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T=题名（书名、题名），A=作者（责任者），K=主题词，P=出版物名称，PU=出版社名称，O=机构（作者单位、学位授予单位、专利申请人），L=中图分类号，C=学科分类号，U=全部字段，Y=年（出版发行年、学位年度、标准发布年）

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AND代表“并且”；OR代表“或者”；NOT代表“不包含”；(注意必须大写,运算符两边需空一格)

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范例一：(K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 AND Y=1982-2016
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35 篇 专利

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机构

9 篇 中山新诺科技股份...
6 篇 张家港中贺自动化...
4 篇 电子科技大学
2 篇 西安电子科技大学
2 篇 吉林大学
2 篇 华东理工大学
2 篇 中国科学院理化技...
1 篇 大连理工大学
1 篇 应用材料公司
1 篇 金华飞光科技有限...
1 篇 烟台东仪光电产业...
1 篇 迈普尔平版印刷ip...
1 篇 深圳市优盛科技有...
1 篇 中国科学院力学研...
1 篇 中山大学
1 篇 台湾积体电路制造...

作者

6 篇 刘鹏
5 篇 梅文辉
4 篇 阮立锋
4 篇 李春
4 篇 汪孝军
4 篇 刘浩然
4 篇 兰长勇
3 篇 杨卓俊
3 篇 杨三
2 篇 马玉录
2 篇 陈国锋
2 篇 陈岐岱
2 篇 徐珍华
2 篇 李慧娟
2 篇 赵海利
2 篇 曲鲁杰
2 篇 孙洪波
2 篇 杜卫冲
2 篇 刘华
2 篇 郭成飞

语言

35 篇 中文

检索条件"主题词=无掩模光刻系统"

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详细简洁

排序：

无掩模光刻系统及其光刻方法

无掩模光刻系统及其光刻方法

引用

作者：张鹏鹏吴震张琼程攀攀朱旭杰范长江 321000 浙江省金华市婺城区秋滨街道石城街399号12幢401室

本申请涉及智能检测技术领域，其具体地公开了一种无掩模光刻系统及其光刻方法，其采用紫外光作为初始光源，通过FPGA编程和DMD将微电子图案的图像数据曝光到PCB板上进行蚀刻，并利用基于深度学习的机器视觉技术对蚀刻后的固化图案和微... 详细信息

标准号: CN118363277A

本申请涉及智能检测技术领域，其具体地公开了一种无掩模光刻系统及其光刻方法，其采用紫外光作为初始光源，通过FPGA编程和DMD将微电子图案的图像数据曝光到PCB板上进行蚀刻，并利用基于深度学习的机器视觉技术对蚀刻后的固化图案和微电子图案的图像数据进行全局语义一致性度量，从而智能检测固化图案是否符合设计要求。这样，能够有效地提高光刻精度和稳定性，保证光刻产品的质量，满足微电子领域对高精度、高效率、低成本制造的需求。

关键词：光刻图案蚀刻图像数据固化微电子无掩模光刻系统机器视觉技术智能检测技术微电子领域语义一致性紫外光智能检测低成本高效率有效地度量编程光源曝光全局申请制造保证学习

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基于胶体微球纳米透镜的无掩模光刻系统

基于胶体微球纳米透镜的无掩模光刻系统

引用

作者：蓝鼎吴奎魏同波王育人 100190 北京市海淀区北四环西路15号

本发明公开一种基于胶体微球纳米透镜的无掩模光刻系统，用以实现微纳米结构的转移。本系统基于现有光刻系统，利用胶体微球制备的纳米透镜对光束进行聚集，形成的聚焦阵列对光刻胶感光，可以实现间距为100nm‑2000nm的点阵排列。此系统... 详细信息

标准号: CN103217874B

本发明公开一种基于胶体微球纳米透镜的无掩模光刻系统，用以实现微纳米结构的转移。本系统基于现有光刻系统，利用胶体微球制备的纳米透镜对光束进行聚集，形成的聚焦阵列对光刻胶感光，可以实现间距为100nm‑2000nm的点阵排列。此系统实现微纳米点阵结构，工艺简单，不需要添加额外的设备，克服了纳米球光刻工艺中，需要重复组装微纳米球所导致的产业化困难、工艺效率低下以及由此产生的质量不可控等缺点。本发明在图形转移上高度可控、图形高度精确有序、图形花样多样、操作简单、成本低廉，便于工业化生产，在制备纳米图形衬底、量子点、等离子体、网孔电极、光子晶体和微纳米器件等上有很好的应用前景。

关键词：胶体微球纳米透镜制备等离子体无掩模光刻系统微纳米结构微纳米器件点阵结构点阵排列工艺效率光刻工艺光刻系统光子晶体聚焦阵列纳米图形图形花样图形转移微纳米球产业化此系统量子点纳米球微纳米电极衬底感光可控网孔组装重复应用

