能够提高曝光解像度的辅助曝光装置。本实施方式的辅助曝光装置配置在对被处理基板进行曝光处理的曝光装置的前级侧或者后级侧，对被处理基板进行局部曝光处理，包括搬送部和光源单元。搬送部将被处理基板在扫描方向上搬... 详细信息

标准号: CN107193185B

本发明提供一种能够提高曝光解像度的辅助曝光装置。本实施方式的辅助曝光装置配置在对被处理基板进行曝光处理的曝光装置的前级侧或者后级侧，对被处理基板进行局部曝光处理，包括搬送部和光源单元。搬送部将被处理基板在扫描方向上搬送。光源单元对在扫描方向上被搬送的被处理基板，照射以与扫描方向交叉的方向为长边方向的线状的光。另外，光源单元构成为包含将多个可动式微反射镜排列而成的数字微反射镜器件。

关键词：被处理基板光源单元辅助曝光装置曝光处理扫描方向数字微反射镜器件扫描方向交叉曝光装置搬送部反射镜后级侧解像度前级侧长边可动线状照射曝光配置

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一种投影光学系统及投影显示方法

一种投影光学系统及投影显示方法

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作者：吴凯陈许 266599 山东省青岛市黄岛区前湾港路218号

本申请公开了一种投影光学系统及投影显示方法。该投影光学系统包括：沿光束传播方向依次设置的光源、第一数字微反射镜器件DMD、第二DMD、以及投影镜头；第一DMD，用于根据光源的多基色光显示时序，在多基色中任一基色显示时间，根据... 详细信息

标准号: CN108965841B

本申请公开了一种投影光学系统及投影显示方法。该投影光学系统包括：沿光束传播方向依次设置的光源、第一数字微反射镜器件DMD、第二DMD、以及投影镜头；第一DMD，用于根据光源的多基色光显示时序，在多基色中任一基色显示时间，根据待显示投影图像对应的驱动信号对当前基色光照明光束进行调制；第二DMD接收第一DMD调制后的光束，并包括多个分区，第二DMD根据不同分区的该基色对应的光输出量再投射进入投影镜头成像，能够分别使得单基色投影画面中各区域的亮度趋于均匀，从而在多个基色组成的画面显示时间内，使得投影画面的色度趋于均匀。

关键词：基色投影光学系统投影画面投影镜头调制光源分区数字微反射镜器件光输出量光束传播画面显示驱动信号投影图像投影显示显示时序依次设置照明光束色光单基色基色光多基色度投射成像申请

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一种标定装置和标定方法

一种标定装置和标定方法

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作者：杨朝兴 201203 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区芳春路400号1幢3层

本发明公开了一种标定装置和标定方法。该装置包括：沿光路依次设置的光源、数字微反射镜器件、缩放投影镜组、第一投影屏、成像单元和控制单元，成像单元包括待标定镜头；光源为平行光源，用于出射平行光束；数字微反射镜器件与控制单... 详细信息

标准号: CN110987054B

本发明公开了一种标定装置和标定方法。该装置包括：沿光路依次设置的光源、数字微反射镜器件、缩放投影镜组、第一投影屏、成像单元和控制单元，成像单元包括待标定镜头；光源为平行光源，用于出射平行光束；数字微反射镜器件与控制单元连接，用于将平行光束转化成包含源图形的反射光束；缩放投影镜组与控制单元电连接，用于缩放包含源图形的反射光束；第一投影屏位于缩放投影镜组的像面，用于形成第一参考标定图形；成像单元用于得到待标定图形；控制单元与成像单元、第一投影屏电连接，用于根据待标定图形和第一参考标定图形，确实待标定镜头的标定参数。本发明实施例能够产生各种尺寸的高分辨率参考标定图形。

关键词：标定成像单元缩放投影镜组投影屏数字微反射镜器件反射光束平行光束电连接源图形参考光源标定参数标定装置高分辨率平行光源依次设置镜头出射光路像面转化

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一种无掩模光刻系统及其对应的光刻方法

一种无掩模光刻系统及其对应的光刻方法

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作者：邱志勇常朔 116024 辽宁省大连市甘井子区凌工路2号

一种无掩模光刻系统及其对应的光刻方法，包括暗箱及暗箱中的光刻子系统，子系统包括：光刻用复合光源及观察用子光源、用于生成光刻图案的数字微反射镜器件、承载基板的载物台组件、设置于载物台组件与数字微反射镜器件间的，用于曝光... 详细信息

标准号: CN113721429A

一种无掩模光刻系统及其对应的光刻方法，包括暗箱及暗箱中的光刻子系统，子系统包括：光刻用复合光源及观察用子光源、用于生成光刻图案的数字微反射镜器件、承载基板的载物台组件、设置于载物台组件与数字微反射镜器件间的，用于曝光与直接观察的镜片组，以及其他设置于同一暗箱中的光刻辅助设备。利用数字微反射镜器件和光刻用复合光源组件直接绘制光刻图案，通过镜片组将图案进行不同比例的缩小并投影，对载物台上承载的基板进行曝光；载物台可实现XYZ轴精密位移，及Z轴精密旋转，通过载物台的调整使基板与投影透镜组的像面重合以承接清晰的光刻图案。本发明可通过观察光路实现对曝光表面实时的直接观察、对准和测量，从而实现不同倍率组合下的套刻功能。

关键词：光刻数字微反射镜器件光刻图案载物台组件复合光源直接观察暗箱镜片组载物台基板无掩模光刻系统投影透镜组承载基板辅助设备观察光路精密位移曝光表面曝光子光源重合套刻像面载物投影精密承接对准测量承载绘制图案清晰观察

