检索结果-内蒙古大学图书馆

您好，读者！请登录

内蒙古大学图书馆

首页
概况
党建
资源
服务
科研支持
- 论文收录引用证明
- 科技查新
知识产权
档案馆
帮助

咨询与建议

建议与咨询留下您的常用邮箱和电话号码，以便我们向您反馈解决方案和替代方法

您的常用邮箱：*

您的手机号码：*

问题描述：

当前已输入0个字，您还可以输入200个字

全部搜索
期刊论文
图书
学位论文
标准
纸本馆藏
外文资源发现
数据库导航
超星发现

高级检索

时间限定

出版年份：

文献类型

图书期刊文献学位论文多媒体

馆藏选择

电子馆藏纸本馆藏

核心期刊

全部期刊 SCI 收录期刊 SSCI 收录期刊 EI 收录期刊 CSCD 收录期刊 CSSCI 收录期刊

语言

中文英文

文献类型

期刊文献图书学位论文标准纸本馆藏

帮助

文字说明：

T=题名（书名、题名），A=作者（责任者），K=主题词，P=出版物名称，PU=出版社名称，O=机构（作者单位、学位授予单位、专利申请人），L=中图分类号，C=学科分类号，U=全部字段，Y=年（出版发行年、学位年度、标准发布年）

检索规则说明：

AND代表“并且”；OR代表“或者”；NOT代表“不包含”；(注意必须大写,运算符两边需空一格)

检索范例：

范例一：(K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 AND Y=1982-2016
范例二：P=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT K=Visual AND Y=2011-2016

分类表

所选分类

>> <<

限定检索结果

文献类型

1,322 篇 专利

馆藏范围

1,322 篇 电子文献
0 种 纸本馆藏

日期分布

机构

188 篇 中芯国际集成电路...
68 篇 上海华力微电子有...
45 篇 腾讯科技有限公司
42 篇 上海华力集成电路...
37 篇 北京理工大学
30 篇 维沃移动通信有限...
28 篇 长鑫存储技术有限...
11 篇 中国科学院上海光...
11 篇 网易网络有限公司
11 篇 珠海格力电器股份...
10 篇 北京达佳互联信息...
10 篇 合肥本源量子计算...
10 篇 合肥晶合集成电路...
10 篇 华为技术有限公司
9 篇 中国科学院微电子...
9 篇 京东方科技集团股...
9 篇 阿里巴巴集团控股...
8 篇 北京百度网讯科技...
7 篇 中国科学院光电技...
7 篇 北京字节跳动网络...

作者

44 篇 魏芳
35 篇 何大权
32 篇 金吉松
30 篇 张旭升
30 篇 李艳秋
27 篇 朱骏
26 篇 马旭
24 篇 张海洋
24 篇 请求不公布姓名
21 篇 于世瑞
18 篇 杜杳隽
16 篇 张辰明
16 篇 张迎春
16 篇 陈翰
15 篇 郑二虎
14 篇 吕煜坤
12 篇 董立松
11 篇 王向朝
11 篇 李思坤
11 篇 覃柳莎

语言

1,322 篇 中文

检索条件"主题词=目标图形"

共 1322 条记录，以下是91-100 订阅

全选清除本页清除全部题录导出标记到"检索档案"

详细简洁

排序：

一种确定目标位置的方法、装置及存储介质

一种确定目标位置的方法、装置及存储介质

引用

作者：茅心悦张园 102209 北京市昌平区北七家镇未来科技城南区中国电信北京信息科技创新园11层1118室、1116室

本公开涉及目标检测领域，公开了一种确定目标位置的方法、装置及存储介质，该方法为：对各个控制点进行拟合，得到包括多个采样点的曲线，其中，控制点是通过卷积神经网络对包含待检测目标的图像进行识别确定的，采样点的坐标与控制点... 详细信息

