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1 篇
中国科学院微电子...
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北京超弦存储器研...
作者
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朱家强
1 篇
郑为锋
1 篇
关振宇
1 篇
齐月静
1 篇
武志鹏
1 篇
周光迎
1 篇
王丹
1 篇
苏佳妮
1 篇
姜淼
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光刻
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的设计仿真优化方法、系统、电子设备及存储介质
光刻标记的设计仿真优化方法、系统、电子设备及存储介质
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作者:
武志鹏
齐月静
苏佳妮
王丹
姜淼
周光迎
102600 北京市大兴区北京经济技术开发区景园北街52幢5层501-12
本说明书实施例提供了一种光刻
标记
的设计仿真优化方法、系统、设备及存储介质,其中,方法包括:生成关键指标评价模型;新建或读取光刻
标记数据文件
;进行光刻
标记
工艺叠层、光刻
标记
图案设计及光刻
标记
测量设备参数设置;进行工艺扰...
详细信息
标准号: CN118311834A
本说明书实施例提供了一种光刻
标记
的设计仿真优化方法、系统、设备及存储介质,其中,方法包括:生成关键指标评价模型;新建或读取光刻
标记数据文件
;进行光刻
标记
工艺叠层、光刻
标记
图案设计及光刻
标记
测量设备参数设置;进行工艺扰动参数和范围、关键指标评价模型、关键指标优化参数以及计算设备硬件参数设置;通过关键指标评价模型用于将光刻
标记
设计质量和工艺适应性的多项关键技术指标进行综合评估,生成关键指标评价结果,在满足设定阈值的情况下,保存光刻
标记数据文件
,生成光刻
标记
版图
文件
;针对工艺叠层设计、
标记
图案设计、测量设备参数的优化流程,利用关键技术指标评价模型的关键指标评价结果对上述设计参数进行全局优化。
关键词:
光刻
关键指标
评价模型
标记数据文件
关键技术指标
标记
图案
设备参数设置
工艺适应性
版图
文件
标记
测量
标记
工艺
标记
设计
测量设备
存储介质
叠层设计
计算设备
全局优化
扰动参数
设计参数
设计仿真
硬件参数
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综合评估
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叠层
优化
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处理方法、装置、电子设备、存储介质及程序产品
数据处理方法、装置、电子设备、存储介质及程序产品
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作者:
关振宇
朱家强
郑为锋
100094 北京市海淀区北清路中关村壹号D1座12层
本公开实施例公开了一种
数据
处理方法、装置、电子设备、存储介质及程序产品,所述方法包括:检测目标
文件
是否被操作;当检测到所述目标
文件
被操作时,获取目标
文件
操作时间;将所述目标
文件
操作时间发送给
数据
仓库组件,以使所述
数据
...
详细信息
标准号: CN113742410A
本公开实施例公开了一种
数据
处理方法、装置、电子设备、存储介质及程序产品,所述方法包括:检测目标
文件
是否被操作;当检测到所述目标
文件
被操作时,获取目标
文件
操作时间;将所述目标
文件
操作时间发送给
数据
仓库组件,以使所述
数据
仓库组件对于所述目标
文件
操作时间进行存储。该技术方案无需增加一个时间字段来
标记数据文件
的加工时间,从而降低了操作复杂度、人工工作量和
数据
存储量,避免了时间字段的显式编程加工,进而减小了
数据
仓库的存储压力。
关键词:
目标
文件
数据
仓库组件
字段
标记数据文件
操作复杂度
人工工作量
数据
存储量
程序产品
存储介质
存储压力
电子设备
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仓库
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