检索结果-内蒙古大学图书馆

作者：李传 201203 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区张江路18号

本发明提供具有图形的光罩的制造方法，包括：提供设计图形和标准测试图形；采用测试电子束光刻工艺写入所述标准测试图形，生成测试光罩，获取所述测试光罩中的测试图形与标准测试图形之间的位置偏差量；采用实际电子束光刻工艺写入所... 详细信息

标准号: CN111381436B

本发明提供具有图形的光罩的制造方法，包括：提供设计图形和标准测试图形；采用测试电子束光刻工艺写入所述标准测试图形，生成测试光罩，获取所述测试光罩中的测试图形与标准测试图形之间的位置偏差量；采用实际电子束光刻工艺写入所述设计图形，生成具有图形的光罩，且在所述实际电子束光刻工艺过程中，基于获取的所述位置偏差量对所述设计图形进行补偿，以抵消所述实际电子束光刻工艺中的反射电子对电子束位置造成的电子束位置偏移量。本发明提高了光罩中的图形位置精确度和形貌精确度，改善了形成的光罩的质量。

关键词：光罩电子束光刻标准测试图形设计图形电子束位置位置偏差量写入形貌测试图形工艺过程生成测试图形位置测试光偏移量反射抵消测试制造

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光学邻近矫正方法及系统、掩模版、设备与存储介质

光学邻近矫正方法及系统、掩模版、设备与存储介质

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作者：孟阳陈巧丽刘庆炜 201203 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区张江路18号

本发明提供一种光学邻近矫正方法及系统、掩模版、设备与存储介质，所述光学临近矫正的方法包括：本发明提供一种光学临近矫正模型的方法、光学临近矫正系统以及掩膜板，所述光学临近矫正方法包括：提供光学临近矫正模型，所述光学临近... 详细信息

标准号: CN114815494B

本发明提供一种光学邻近矫正方法及系统、掩模版、设备与存储介质，所述光学临近矫正的方法包括：本发明提供一种光学临近矫正模型的方法、光学临近矫正系统以及掩膜板，所述光学临近矫正方法包括：提供光学临近矫正模型，所述光学临近矫正模型采用标准测试图形数据库进行模拟仿真，选取所述测试图形库中的部分测试图形作为基础测试图形，选取所述真实芯片图形数据库中的真实芯片图形；计算所述基础测试图形和真实芯片图形特征向量之间的多级差异；基于多级差异从小到大对备用测试图形进行排序，将排序后小于预设排名的备用测试图形添加到基础测试图形中。

关键词：矫正测试图形基础测试真实芯片排序备用标准测试图形图形数据库存储介质光学邻近矫正系统模拟仿真图形特征掩模版掩膜板向量预设数据库

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光学邻近矫正方法及系统、掩模版、设备与存储介质

光学邻近矫正方法及系统、掩模版、设备与存储介质

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作者：孟阳陈巧丽刘庆炜 201203 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区张江路18号

标准号: CN114815494A

关键词：矫正测试图形基础测试真实芯片排序备用标准测试图形图形数据库存储介质光学邻近矫正系统模拟仿真图形特征掩模版掩膜板向量预设数据库

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基于光学传递函数的头戴显示器图像畸变检测

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激光与光电子学进展 2018年第8期55卷 321-326页

作者：王孝艳刘楚嘉漆宇庄其仁华侨大学信息科学与工程学院福建省光传输与变换重点实验室福建厦门361021

头戴显示器光学系统由于焦距短、视场大而容易产生图像畸变。提出了一种头戴显示器的图像畸变测量方法,采用单位矩阵的傅里叶变换图像作为标准测试图形,应用傅里叶变换分析了头戴显示器光学传递函数与测量图像球面化畸变的关系,得到了... 详细信息

头戴显示器光学系统由于焦距短、视场大而容易产生图像畸变。提出了一种头戴显示器的图像畸变测量方法,采用单位矩阵的傅里叶变换图像作为标准测试图形,应用傅里叶变换分析了头戴显示器光学传递函数与测量图像球面化畸变的关系,得到了形状不变的关系曲线。实验测量了5种头戴显示器的图像球面化畸变,得到的负球面化枕形畸变范围为-22%^-65%。结果表明:头戴显示器的球面化图像畸变量CVR与方格成像实验的畸变量D具有一定的线性关系,且球面化图像畸变量CVR的测量简单,能体现头戴显示器的整体图像畸变程度。该研究结果对头戴显示器的图像显示质量测量具有一定的参考价值。

关键词：测量头戴显示器标准测试图形图像畸变光学传递函数傅里叶变换

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具有图形的光罩的制造方法

具有图形的光罩的制造方法

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作者：李传 201203 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区张江路18号

标准号: CN111381436A

关键词：光罩电子束光刻标准测试图形设计图形电子束位置位置偏差量写入形貌测试图形工艺过程生成测试图形位置测试光偏移量反射抵消测试制造

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