检索结果-内蒙古大学图书馆

您好，读者！请登录

内蒙古大学图书馆

首页
概况
党建
资源
服务
科研支持
- 论文收录引用证明
- 科技查新
知识产权
档案馆
帮助

咨询与建议

建议与咨询留下您的常用邮箱和电话号码，以便我们向您反馈解决方案和替代方法

您的常用邮箱：*

您的手机号码：*

问题描述：

当前已输入0个字，您还可以输入200个字

全部搜索
期刊论文
图书
学位论文
标准
纸本馆藏
外文资源发现
数据库导航
超星发现

高级检索

时间限定

出版年份：

文献类型

图书期刊文献学位论文多媒体

馆藏选择

电子馆藏纸本馆藏

核心期刊

全部期刊 SCI 收录期刊 SSCI 收录期刊 EI 收录期刊 CSCD 收录期刊 CSSCI 收录期刊

语言

中文英文

文献类型

期刊文献图书学位论文标准纸本馆藏

帮助

文字说明：

T=题名（书名、题名），A=作者（责任者），K=主题词，P=出版物名称，PU=出版社名称，O=机构（作者单位、学位授予单位、专利申请人），L=中图分类号，C=学科分类号，U=全部字段，Y=年（出版发行年、学位年度、标准发布年）

检索规则说明：

AND代表“并且”；OR代表“或者”；NOT代表“不包含”；(注意必须大写,运算符两边需空一格)

检索范例：

范例一：(K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 AND Y=1982-2016
范例二：P=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT K=Visual AND Y=2011-2016

分类表

所选分类

>> <<

限定检索结果

文献类型

48 篇 专利

馆藏范围

48 篇 电子文献
0 种 纸本馆藏

日期分布

机构

5 篇 大连理工大学
5 篇 中国科学院金属研...
5 篇 苏州艾钛科纳米科...
4 篇 广东工业大学
3 篇 西安浩元航空科技...
2 篇 西安交通大学
2 篇 沈阳乐贝真空技术...
2 篇 天津职业技术师范...
2 篇 西北工业大学
2 篇 中国兵器工业第五...
2 篇 大连理工常州研究...
1 篇 无锡乾泰新材料科...
1 篇 东莞市创明电池技...
1 篇 武汉理工大学
1 篇 株式会社神户制钢...
1 篇 沈阳工业大学
1 篇 常州夸克涂层科技...
1 篇 北京师范大学
1 篇 西北有色金属研究...
1 篇 阳江拓必拓工业技...

作者

7 篇 林国强
6 篇 杜昊
6 篇 赵彦辉
6 篇 刘伟
5 篇 刘俊红
5 篇 郎文昌
5 篇 马胜利
4 篇 宋贵宏
4 篇 陈健
4 篇 刘汝德
4 篇 陈少华
4 篇 邓欣
4 篇 伍尚华
4 篇 何福坡
3 篇 华伟刚
3 篇 曲士广
3 篇 肖金泉
3 篇 熊天英
2 篇 陈晓琴
2 篇 魏科科

语言

48 篇 中文

检索条件"主题词=电弧离子镀设备"

共 48 条记录，以下是1-10 订阅

全选清除本页清除全部题录导出标记到"检索档案"

详细简洁

排序：

电弧离子镀设备

电弧离子镀设备

引用

作者：唐道远杨敏汤全丰陈福平 200336 上海市长宁区兴义路8号30层

本实用新型提供一种电弧离子镀设备，所述电弧离子镀设备包括：真空腔室；若干个电弧蒸发源，所述电弧蒸发源设置于所述真空腔室的侧壁，沿侧壁的周向设置；若干对竖向设置的电极对，所述电极对设置于相邻的两个所述电弧蒸发源的间隙空... 详细信息

标准号: CN219907829U

本实用新型提供一种电弧离子镀设备，所述电弧离子镀设备包括：真空腔室；若干个电弧蒸发源，所述电弧蒸发源设置于所述真空腔室的侧壁，沿侧壁的周向设置；若干对竖向设置的电极对，所述电极对设置于相邻的两个所述电弧蒸发源的间隙空间位置；旋转底座，所述旋转底座与镀膜工件的安装座连接，所述旋转底座以所述真空腔室的中心轴为旋转轴进行旋转。电弧离子镀设备通过在弧靶两侧引入电极对，能够有效的对镀膜过程中产生的大熔滴颗粒进行轰击，使其脱离膜层表面，可实现对镀膜工件的均匀镀膜。