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一种双光束无掩模光刻系统

一种双光束无掩模光刻系统

引用

作者：陈冠楠梅文辉 528437 广东省中山市火炬开发区明珠路3号之一

本发明公开了一种双光束无掩模光刻系统。所述双光束无掩模光刻系统包括：第一和第二光源、扩束匀化单元(2)、光场调制单元(3)和光束调节单元(4)，第一光源用于发射激发光；第二光源用于发射损耗光；光束调节单元(4)用于将扩束匀化单元... 详细信息

标准号: CN112987506B

本发明公开了一种双光束无掩模光刻系统。所述双光束无掩模光刻系统包括：第一和第二光源、扩束匀化单元(2)、光场调制单元(3)和光束调节单元(4)，第一光源用于发射激发光；第二光源用于发射损耗光；光束调节单元(4)用于将扩束匀化单元(2)和光场调制单元(3)处理后形成的图形化平行光束阵列转化为成像平面上的像素点阵，像素点阵的非零像素点的中心为第一光束实心圆(601)、外环为第二光束中空环(602)，其中，第一光束实心圆(601)的直径大于第二光束中空环(602)的内直径，小于第二光束中空环(602)的外直径。本发明的双光束无掩模光刻系统可以缩小单个光刻点的大小，从而能够显著提高光刻分辨率。

关键词：无掩模光刻系统双光束中空环光源光束调节单元光场调制像素点阵实心圆扩束匀化平行光束阵列光刻分辨率成像平面发射激发光损耗光图形化像素点非零光刻转化

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一种基于无掩模光刻系统制备聚合物刷微图案的方法

一种基于无掩模光刻系统制备聚合物刷微图案的方法

引用

作者：沙金赵海利陈欣冯路杨润哲马玉录谢林生 200237 上海市徐汇区梅陇路130号

本发明公开了一种于无掩模光刻系统制备聚合物刷微图案的方法。其借由无掩模光刻系统的时空调制特性实现基体材料表面聚合反应过程的调控，以得到结构可控的图案化聚合物刷。本发明采用无掩模光刻系统的时空光调制特性，在聚合物刷制备... 详细信息

标准号: CN110655622B

本发明公开了一种于无掩模光刻系统制备聚合物刷微图案的方法。其借由无掩模光刻系统的时空调制特性实现基体材料表面聚合反应过程的调控，以得到结构可控的图案化聚合物刷。本发明采用无掩模光刻系统的时空光调制特性，在聚合物刷制备过程中能够对其化学、物理结构进行实时调控，以得到结构可控的图案化聚合物刷(例如各种复杂、多功能、可编程结构的)，实现对聚合物刷嵌段结构、厚度梯度特征及化学活性位点密度地控制，并能够在任意基体材料表面便捷地实现多元复合聚合物刷微图案。相比其他聚合物刷微图案制备方法，本发明具有制备效率高、成本低、可制备结构复杂的聚合物刷、聚合反应过程可控等优点。

关键词：聚合物刷无掩模光刻系统微图案制备基体材料表面聚合反应过程图案化聚合物结构可控光调制特性可编程结构制备聚合物多元复合厚度梯度化学活性嵌段结构时空调制实时调控物理结构制备过程可控位点时空调控

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一种无掩模光刻系统及其曝光方法

一种无掩模光刻系统及其曝光方法

引用

作者：阮立锋杨三汪孝军 528437 广东省中山市火炬开发区明珠路3号之一

本发明公开了一种无掩模光刻系统及其曝光方法。该系统包括：二维载物平台，二维载物平台用于放置待曝光的感光基板/片；无掩模曝光装置，其包括空间光调制器和镜头组件，镜头组件设在空间光调制器与感光基板/片之间；二维载物平台运动... 详细信息

标准号: CN108303858B

本发明公开了一种无掩模光刻系统及其曝光方法。该系统包括：二维载物平台，二维载物平台用于放置待曝光的感光基板/片；无掩模曝光装置，其包括空间光调制器和镜头组件，镜头组件设在空间光调制器与感光基板/片之间；二维载物平台运动检测装置；同步运动控制装置，其控制二维载物平台沿预设扫描运动方向匀速运动和基于二维载物平台的二维运动信息控制空间光调制器开闭动作，将需要曝光的图分成多条等宽的图形进行分次曝光；及切换装置。本发明可以在不使用菲林的情况下，在感光基板/片上曝光出不同精细要求的图案，从而降低了针对各种不同精度掩膜板的制作成本，并且可以提高掩膜板的制作效率。

关键词：载物平台二维感光基板曝光空间光调制器镜头组件掩膜板无掩模光刻系统无掩模曝光装置二维运动信息扫描运动方向运动检测装置光调制器开闭动作控制空间控制装置切换装置同步运动匀速运动等宽菲林预设制作精细图案