标准号: CN116912472A

本公开涉及目标检测领域，公开了一种确定目标位置的方法、装置及存储介质，该方法为：对各个控制点进行拟合，得到包括多个采样点的曲线，其中，控制点是通过卷积神经网络对包含待检测目标的图像进行识别确定的，采样点的坐标与控制点的坐标不同，基于各个采样点和目标图形的中心点之间的距离，从各个采样点中筛选出多个有效采样点，其中，目标图形是通过分割神经网络对包含待检测目标的图像进行识别确定的像素点的集合，基于各个有效采样点对应的方向角确定待检测目标的关键点，将关键点的坐标确定为待检测目标的目标位置，其中，方向角为有效采样点和中心点之间的角度，用关键点检测来确定待检测目标的目标位置的方式，使得定位更加准确。

关键词：采样点控制点有效采样点目标位置检测目标图形方向角关键点中心点图像卷积神经网络关键点检测存储介质目标检测神经网络坐标确定像素点拟合集合筛选分割

来源：评论

学校读者我要写书评

暂无评论

一种基于基本模块的掩模辅助图形优化方法

一种基于基本模块的掩模辅助图形优化方法

引用

作者：马旭李艳秋宋之洋 100081 北京市海淀区中关村南大街5号

本发明提供一种基于基本模块的掩模辅助图形优化方法，在给定目标图形和掩模主体图形的前提下，本方法将掩模辅助图形构造为若干单边尺寸大于阈值的基本模块与表示基本模块位置的系数矩阵的卷积，将整体掩模图形构造为掩模主体图形与辅... 详细信息

标准号: CN102981355A

本发明提供一种基于基本模块的掩模辅助图形优化方法，在给定目标图形和掩模主体图形的前提下，本方法将掩模辅助图形构造为若干单边尺寸大于阈值的基本模块与表示基本模块位置的系数矩阵的卷积，将整体掩模图形构造为掩模主体图形与辅助图形的叠加；将优化目标函数F构造为目标图形与当前整体掩模图形对应的光刻胶中成像之间的欧拉距离的平方。之后本方法基于Abbe矢量成像模型，采用共轭梯度法对掩模辅助图形进行优化，并在优化结束后对辅助图形中的“无法制造的边缘凸起”进行修正。本方法可以在提高光刻系统成像质量和图形保真度的同时，有效提高优化后掩模的可制造性。

关键词：掩模辅助图形目标图形主体图形优化优化目标函数成像模型成像质量光刻系统模块位置图形构造系数矩阵优化方法矢量保真度光刻胶梯度法凸起叠加修正大于

来源：评论

学校读者我要写书评

暂无评论

模板匹配的方法、装置、电子设备和存储介质

模板匹配的方法、装置、电子设备和存储介质

引用

作者：倪丙庆翟忆蒙杜蕴璇 100085 北京市海淀区上地十街10号百度大厦三层

本申请公开了模板匹配的方法、装置、电子设备和存储介质，涉及图像识别技术领域。具体实现方案为：获取目标图形、原始设备屏幕尺寸、当前设备屏幕尺寸、当前设备屏幕的截图；根据原始设备屏幕尺寸、当前设备屏幕尺寸计算出缩放比例；... 详细信息

标准号: CN111797933B

本申请公开了模板匹配的方法、装置、电子设备和存储介质，涉及图像识别技术领域。具体实现方案为：获取目标图形、原始设备屏幕尺寸、当前设备屏幕尺寸、当前设备屏幕的截图；根据原始设备屏幕尺寸、当前设备屏幕尺寸计算出缩放比例；根据计算出的缩放比例将目标图形缩放；将缩放后的目标图形与截图进行模板匹配；如果根据计算出的缩放比例匹配成功，则输出目标图形的坐标，并记录匹配成功的缩放比例作为预置缩放比例。该实施方式提高了模板匹配的速度和准确率。

关键词：缩放模板匹配设备屏幕目标图形原始设备图像识别技术尺寸计算存储介质电子设备获取目标记录匹配匹配成功输出目标屏幕准确率预置申请成功

来源：评论

学校读者我要写书评

暂无评论

半导体结构的形成方法

半导体结构的形成方法

引用

作者：郑二虎 201203 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区张江路18号

一种半导体结构的形成方法，包括：提供基底；在基底上形成一个或多个堆叠的图形传递叠层，包括堆叠的刻蚀停止层和核心材料层；对每个图形传递叠层进行图形化处理，包括：图形化核心材料层形成核心层，相邻核心层围成沟槽；形成保形覆... 详细信息