关键词：电弧离子镀设备电弧蒸发源旋转底座真空腔室镀膜工件电极侧壁本实用新型镀膜过程间隙空间均匀镀膜膜层表面竖向设置引入电极周向设置安装座旋转轴中心轴熔滴轰击脱离

来源：评论

学校读者我要写书评

暂无评论

电弧离子镀设备

电弧离子镀设备

引用

作者：玉垣浩藤井博文冲本忠雄宫本僚次日本兵库县神户市

一种电弧离子镀设备包括：真空室、用于使基质在真空室内垂直于其高度方向进行移动的旋转台、用于通过金属离子清洁基质表面的用于进行轰击的电弧蒸发源和用于在所述基质表面上沉积金属离子的沉积组电弧蒸发源。所述沉积组电弧蒸发源包... 详细信息

标准号: CN1952205B

一种电弧离子镀设备包括：真空室、用于使基质在真空室内垂直于其高度方向进行移动的旋转台、用于通过金属离子清洁基质表面的用于进行轰击的电弧蒸发源和用于在所述基质表面上沉积金属离子的沉积组电弧蒸发源。所述沉积组电弧蒸发源包括相对于被设定在所述旋转台上的所述基质进行布置的多个蒸发源，且所述用于进行轰击的电弧蒸发源相对于所述基质进行布置，并且成形以使得其在真空室高度方向上的长度等于沉积组电弧蒸发源的上端和下端之间的长度。根据这种结构，在进行轰击时几乎不能在基质中产生温度过度升高或在基质上发生异常放电，由此导致工艺可控性得到改进。

关键词：蒸发源电弧基质沉积电弧离子镀设备沉积金属离子真空室高度基质表面金属离子清洁基质异常放电旋转台真空室上端成形下端旋转

来源：评论

学校读者我要写书评

暂无评论

离子束稳流装置及电弧离子镀设备

离子束稳流装置及电弧离子镀设备

引用

作者：廖斌欧阳潇陈琳罗军英敏菊庞盼 100875 北京市海淀区新街口外大街19号

本发明公开一种离子束稳流装置，包括弧电源、阴极组件以及触发组件，其中，弧电源的正极接地；阴极组件包括阴极靶材和靶材座，靶材座处还设置永磁体；触发组件包括触发电极、触发针和辅助阳极板。弧电源在靶材座和触发电极施加电压，... 详细信息

标准号: CN116949403A

本发明公开一种离子束稳流装置，包括弧电源、阴极组件以及触发组件，其中，弧电源的正极接地；阴极组件包括阴极靶材和靶材座，靶材座处还设置永磁体；触发组件包括触发电极、触发针和辅助阳极板。弧电源在靶材座和触发电极施加电压，使触发针与阴极靶材接触形成短路，瞬间形成电弧，在电弧中形成等离子体，电弧斑在阴极靶材表面移动；辅助阳极板接地，当电弧斑运动至阴极靶材边缘时，由于辅助阳极板的电位较阴极靶材的电位高，电弧斑返回阴极靶材中心，从而避免电弧斑落在阴极靶材的侧面而导致灭弧。本发明还提供一种电弧离子镀设备，包含上述的离子束稳流装置，提高离子束稳定性，进而提升电弧离子镀质量。

关键词：阴极靶材电弧斑弧电源离子束阳极板靶材电弧电位触发电极触发组件稳流装置阴极组件触发针等离子体电弧离子镀设备电弧离子镀表面移动施加电压正极接地接地永磁体短路灭弧侧面返回

来源：评论

学校读者我要写书评

暂无评论

一种提高薄膜沉积质量的电弧离子镀设备

一种提高薄膜沉积质量的电弧离子镀设备

引用

作者：刘若岚 650000 云南省昆明市中国(云南)自由贸易试验区昆明片区官渡区高原明珠五金机电商城C9-C10幢C10-12号

本实用新型公开了一种提高薄膜沉积质量的电弧离子镀设备，包括设备主体，所述设备主体的内部设置有电机，所述电机的上端外表面设置有转台，所述转台的上端外表面设置有液压柱和底座。通过在转台的上端外表面设置有液压柱，连接板通过... 详细信息

