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文字说明：

T=题名（书名、题名），A=作者（责任者），K=主题词，P=出版物名称，PU=出版社名称，O=机构（作者单位、学位授予单位、专利申请人），L=中图分类号，C=学科分类号，U=全部字段，Y=年（出版发行年、学位年度、标准发布年）

检索规则说明：

AND代表“并且”；OR代表“或者”；NOT代表“不包含”；(注意必须大写,运算符两边需空一格)

检索范例：

范例一：(K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 AND Y=1982-2016
范例二：P=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT K=Visual AND Y=2011-2016

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文献类型

1,322 篇 专利

馆藏范围

1,322 篇 电子文献
0 种 纸本馆藏

日期分布

机构

188 篇 中芯国际集成电路...
68 篇 上海华力微电子有...
45 篇 腾讯科技有限公司
42 篇 上海华力集成电路...
37 篇 北京理工大学
30 篇 维沃移动通信有限...
28 篇 长鑫存储技术有限...
11 篇 中国科学院上海光...
11 篇 网易网络有限公司
11 篇 珠海格力电器股份...
10 篇 北京达佳互联信息...
10 篇 合肥本源量子计算...
10 篇 合肥晶合集成电路...
10 篇 华为技术有限公司
9 篇 中国科学院微电子...
9 篇 京东方科技集团股...
9 篇 阿里巴巴集团控股...
8 篇 北京百度网讯科技...
7 篇 中国科学院光电技...
7 篇 北京字节跳动网络...

作者

44 篇 魏芳
35 篇 何大权
32 篇 金吉松
30 篇 张旭升
30 篇 李艳秋
27 篇 朱骏
26 篇 马旭
24 篇 张海洋
24 篇 请求不公布姓名
21 篇 于世瑞
18 篇 杜杳隽
16 篇 张辰明
16 篇 张迎春
16 篇 陈翰
15 篇 郑二虎
14 篇 吕煜坤
12 篇 董立松
11 篇 王向朝
11 篇 李思坤
11 篇 覃柳莎

语言

1,322 篇 中文

检索条件"主题词=目标图形"

共 1322 条记录，以下是1-10 订阅

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详细简洁

排序：

目标图形修正、掩膜版制作及半导体结构形成的方法

目标图形修正、掩膜版制作及半导体结构形成的方法

引用

作者：王占雨舒强覃柳莎张迎春 201203 上海市浦东新区张江路18号

一种目标图形的修正方法、掩膜版的制作方法以及半导体结构的形成方法，其中目标图形的修正方法包括：提供目标图形，且所述目标图形沿第一方向延伸；将所述目标图形划分为一个第一中心区以及分别位于所述第一中心区两侧的两个第一边缘... 详细信息

标准号: CN113093469A

一种目标图形的修正方法、掩膜版的制作方法以及半导体结构的形成方法，其中目标图形的修正方法包括：提供目标图形，且所述目标图形沿第一方向延伸；将所述目标图形划分为一个第一中心区以及分别位于所述第一中心区两侧的两个第一边缘区；将各所述第一边缘区的目标图形的边缘分割为若干待补偿边；获取刻蚀偏移模型；根据刻蚀偏移模型对每个待补偿边分别进行第一补偿修正，得到第一补偿边。所述方法有利于提高蚀刻后得到的图形尺寸的均一性。

关键词：目标图形偏移模型边缘区中心区刻蚀蚀刻半导体结构修正边缘分割补偿修正方向延伸均一性掩膜版制作

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目标图形的绘制方法和装置、存储介质及电子设备

目标图形的绘制方法和装置、存储介质及电子设备

引用

作者：李彦祯于洪真薛长青刘强 250000 山东省济南市高新区港西路2177号港盛大厦4层401室

本申请实施例提供了一种目标图形的绘制方法和装置、存储介质及电子设备，其中，该方法包括：获取待连线的第一数据点组合，其中，第一数据点组合包括：开始点、多个中间点、结束点，开始点是第一图形元件的第一引脚的坐标点，结束点是... 详细信息

标准号: CN117933182A

本申请实施例提供了一种目标图形的绘制方法和装置、存储介质及电子设备，其中，该方法包括：获取待连线的第一数据点组合，其中，第一数据点组合包括：开始点、多个中间点、结束点，开始点是第一图形元件的第一引脚的坐标点，结束点是第二图形元件的第二引脚的坐标点，多个中间点是从第一引脚向第二引脚连线的过渡坐标点；按照预设绘制规则调整第一数据点组合中的坐标点的坐标值，得到第二数据点组合；通过目标绘制函数绘制第二数据点组合对应的目标图形，其中，目标图形是第一图形元件和第二图形元件之间的连线。解决了量子芯片绘图布线方法多为纯人工布线，主要是通过KLayout基本绘图软件进行线段和弧线多次尝试实现拼接，效率很低的问题。