标准号: CN113851376A

一种半导体结构的形成方法，包括：提供基底；在基底上形成一个或多个堆叠的图形传递叠层，包括堆叠的刻蚀停止层和核心材料层；对每个图形传递叠层进行图形化处理，包括：图形化核心材料层形成核心层，相邻核心层围成沟槽；形成保形覆盖的侧墙材料层，与刻蚀停止层材料相同；执行侧墙材料层的主刻蚀工艺，形成掩膜侧墙；在核心层和掩膜侧墙顶部以及沟槽中形成保护层；去除高于核心层顶面的保护层并执行侧墙材料层的过刻蚀工艺，露出核心层顶部；去除核心层和剩余保护层；掩膜侧墙用于在下次图形化处理中作为图形化核心材料层的掩膜或者作为图形化基底的掩膜；以掩膜侧墙为掩膜图形化基底形成目标图形。本发明提高图形传递精度且降低工艺复杂度。

关键词：核心层掩膜侧墙侧墙材料层核心材料层图形传递保护层图形化基底刻蚀停止层图形化处理叠层堆叠去除半导体结构工艺复杂度保形覆盖目标图形掩膜图形过刻蚀主刻蚀化基

来源：评论

学校读者我要写书评

暂无评论

显示任务流的方法、装置、可读存储介质及电子设备

显示任务流的方法、装置、可读存储介质及电子设备

引用

作者：郭志金刘译璟杨志刚徐远徐向阳薛磊刘鑫玲陈宁于帮付 100096 北京市海淀区建材城中路27号14幢一层101号

本公开涉及一种显示任务流的方法、装置、可读存储介质及电子设备。方法包括：响应于接收到任务流显示请求，获取目标图形基础库；获取任务流中每个任务的属性信息，属性信息包括时间信息、状态信息和席位信息；按照时间信息、状态信息... 详细信息

标准号: CN111352686A

本公开涉及一种显示任务流的方法、装置、可读存储介质及电子设备。方法包括：响应于接收到任务流显示请求，获取目标图形基础库；获取任务流中每个任务的属性信息，属性信息包括时间信息、状态信息和席位信息；按照时间信息、状态信息、席位信息与所述目标图形基础库中的三维坐标轴中每一坐标轴的对应关系，在电子设备的显示界面中显示任务流。这样，将任务流的时间信息、状态信息和席位信息以三维坐标轴的方式显示在电子设备的显示界面中，不仅可以显示出任务流在时间和状态维度下的变化，还可以显示出任务流在不同执行人之间的传递，以实现全流程监督把控，便于用户获知任务流中每个任务的上下游状态，进而及时做出决策，提高任务完成的效率。

关键词：任务流电子设备时间信息三维坐标轴属性信息显示界面可读存储介质方式显示获取目标目标图形任务完成图形基础显示请求基础库全流程坐标轴获知维度传递响应决策监督

来源：评论

学校读者我要写书评

暂无评论

半导体结构及其形成方法

半导体结构及其形成方法

引用

作者：苏博赵振阳张海洋 201203 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区张江路18号

一种半导体结构及其形成方法，形成方法包括：提供基底，包括目标层，基底包括用于形成目标图形层的目标区和与切割位置对应的切割区；在基底上形成掩膜侧墙；以掩膜侧墙为掩膜，图形化目标层，形成分立的初始图形层，初始图形层沿横向... 详细信息

标准号: CN116508133A

一种半导体结构及其形成方法，形成方法包括：提供基底，包括目标层，基底包括用于形成目标图形层的目标区和与切割位置对应的切割区；在基底上形成掩膜侧墙；以掩膜侧墙为掩膜，图形化目标层，形成分立的初始图形层，初始图形层沿横向延伸，与横向垂直的方向为纵向，沿纵向相邻初始图形层之间形成有凹槽；形成边界定义槽，贯穿沿横向位于目标区与切割区的交界位置处的初始图形层；形成填充于凹槽和边界定义槽的间隔层；以位于边界定义槽中的间隔层和位于凹槽中的间隔层，分别对应为沿横向和纵向的停止层，刻蚀位于切割区的初始图形层，位于目标区的剩余初始图形层用于作为目标图形层。本发明实施例有利于增大刻蚀切割区的初始图形层的工艺窗口。