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一种双光束无掩模光刻系统

一种双光束无掩模光刻系统

引用

作者：陈冠楠梅文辉 528437 广东省中山市火炬开发区明珠路3号之一

标准号: CN112987506A

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一种无掩模光刻系统及其曝光方法

一种无掩模光刻系统及其曝光方法

引用

作者：阮立锋杨三汪孝军 528437 广东省中山市火炬开发区明珠路3号之一

标准号: CN108303858A

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一种新型高功率高速无掩模光刻系统

一种新型高功率高速无掩模光刻系统

引用

作者：曲鲁杰梅文辉杜卫冲 528400 广东省中山市火炬开发区明珠路3号之一

本实用新型公开了一种新型高功率高速无掩模光刻系统，包括计算机控制及图形系统、点阵图形发生器、能够带动感光基板移动的高精度的移动平台、移动控制系统、位置同步系统，其特征在于：所述点阵图形发生器包括多个激光光源及多根光纤... 详细信息

标准号: CN205827054U

本实用新型公开了一种新型高功率高速无掩模光刻系统，包括计算机控制及图形系统、点阵图形发生器、能够带动感光基板移动的高精度的移动平台、移动控制系统、位置同步系统，其特征在于：所述点阵图形发生器包括多个激光光源及多根光纤，所述激光光源直接与对应的光纤直接耦合，且所述光纤排列成多边形的点阵，激光光源与光纤间设有透镜系统及调制开关，所述调制开关与计算机控制及图形系统电连接且受其控制，从而控制激光光源所发出的光束进入光纤的通断。

关键词：激光光源计算机控制点阵图形调制开关图形系统发生器光纤无掩模光刻系统光纤直接耦合移动控制系统本实用新型点阵多根光纤感光基板光纤排列透镜系统位置同步移动平台电连接高功率通断移动

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一种无掩模光刻系统

一种无掩模光刻系统

引用

作者：阮立锋杨三汪孝军 528437 广东省中山市火炬开发区明珠路3号之一

本实用新型公开了一种无掩模光刻系统，无掩模光刻系统包括二维载物平台；二维载物平台用于放置待曝光的感光基板/片；无掩模曝光装置，用于改变空间光调制器投射下来的光影图像的像素分辨率，实现不同线宽线距图像的曝光；二维载物平... 详细信息

标准号: CN207965474U

本实用新型公开了一种无掩模光刻系统，无掩模光刻系统包括二维载物平台；二维载物平台用于放置待曝光的感光基板/片；无掩模曝光装置，用于改变空间光调制器投射下来的光影图像的像素分辨率，实现不同线宽线距图像的曝光；二维载物平台运动检测装置；同步运动控制装置，用于控制二维载物平台沿预设扫描运动方向匀速运动和基于二维载物平台的二维运动信息控制空间光调制器开闭动作，将需要曝光的图分成多条等宽的图形进行分次曝光；用于将待用的远心镜头切换到光轴上的切换装置。本实用新型可以在不使用菲林的情况下，在感光基板/片上曝光出不同精细要求的图案，可降低针对各种不同精度掩膜板的制作成本，可提高掩膜板的制作效率。

关键词：载物平台二维曝光无掩模光刻系统本实用新型感光基板掩膜板无掩模曝光装置二维运动信息空间光调制器扫描运动方向运动检测装置像素分辨率光调制器光影图像开闭动作控制空间控制装置切换装置同步运动远心镜头匀速运动等宽菲林光轴投射线距线宽预设制作精细图案图像

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一种无掩模光刻系统及一种像面焦点实时检测方法

一种无掩模光刻系统及一种像面焦点实时检测方法

引用

作者：徐珍华李源汪孝军阮立锋 528437 广东省中山市火炬开发区明珠路3号之一

本发明公开了一种无掩模光刻系统及一种像面焦点实时检测方法。所述无掩模光刻系统包括：DMD模组(101)；照明模组(102)，其将光束投射至DMD模组(101)的用于光刻成像的所述第一区域(101‑1)和用于投射像面检测图形的第二区域(101‑2)；分... 详细信息

标准号: CN111381456A

本发明公开了一种无掩模光刻系统及一种像面焦点实时检测方法。所述无掩模光刻系统包括：DMD模组(101)；照明模组(102)，其将光束投射至DMD模组(101)的用于光刻成像的所述第一区域(101‑1)和用于投射像面检测图形的第二区域(101‑2)；分光反射镜组(103)、焦面检测相机模组(104)和光刻镜头(105)，DMD模组(101)反射出的光束经过分光反射镜组(103)和光刻镜头(105)投射至涂有感光材料的曝光基板(106)，再经过曝光基板的反射返回到分光反射镜组处，由分光反射镜组将光反射到焦面检测相机模组，焦面检测相机模组通过采集到的图像质量判断此时曝光基板的位置是否离焦。

关键词：分光反射镜焦面检测曝光基板相机模组无掩模光刻系统投射光刻像面反射感光材料第二区域第一区域光刻成像光束投射实时检测照明模组质量判断镜头光反射离焦采集图像返回焦点检测

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