关键词：图形元件坐标点引脚第一数据目标图形绘制连线开始点数据点中间点线段方法和装置存储介质电子设备规则调整绘图软件人工布线绘图布弧线预设量子拼接芯片申请

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一种目标图形码识别方法和装置

一种目标图形码识别方法和装置

引用

作者：郭一贤陈俊夫英属开曼群岛大开曼资本大厦一座四层847号邮箱

本申请公开了一种目标图形码识别方法和装置，该方法包括：若图形码识别区域的目标图像中包括至少两个图形码，分别为至少两个图形码中的任一图形码添加可触发控件，进而通过响应对至少两个图形码中的目标图形码对应的可触发控件的触发... 详细信息

标准号: CN111860011A

本申请公开了一种目标图形码识别方法和装置，该方法包括：若图形码识别区域的目标图像中包括至少两个图形码，分别为至少两个图形码中的任一图形码添加可触发控件，进而通过响应对至少两个图形码中的目标图形码对应的可触发控件的触发操作，实现对目标图像中的至少两个图形码中的目标图形码的识别。

关键词：图形码目标图形目标图像触发控件方法和装置触发操作响应申请

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用户界面自动化中的自动锚点确定和目标图形元素标识

用户界面自动化中的自动锚点确定和目标图形元素标识

引用

作者： C·沃伊库美国纽约州

公开了用于用户界面(UI)自动化中的目标图形元素标识的自动锚点确定。基于上下文的机制有助于在重复的目标UI元素候选之间进行区分。更具体地，可以针对提供上下文并且在目标周围的区域中可见的目标UI元素确定并且自动添加附加锚点。在... 详细信息

标准号: CN114868109B

公开了用于用户界面(UI)自动化中的目标图形元素标识的自动锚点确定。基于上下文的机制有助于在重复的目标UI元素候选之间进行区分。更具体地，可以针对提供上下文并且在目标周围的区域中可见的目标UI元素确定并且自动添加附加锚点。在设计时间的期间，目标UI元素可以由设计器应用的用户指示并且对应的锚点可以被确定。当UI元素对被发现与目标锚点对具有相同或相似的特性和/或关系时，无需请求用户输入即可自动标识附加锚点。附加锚点可以从目标UI元素的半径内的UI元素中被选择。

关键词：锚点目标图形请求用户用户界面用户指示元素标识自动标识自动添加设计器自动化重复应用发现

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一种目标图形的确定方法、装置、电子设备及存储介质

一种目标图形的确定方法、装置、电子设备及存储介质

引用

作者：请求不公布姓名请求不公布姓名 310051 浙江省杭州市滨江区西兴街道丹枫路399号3号楼11层

本申请提供了一种目标图形的确定方法、装置、电子设备及存储介质，涉及数据处理领域，该方法包括：获得目标图形组，并基于目标图形组中的多个顶点的第一标识确定多个候选区域和候选区域的第二标识，目标图形组包含版图中分别属于不同... 详细信息

标准号: CN117556781A

本申请提供了一种目标图形的确定方法、装置、电子设备及存储介质，涉及数据处理领域，该方法包括：获得目标图形组，并基于目标图形组中的多个顶点的第一标识确定多个候选区域和候选区域的第二标识，目标图形组包含版图中分别属于不同图层的两个图形和图形中每个顶点的第一标识，第一标识指示顶点所在区域的图形变化，第二标识表征候选区域的图形数量；基于多个候选区域的第二标识、所有第一标识和第一映射关系确定目标区域和目标区域每个顶点的第一标识；基于目标区域和目标区域每个顶点的第一标识确定目标图形，解决目前对不同图层中的不同图形进行布尔运算的时间过长，无法直接应用在高性能计算工具设计中的问题。

关键词：目标图形候选区域目标区域标识确定图层数据处理领域高性能计算标识指示布尔运算存储介质电子设备工具设计所在区域图形变化映射关系申请应用

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目标图形的修正方法

目标图形的修正方法

引用

作者：杜杳隽李亮 201203 上海市浦东新区张江路18号

一种目标图形的修正方法，包括：提供目标图形，将目标图形的轮廓分割为多个边缘；对目标图形进行光学邻近修正获取掩模版图形；对掩模板图形进行光学模拟，获得模拟曝光图形，检测模拟曝光图形上是否存在弱点；当存在弱点时，基于所述... 详细信息

标准号: CN107797375A

一种目标图形的修正方法，包括：提供目标图形，将目标图形的轮廓分割为多个边缘；对目标图形进行光学邻近修正获取掩模版图形；对掩模板图形进行光学模拟，获得模拟曝光图形，检测模拟曝光图形上是否存在弱点；当存在弱点时，基于所述弱点在目标图形中确定修正窗口，将所述修正窗口内的目标图形与所述模拟曝光图形对应区域的图形进行对比，获得修正窗口内每个边缘的位置误差，计算修正窗口内每个边缘的修正量对修正窗口内所有边缘的位置误差产生的影响，确定每个边缘的修正量，根据每个边缘的修正量对目标图形进行修正。本发明实施例的修正方法能够解决问题性光刻工艺版图设计所引起的冲突性误差的问题，节省运算时间且有效地消除冲突性弱点。