标准号: CN214782102U

本实用新型公开了一种提高薄膜沉积质量的电弧离子镀设备，包括设备主体，所述设备主体的内部设置有电机，所述电机的上端外表面设置有转台，所述转台的上端外表面设置有液压柱和底座。通过在转台的上端外表面设置有液压柱，连接板通过液压柱与转台活动连接，连接板一号固定板之间设置有滑轨，连接板和固定板通过滑轨活动连接，液压柱伸出抬起固定板及立柱等，再通过滑轨将固定板和立柱等拉出设备主体之外，扩大的使用者的活动空间，从而便于放料和取料，通过在立柱的侧端外表面设置挂钩，不仅有利于钩挂工件，还有利于安装料盘，料盘通过通孔与挂钩活动连接，通过挂钩调整料盘之间的摆放间距，使料盘便于承载各种形状各异和大小不同的工件。

关键词：转台固定板液压柱料盘上端外表面活动连接设备主体连接板滑轨立柱挂钩电机电弧离子镀设备本实用新型薄膜沉积活动空间内部设置形状各异侧端放料钩挂拉出取料抬起通孔底座摆放承载伸出

来源：评论

学校读者我要写书评

暂无评论

一种电弧离子镀设备的双靶结构

一种电弧离子镀设备的双靶结构

引用

作者：蒋孝文刘朋 214000 江苏省无锡市惠山区钱桥街道东风社区锡杨线

本实用新型公开了一种电弧离子镀设备的双靶结构，涉及电弧离子镀技术领域。本实用新型包括外壳，外壳的外部设置有连接壳，连接壳的内侧设置有位置调节组件，位置调节组件包括滑轨，滑轨固定连接在连接壳的内侧，滑轨的内侧滑动连接有... 详细信息

标准号: CN217839108U

本实用新型公开了一种电弧离子镀设备的双靶结构，涉及电弧离子镀技术领域。本实用新型包括外壳，外壳的外部设置有连接壳，连接壳的内侧设置有位置调节组件，位置调节组件包括滑轨，滑轨固定连接在连接壳的内侧，滑轨的内侧滑动连接有连接板，连接板的外部固定连接有螺纹块，螺纹块的外部螺纹连接有螺杆，螺杆的外部固定连接有固定齿轮。本实用新型通过位置调节组件的作用下，通过螺杆与螺纹块的作用下可以使得连接板运动，进而使得在产品需要进行多种复合膜镀层时，可以使用不同的靶材，进而可以使得复合膜从两种材料扩展到四种材料，进而操作者不需要进行多次更换靶材的时间，这样不仅减轻了操作者的劳动强度，同时提高了工作效率。

关键词：位置调节组件本实用新型连接板连接壳螺纹块滑轨螺杆复合膜靶材外部电弧离子镀技术电弧离子镀设备工作效率固定齿轮滑动连接螺纹连接外部设置镀层双靶

来源：评论

学校读者我要写书评

暂无评论

一种电弧离子镀设备的双靶结构

一种电弧离子镀设备的双靶结构

引用

作者：卢国英石昌仑石武昌兰睿 225600 江苏省常州市武进区常州科教城大连理工常州研究院C104室

本实用新型公开了一种电弧离子镀设备的双靶结构。在一个蒸发源法兰设置两个靶位，在两个靶位中间，设置一台弧电源，即同一个蒸发源共用一台弧电源。涂层相同的涂层厚度，比如涂层厚度3微米，涂层时候从360min缩短到200min；可以扩展... 详细信息

标准号: CN205803583U

本实用新型公开了一种电弧离子镀设备的双靶结构。在一个蒸发源法兰设置两个靶位，在两个靶位中间，设置一台弧电源，即同一个蒸发源共用一台弧电源。涂层相同的涂层厚度，比如涂层厚度3微米，涂层时候从360min缩短到200min；可以扩展涂层种类，复合膜从2种材料扩展到4种材料；可以减少更换靶材的时间，提高工作效率。

关键词：蒸发源靶位台弧电源电弧离子镀设备本实用新型工作效率复合膜靶材法兰双靶

来源：评论

学校读者我要写书评

暂无评论

一种等离子体增强制备精密涂层的电弧离子镀设备

一种等离子体增强制备精密涂层的电弧离子镀设备

引用

作者：林国强韩治昀魏科科 213164 江苏省常州市武进区常武中路801号常州科教城

一种等离子体增强制备精密涂层的电弧离子镀设备，属于材料表面改性技术领域，该设备中，包括真空腔室，真空腔室底部活动安装有旋转平台，旋转平台上放置工件，旋转平台与工件偏压电源负极相连，旋转平台与真空腔室绝缘，工件偏压电源... 详细信息