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一种计算全息与体全息结合的防伪技术实现方法

一种计算全息与体全息结合的防伪技术实现方法

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作者：杨佩考红旭马建设杜媛媛张海龙陈绪军 518000 广东省深圳市龙岗区南湾街道下李朗社区布澜路31号李朗国际珠宝产业园厂房五B5栋101、B9栋801

本发明公开了一种计算全息与体全息结合的防伪技术实现方法，包括光路系统、图像生成系统以及体全息材料；光路系统包括激光器、第一半波片、第二半波片、第一反射镜、第二反射镜、偏振分光镜、第一空间滤波器、第二空间滤波器、第一准... 详细信息

标准号: CN110231763B

本发明公开了一种计算全息与体全息结合的防伪技术实现方法，包括光路系统、图像生成系统以及体全息材料；光路系统包括激光器、第一半波片、第二半波片、第一反射镜、第二反射镜、偏振分光镜、第一空间滤波器、第二空间滤波器、第一准直镜、第二准直镜以及体全息材料；方法包括：通过光路系统产生两束相干光；通过两束相干光将图像生成系统生成的三维图像干涉记录到体全息材料上。本发明通过将计算全息与体全息结合的方式，将不存在的三维实物通过计算全息模拟到数字微反射镜器件上，通过干涉的方法记录到具有高衍射效率的体全息材料上，可以形成更加明显的三维动态效果，相比于传统全息防伪增强了防伪效果。

关键词：体全息光路系统计算全息滤波器图像生成系统半波片反射镜相干光准直镜数字微反射镜器件三维动态效果偏振分光镜传统全息第二空间第一空间防伪技术防伪效果三维实物三维图像衍射效率激光器干涉防伪记录

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连续无掩膜光刻与一种新型的热回流技术用于微透镜阵列成型

连续无掩膜光刻与一种新型的热回流技术用于微透镜阵列成型

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作者：邱金峰中国科学技术大学

学位级别：博士

随着微光学以及微机电等领域的蓬勃发展,拥有体积小、焦距短并且集成程度高等优点的微透镜阵列得到了广泛的应用。为了适应不同领域对于微透镜阵列的需求,各式各样的加工方法也层出不穷,如何简便、高效并且经济实惠地加工大面积的微透... 详细信息

随着微光学以及微机电等领域的蓬勃发展,拥有体积小、焦距短并且集成程度高等优点的微透镜阵列得到了广泛的应用。为了适应不同领域对于微透镜阵列的需求,各式各样的加工方法也层出不穷,如何简便、高效并且经济实惠地加工大面积的微透镜阵列一直受到相关从业者的广泛关注。本文将基于数字微镜器件（DMD）的连续无掩膜光刻技术与一种新型的空间限制热回流技术相结合,实现了形状可控的,不同形貌的微透镜阵列的制作。首先设计出无掩膜光刻系统,与不同的运动系统相结合,搭建了连续无掩膜光刻系统以及非接触式滚压系统,实现了硬质基底以及柔性基底上的连续微结构阵列的加工。然后提出了不同于传统热回流的PDMS辅助空间限制热回流,实现了形状可控的微透镜阵列的制作,并不断完善空间限制热回流相关理论。在此基础上,与无掩膜光刻技术相结合,实现了不同形貌的微透镜阵列的制作,并且这些微透镜阵列均在同一回流参数下完成,充分证明了空间限制热回流的普适性。首先,根据DMD的光学特点设计出相应的投影曝光光学系统,然后与自组装的三维运动平台相结合,搭建了连续无掩膜光刻系统,可以实现不同硬质基底上的连续微结构的加工;接着设计出了运动更加稳定的滚动传送装置,利用无掩膜光刻系统代替传统滚压系统中压辊的作用,搭建了非接触式滚动压印系统,可以实现柔性基底上连续微结构的制作。这些系统的搭建,为后续的研究提供了必要的加工手段。在此基础上,我们提出了不同于传统热回流的PDMS辅助的空间限制热回流技术,与无掩膜光刻系统相结合,实现了形状可控的球面微透镜阵列以及高填充因子微透镜阵列的制作。首先是利用无掩膜光刻系统的特点,加工出不同间隙的微柱阵列,然后将PDMS倾倒在微柱阵列上,液体PDMS填满了微柱之间的间隙,在热回流的过程中,固化的PDMS限制了熔融光刻胶的底部形状,也限制了相邻光刻胶之间的融合,这是传统热回流无法完成的工作,再引入体积关系,就可以实现形状可控的球面微透镜阵列以及高填充因子微透镜阵列的制作。同样利用无掩膜光刻系统灵活的加工能力,以及空间限制热回流可以严格控制底面形状的特点,我们还对各种非球面微透镜阵列的制作进行了探索,最终实现了柱面,椭球以及锥面微透镜阵列的制作。接着,我们还尝试制作不同参数的倾斜微透镜阵列。考虑到倾斜微透镜复杂的三维结构,我们提出了模型以及掩膜简化方法,将整个掩膜的设计过程数值化,而由于简化带来的轮廓误差则有后续的空间限制热回流来补偿,并且在回流过程中,微透镜的倾斜性也能在一定程度上得到保持,这样就可以实现不同参数倾斜微透镜的快捷制作了。最后,在相同的回流参数下,我们利用空间限制热回流在同一区域实现了不同形貌的微透镜阵列的加工,包括球面、非球面以倾斜微透镜,证明了我们提出的空间限制热回流是一种普适且稳定的微透镜阵列加工方法。

关键词：数字微反射镜器件微透镜阵列连续无掩膜光刻空间限制热回流聚甲基二硅氧烷

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一种标定装置和标定方法

一种标定装置和标定方法

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作者：杨朝兴 201203 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区芳春路400号1幢3层

标准号: CN110987054A

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