关键词：目标图形修正模拟曝光图形修正量位置误差光学邻近修正掩模板图形掩模版图形版图设计光刻工艺光学模拟节省运算轮廓分割消除冲突问题性有效地检测冲突

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一种目标图形的确定方法、装置、电子设备及存储介质

一种目标图形的确定方法、装置、电子设备及存储介质

引用

作者：请求不公布姓名请求不公布姓名 310051 浙江省杭州市滨江区西兴街道丹枫路399号3号楼11层

标准号: CN117556781B

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一种快速检测目标图形的检测装置及方法

一种快速检测目标图形的检测装置及方法

引用

作者：曾夕温建新 201203 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区芳春路400号1幢3层

本发明公开了一种快速检测目标图形的检测装置，包括图像传感器、信号处理器和智能算法模块，所述图像传感器采集的图像同时传输至所述信号处理器和智能算法模块，所述智能算法模块对图像进行检测，并将检测结果传输至所述信号处理器，... 详细信息

标准号: CN111553262B

本发明公开了一种快速检测目标图形的检测装置，包括图像传感器、信号处理器和智能算法模块，所述图像传感器采集的图像同时传输至所述信号处理器和智能算法模块，所述智能算法模块对图像进行检测，并将检测结果传输至所述信号处理器，所述信号处理器控制所述图像传感器在高帧率模式或者高清晰模式下工作。本发明提供的一种快速检测目标图形的检测装置及方法，使得图像传感器能够在高帧率模式和高清晰模式两种模式中互换，将整个检测过程分为预检测和精检测，既能确保检测准确性，还能提高检测速率。

关键词：图像传感器信号处理器检测智能算法检测装置快速检测目标图形帧率模式高清晰图像检测结果传输互换采集

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一种模拟凹角目标图形生成的优化方法

一种模拟凹角目标图形生成的优化方法

引用

作者：何怡飞张辰明陈翰 201203 上海市浦东新区康桥东路298号1幢1060室

本发明提供一种模拟凹角目标图形生成的优化方法，将整体版图作为输入，对L型拐角图形进行偏移和合并生成第一目标图形；进行偏移操作后生成第二目标图形；将第一目标图形和第二目标图形作异或运算，判断L型拐角图形是否产生异常穿透；... 详细信息

标准号: CN111474820B

本发明提供一种模拟凹角目标图形生成的优化方法，将整体版图作为输入，对L型拐角图形进行偏移和合并生成第一目标图形；进行偏移操作后生成第二目标图形；将第一目标图形和第二目标图形作异或运算，判断L型拐角图形是否产生异常穿透；根据异常穿透产生的位置，在第一目标图形添加补充图形生成优化后的目标图形；对优化后的目标图形进行OPC修正。本发明有效计算出异常穿透的位置和间距，从而准确在异常穿透处添加补充图形，消除了异常穿透对目标图形的影响后进行OPC修正，OPC修正后实现最终优化，降低了工艺风险。

关键词：目标图形穿透拐角图形优化偏移操作图形生成异或运算有效计算穿透的偏移凹角补充合并

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一种光刻热点识别方法、目标图形组合的查找方法

一种光刻热点识别方法、目标图形组合的查找方法

引用

作者：万晶杨璐丹瞿屹超 201311 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区临港新片区环湖西二路888号C楼

本发明公开了一种光刻热点识别方法，在版图上找到目标图形组合；包括采用第一、第二掩膜分别形成的位于同一金属层的第一、第二金属连线以及连接第二金属连线的金属通孔；第二金属连线的两侧各分布有与其平行的第一金属连线，且第一金... 详细信息

标准号: CN116644709B

本发明公开了一种光刻热点识别方法，在版图上找到目标图形组合；包括采用第一、第二掩膜分别形成的位于同一金属层的第一、第二金属连线以及连接第二金属连线的金属通孔；第二金属连线的两侧各分布有与其平行的第一金属连线，且第一金属连线与第二金属连线在垂直于延伸方向上的距离均满足预设距离范围s；位于第二金属连线两侧的其中一根第一金属连线的左端部在金属通孔上形成第一投影，另一根第一金属连线的右端部在金属通孔上形成第二投影，第一投影和第二投影在第一方向上的长度均满足预设长度范围d，金属通孔识别为光刻热点。还提供了一种目标图形组合的查找方法。可用于在大量的版图数据中进行搜索和定位光刻通孔热点，提前预知可能的风险。

关键词：金属连线金属通孔投影光刻目标图形版图数据热点识别预设距离金属层右端部左端部可用通孔掩膜预设平行垂直搜索查找延伸

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