标准号: CN204434722U

一种等离子体增强制备精密涂层的电弧离子镀设备，属于材料表面改性技术领域，该设备中，包括真空腔室，真空腔室底部活动安装有旋转平台，旋转平台上放置工件，旋转平台与工件偏压电源负极相连，旋转平台与真空腔室绝缘，工件偏压电源正极与真空腔室相连；真空腔室壁上固定安装有热丝装置，热丝装置的负极与热丝偏压电源负极相连，热丝偏压电源正极与真空腔室相连，热丝装置与真空腔室绝缘；所述真空腔室上固定安装有增强过滤阴极弧源；在同一设备同一数量级气压条件下连续进行离子渗氮及电弧离子镀膜的工艺，采用双级磁场线圈结构的增强过滤阴极弧源，使用高密度的Ar离子轰击硬质薄膜层，进一步磨平薄膜中的粗糙颗粒，提高层间结合力和致密度。

关键词：真空腔室负极旋转平台丝装置正极工件偏压电源过滤阴极弧源偏压电源绝缘等离子体电弧离子镀设备材料表面改性电弧离子镀膜有旋转平台磁场线圈粗糙颗粒底部活动精密涂层离子轰击离子渗氮气压条件薄膜层高密度结合力致密度固定磨平双级硬质薄膜

来源：评论

学校读者我要写书评

暂无评论

一种沉积管内壁涂层的电弧离子镀设备

一种沉积管内壁涂层的电弧离子镀设备

引用

作者：华伟刚曲士广 264003 山东省烟台市莱山区盛泉工业园富明路9号

本实用新型属于管内壁薄膜沉积领域，具体来讲是一种沉积管内壁涂层的电弧离子镀设备。该设备包括置于真空室内的管状等离子靶材，管状真空聚焦永磁体，等离子弧引弧装置，其中，管状等离子靶材的两端通过绝缘密封法兰与真空室壳连接上... 详细信息

标准号: CN207047312U

本实用新型属于管内壁薄膜沉积领域，具体来讲是一种沉积管内壁涂层的电弧离子镀设备。该设备包括置于真空室内的管状等离子靶材，管状真空聚焦永磁体，等离子弧引弧装置，其中，管状等离子靶材的两端通过绝缘密封法兰与真空室壳连接上，管状工件非接触套于管状等离子靶材上，两组以上的管状真空聚焦永磁体在管状等离子靶材管内沿管向按反向磁极顺序排放，聚焦控制分布电弧，离化弧靶材料。本实用新型可将镀膜材料的阴离子导入到管内壁更深的区域。本实用新型解决电弧离子镀沉积深管内壁深度不够、涂层不均匀的难题，提出一种在现有电弧离子镀技术的基础上制作简单、成本低廉、易于实施的设计思路，拓展电弧离子镀技术在沉积管内壁方面的应用范围。

关键词：等离子靶材本实用新型电弧离子镀技术管状真空沉积管管内壁永磁体聚焦电弧离子镀设备绝缘密封法兰电弧电弧离子镀薄膜沉积磁极顺序等离子弧镀膜材料管状工件聚焦控制内壁涂层深管内壁引弧装置真空室壳靶材料不均匀非接触阴离子管内离化两组内壁沉积室内排放拓展制作应用

来源：评论

学校读者我要写书评

暂无评论

一种电弧离子镀设备

一种电弧离子镀设备

引用

作者：杜昊赵彦辉肖金泉宋贵宏熊天英 110016 辽宁省沈阳市沈河区文化路72号

本实用新型涉及薄膜和涂层制备领域，为一种用以在长管内表面和深孔器件孔内壁沉积薄膜或涂层的电弧离子镀设备，该电弧离子镀设备设有三套磁场发生装置，对阴极靶发射的金属离子流进行聚束的第一磁场发生装置，在真空室外与阴极靶后面... 详细信息