关键词：图形层切割区边界定义间隔层目标区基底掩膜目标图形目标层侧墙刻蚀半导体结构工艺窗口横向垂直横向延伸交界位置切割位置纵向相邻停止层图形化分立填充贯穿

来源：评论

学校读者我要写书评

暂无评论

图形布局优化方法、装置、电子设备及存储介质

图形布局优化方法、装置、电子设备及存储介质

引用

作者：张禹超 100080 北京市海淀区海淀北一街2号10层、11层

本申请涉及一种图形布局优化方法、装置、电子设备及存储介质，所述方法包括：获取图形原始布局结果，并对图形原始布局结果中的图形进行图形转数据处理，得到图形描述数据；获取布局调整信息，将图形描述数据、布局调整信息输入至层次... 详细信息

标准号: CN117557679A

本申请涉及一种图形布局优化方法、装置、电子设备及存储介质，所述方法包括：获取图形原始布局结果，并对图形原始布局结果中的图形进行图形转数据处理，得到图形描述数据；获取布局调整信息，将图形描述数据、布局调整信息输入至层次聚类算法，得到算法输出结果；根据算法输出结果，对图形描述数据进行更新，得到目标图形描述数据；对目标图形描述数据进行数据转图形处理，得到图形目标布局结果中的目标图形。如此基于层次聚类算法对图形布局进行优化，在规则树编辑器等“树形图形编辑器”应用场景下，可以有效地对层次化的数据进行高效布局，避免图形布局时存在的图形重叠、图形交叉、图形密度不均匀等布局异常问题。

关键词：图形描述数据目标图形图形布局层次聚类算法布局调整描述数据算法输出原始布局图形编辑器布局结果存储介质电子设备图形处理图形目标图形重叠信息输入异常问题应用场景数据处理编辑器不均匀层次化规则树数据转有效地优化更新申请

来源：评论

学校读者我要写书评

暂无评论

一种三维模型定位方法、系统、设备及介质

一种三维模型定位方法、系统、设备及介质

引用

作者：请求不公布姓名 312500 浙江省绍兴市新昌县沃洲镇鳌峰路1-1号

本申请公开了一种三维模型定位方法、系统、设备及介质，其中方法包括：确定初始图形信息，以及与初始图形信息绑定的初始三维模型；以初始图形信息中与初始三维模型绑定的预设点作为中心点，在初始图形信息中以预设比例绘制映射图形；... 详细信息

标准号: CN116934967A

本申请公开了一种三维模型定位方法、系统、设备及介质，其中方法包括：确定初始图形信息，以及与初始图形信息绑定的初始三维模型；以初始图形信息中与初始三维模型绑定的预设点作为中心点，在初始图形信息中以预设比例绘制映射图形；通过对映射图形进行旋转和平移操作，获得映射图形的旋转角度以及偏移量；将旋转角度以及偏移量赋值给初始图形信息，以得到目标图形信息。通过把三维模型转换成二维图形通过复用二维渲染引擎的编辑功能，把三维模型的中心点和偏移角度完全契合到相对应的图形上，利用编辑前，与编辑后点位的变化计算出，偏移量和旋转角度，然后基于偏移量和旋转角度对图形进行调整，从而得到偏转角度契合的三维模型。

关键词：三维模型图形信息偏移量映射图形中心点绑定契合偏转编辑功能二维图形目标图形渲染引擎偏移预设点点位二维复用预设绘制转换申请

来源：评论

学校读者我要写书评

暂无评论

带SRAF的OPC修正方法

带SRAF的OPC修正方法

引用

作者：张剑王谨恒陈洁朱斌孙鹏飞曹楠 214028 江苏省无锡市国家高新技术产业开发区新洲路8号

本发明提供一种带SRAF的OPC修正方法，该方法包括：设计试验，获得添加SRAF图形的最优规则；使用原有的OPC模型；对目标图形添加SRAF图形，形成预设图形；使用原有的OPC模型对预设图形进行运算修正，在运算修正过程中SRAF图形作为目标... 详细信息

