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文献类型

  • 1 篇 会议

馆藏范围

  • 1 篇 电子文献
  • 0 种 纸本馆藏

日期分布

学科分类号

  • 1 篇 工学
    • 1 篇 材料科学与工程(可...
    • 1 篇 电子科学与技术(可...

主题

  • 1 篇 掩模形变
  • 1 篇 半导体器件
  • 1 篇 x射线掩模
  • 1 篇 x射线光刻
  • 1 篇 光刻技术
  • 1 篇 深亚微米t型栅

机构

  • 1 篇 中国科学院微电子...

作者

  • 1 篇 李兵
  • 1 篇 谢常青
  • 1 篇 胥兴才
  • 1 篇 陈大鹏
  • 1 篇 赵玲利
  • 1 篇 孙加兴
  • 1 篇 叶甜春

语言

  • 1 篇 中文
检索条件"主题词=深亚微米T型栅"
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排序:
X射线光刻技术制作深亚微米t型栅的实用化研究
X射线光刻技术制作深亚微米T型栅的实用化研究
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第十二届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议
作者: 谢常青 陈大鹏 李兵 孙加兴 赵玲利 胥兴才 叶甜春 中国科学院微电子中心(北京)
本文首先简要介绍了国际上X射线光刻技术在GaAs器件及电路制造中的研究进展情况,再对目前国内X射线光刻技术的研究状况进行了较为详细的介绍,其中重点论述了亚微米X射线掩模的研制、亚微米X射线光刻系统的优化设计、掩模形变的模拟... 详细信息
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