标准号: CN202072760U

本实用新型涉及薄膜和涂层制备领域，为一种用以在长管内表面和深孔器件孔内壁沉积薄膜或涂层的电弧离子镀设备，该电弧离子镀设备设有三套磁场发生装置，对阴极靶发射的金属离子流进行聚束的第一磁场发生装置，在真空室外与阴极靶后面对应的位置；对金属离子流进行聚束的第二磁场发生装置，设置在真空室内阴极靶与工件之间，将已聚束金属离子流发散并向长管内表面或深孔内壁高速运动的第三磁场发生装置，设置于真空室内工件的外周，脉冲偏压电源，于对向长管内表面或深孔内壁运动的金属离子进一步加速，本实用新型解决了在长管内表面和深孔器件孔内壁沉积薄膜或涂层的技术难题；保证了薄膜或涂层的均匀性和质量，减少了所沉积薄膜或涂层中大颗粒的含量。

关键词：磁场发生装置金属离子内表面长管深孔阴极沉积薄膜聚束电弧离子镀设备孔内内壁薄膜脉冲偏压电源高速运动技术难题涂层制备大颗粒均匀性发散外周室外发射

来源：评论

学校读者我要写书评

暂无评论

一种沉积管内壁涂层的电弧离子镀设备

一种沉积管内壁涂层的电弧离子镀设备

引用

作者：华伟刚曲士广 264003 山东省烟台市莱山区盛泉工业园富明路9号

本发明属于管内壁薄膜沉积领域，具体来讲是一种沉积管内壁涂层的电弧离子镀设备。该设备包括置于真空室内的管状等离子靶材，管状真空聚焦永磁体，等离子弧引弧装置，其中，管状等离子靶材的两端通过绝缘密封法兰与真空室壳连接上，管... 详细信息

标准号: CN107227445B

本发明属于管内壁薄膜沉积领域，具体来讲是一种沉积管内壁涂层的电弧离子镀设备。该设备包括置于真空室内的管状等离子靶材，管状真空聚焦永磁体，等离子弧引弧装置，其中，管状等离子靶材的两端通过绝缘密封法兰与真空室壳连接上，管状工件非接触套于管状等离子靶材上，两组以上的管状真空聚焦永磁体在管状等离子靶材管内沿管向按反向磁极顺序排放，聚焦控制分布电弧，离化弧靶材料。本发明可将镀膜材料的阴离子导入到管内壁更深的区域。本发明解决电弧离子镀沉积深管内壁深度不够、涂层不均匀的难题，提出一种在现有电弧离子镀技术的基础上制作简单、成本低廉、易于实施的设计思路，拓展电弧离子镀技术在沉积管内壁方面的应用范围。

关键词：等离子靶材电弧离子镀技术管状真空沉积管管内壁永磁体聚焦电弧离子镀设备绝缘密封法兰电弧电弧离子镀薄膜沉积磁极顺序等离子弧镀膜材料管状工件聚焦控制内壁涂层深管内壁引弧装置真空室壳靶材料不均匀非接触阴离子管内离化两组内壁沉积室内排放拓展制作应用

来源：评论

学校读者我要写书评

暂无评论

没有更多数据了...

全选清除本页清除全部题录导出标记到“检索档案”

共5页 << < 1 2 3 4 5 > >>

检索报告对象比较合并检索0

隐藏清空

合并搜索

回到顶部

执行限定条件

内容：

评分：

请选择保存的检索档案：

请选择收藏分类：

订阅名称：

通借通还

温馨提示：

图书名称：

借书校区：

取书校区：

手机号码：

邮箱地址：

一卡通帐号：

电话和邮箱必须正确填写，我们会与您联系确认。

联系人：

所在院系：

联系邮箱：

联系电话：

内蒙古自治区呼和浩特市赛罕区大学西街235号邮编: 010021

建议与咨询 留下您的常用邮箱和电话号码，以便我们向您反馈解决方案和替代方法

时间限定

文献类型

馆藏选择

核心期刊

语言

文献类型

帮助

文字说明：

检索规则说明：

检索范例：

分类表

所选分类

限定检索结果

文献类型

馆藏范围

日期分布

机构

作者

语言

请选择保存的检索档案： 新增检索档案 确定 取消

请选择收藏分类： 新增自定义分类 确定 取消

通借通还

建议与咨询留下您的常用邮箱和电话号码，以便我们向您反馈解决方案和替代方法

请选择保存的检索档案：

请选择收藏分类：