标准号: CN115685663A

本发明提供一种带SRAF的OPC修正方法，该方法包括：设计试验，获得添加SRAF图形的最优规则；使用原有的OPC模型；对目标图形添加SRAF图形，形成预设图形；使用原有的OPC模型对预设图形进行运算修正，在运算修正过程中SRAF图形作为目标图形的一部分一起参与OPC运算，并保持SRAF图形不动。通过在对带SRAF的目标图形进行修正过程中，将SRAF图形与目标图形作为一个整体一起参与OPC运算，并将SRAF图形保持不动，即SRAF图形不参与OPC模型对目标图形边缘修正的动作，只考虑SRAF图形对目标图形光学环境的影响，确保了OPC修正的精确性；同时在修正过程中不需要额外制作带SRAF的建模光刻版，节省了光刻版的制版费用；另外利用现有的OPC模型，有效节省了大量OPC建模所需时间，提高修正效率。

关键词：目标图形修正运算预设图形光刻版原有的建模边缘修正光学环境设计试验制版制作

来源：评论

学校读者我要写书评

暂无评论

填充累计面积计算方法、装置、存储介质及计算机设备

填充累计面积计算方法、装置、存储介质及计算机设备

引用

作者：戴建龙陈兴孙凌云何祎 510623 广东省广州市天河区珠江西路15号32层自编01-08房

本申请提供了一种填充累计面积计算方法、装置、存储介质及计算机设备。该方法包括：识别目标图形的闭合边界；为目标图形的闭合边界定义边界方向，并构建图结构；若图结构存在重叠曲线，则识别每组重叠曲线中边界方向为顺时针方向的曲... 详细信息

标准号: CN117351064B

本申请提供了一种填充累计面积计算方法、装置、存储介质及计算机设备。该方法包括：识别目标图形的闭合边界；为目标图形的闭合边界定义边界方向，并构建图结构；若图结构存在重叠曲线，则识别每组重叠曲线中边界方向为顺时针方向的曲线数量，以及边界方向为逆时针方向的曲线数量；基于每组重叠曲线中的顺时针方向的曲线数量和逆时针方向的曲线数量，对相反方向的重叠曲线进行抵消，若抵消后剩余的同方向重叠曲线为多条则进行二次去重，将处理后的图结构作为第一图形；基于随机选定的搜索方向遍历第一图形中的曲线，识别图结构中的有效闭合区域；计算有效闭合区域的覆盖面积，得到填充累计面积。本申请能够提高填充累计面积的计算效率和准确性。

关键词：图结构填充闭合边界边界方向目标图形有效闭合顺时针抵消计算机设备存储介质定义边界计算效率面积计算搜索方向遍历构建去重申请覆盖

来源：评论

学校读者我要写书评

暂无评论

没有更多数据了...

全选清除本页清除全部题录导出标记到“检索档案”

共133页 << < 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 > >>

检索报告对象比较合并检索0

隐藏清空

合并搜索

回到顶部

执行限定条件

内容：

评分：

请选择保存的检索档案：

请选择收藏分类：

订阅名称：

通借通还

温馨提示：

图书名称：

借书校区：

取书校区：

手机号码：

邮箱地址：

一卡通帐号：

电话和邮箱必须正确填写，我们会与您联系确认。

联系人：

所在院系：

联系邮箱：

联系电话：

内蒙古自治区呼和浩特市赛罕区大学西街235号邮编: 010021

建议与咨询 留下您的常用邮箱和电话号码，以便我们向您反馈解决方案和替代方法

时间限定

文献类型

馆藏选择

核心期刊

语言

文献类型

帮助

文字说明：

检索规则说明：

检索范例：

分类表

所选分类

限定检索结果

文献类型

馆藏范围

日期分布

机构

作者

语言

请选择保存的检索档案： 新增检索档案 确定 取消

请选择收藏分类： 新增自定义分类 确定 取消

通借通还

建议与咨询留下您的常用邮箱和电话号码，以便我们向您反馈解决方案和替代方法

请选择保存的检索档案：

请选择收藏分类：