检索结果-内蒙古大学图书馆

作者：篠田敏男伊藤大辉日本爱知县

本发明涉及一种研磨用组合物。[课题]本发明的课题在于，提供一种新型的研磨用组合物，其能以相同的速度且以高速研磨2种以上的研磨对象物。[解决方案]一种研磨用组合物，其用于对研磨对象物进行研磨，其包含磨粒、有机化合物和液体载... 详细信息

标准号: CN115141550B

本发明涉及一种研磨用组合物。[课题]本发明的课题在于，提供一种新型的研磨用组合物，其能以相同的速度且以高速研磨2种以上的研磨对象物。[解决方案]一种研磨用组合物，其用于对研磨对象物进行研磨，其包含磨粒、有机化合物和液体载体，前述磨粒的每单位表面积的硅烷醇基数超过0个/nm²且为2.5个/nm²以下。前述有机化合物具有膦酸基团或其盐的基团。

关键词：研磨用组合物研磨对象物有机化合物磨粒高速研磨液体载体膦酸基团研磨硅烷醇基数

学校读者我要写书评

暂无评论

作者：后藤修高间大辉田中优己日本

提供适于研磨的新型的组合物。提供一种包含作为磨粒的二氧化硅颗粒、碱性化合物和水的研磨用组合物。上述研磨用组合物还包含无机酸铵盐。

标准号: CN118103955A

提供适于研磨的新型的组合物。提供一种包含作为磨粒的二氧化硅颗粒、碱性化合物和水的研磨用组合物。上述研磨用组合物还包含无机酸铵盐。

关键词：研磨用组合物二氧化硅颗粒碱性化合物无机酸铵盐研磨磨粒

学校读者我要写书评

暂无评论

作者：高见信一郎日本爱知县

提供：在高硬度材料的研磨中，能实现与用不包含磨粒的研磨用组合物得到的面同等以上的平滑的面、在低压力、高压力的任意条件下均可优选使用的研磨用组合物。研磨用组合物是对具有1500Hv以上的维氏硬度的材料进行研磨的研磨用组合物。... 详细信息

标准号: CN115380097B

提供：在高硬度材料的研磨中，能实现与用不包含磨粒的研磨用组合物得到的面同等以上的平滑的面、在低压力、高压力的任意条件下均可优选使用的研磨用组合物。研磨用组合物是对具有1500Hv以上的维氏硬度的材料进行研磨的研磨用组合物。此处，上述研磨用组合物包含颗粒和氧化剂，该颗粒的含量小于400ppm。

关键词：研磨用组合物研磨氧化剂高硬度材料任意条件维氏硬度低压力高压力平滑磨粒优选

学校读者我要写书评

暂无评论

作者：森嘉男中贝雄一郎织田博之日本爱知县

本发明提供一种能够对研磨对象物实现优异的研磨去除速度的研磨用组合物。本发明提供一种用于研磨对象物的研磨的研磨用组合物。上述研磨用组合物包含水以及作为氧化剂的高锰酸钠。在一些优选的方式中，上述研磨用组合物还包含选自阳离... 详细信息

标准号: CN118055994A

本发明提供一种能够对研磨对象物实现优异的研磨去除速度的研磨用组合物。本发明提供一种用于研磨对象物的研磨的研磨用组合物。上述研磨用组合物包含水以及作为氧化剂的高锰酸钠。在一些优选的方式中，上述研磨用组合物还包含选自阳离子与阴离子的盐中的金属盐，所述阳离子包含属于周期表的第3～16族的金属。上述研磨用组合物也可以优选地应用于由具有1500Hv以上的维氏硬度的高硬度材料所构成的研磨对象物的研磨。

关键词：研磨用组合物研磨对象物研磨阳离子优选氧化剂高硬度材料高锰酸钠维氏硬度金属盐阴离子去除金属应用

学校读者我要写书评

暂无评论

作者：山崎智基日本大阪府

本发明的研磨用组合物包含研磨粒、负荷抑制剂、水溶性高分子、碱性化合物及水。上述负荷抑制剂的0.1质量％水溶液相对于表面粗糙度Ra＝3.0nm的玻璃环氧树脂板的面的接触角A、上述负荷抑制剂的0.1质量％水溶液的表面张力B、以及上述负... 详细信息

标准号: CN114846109B

本发明的研磨用组合物包含研磨粒、负荷抑制剂、水溶性高分子、碱性化合物及水。上述负荷抑制剂的0.1质量％水溶液相对于表面粗糙度Ra＝3.0nm的玻璃环氧树脂板的面的接触角A、上述负荷抑制剂的0.1质量％水溶液的表面张力B、以及上述负荷抑制剂的分子量C满足下述式。A×B/C＜2.8。

关键词：负荷抑制玻璃环氧树脂板表面粗糙度Ra 水溶性高分子研磨用组合物碱性化合物接触角研磨粒

学校读者我要写书评

暂无评论

作者：山崎智基牧野弘日本大阪府

本发明提供一种可以降低装置的振动的研磨用组合物。研磨用组合物包含胶体二氧化硅、水溶性高分子、碱性化合物、水、以及重均分子量为1500～30000且具有氧化乙烯基团的高分子即振动抑制剂，上述振动抑制剂的摩尔浓度为6.9×10‑10mo... 详细信息

标准号: CN111512419B

本发明提供一种可以降低装置的振动的研磨用组合物。研磨用组合物包含胶体二氧化硅、水溶性高分子、碱性化合物、水、以及重均分子量为1500～30000且具有氧化乙烯基团的高分子即振动抑制剂，上述振动抑制剂的摩尔浓度为6.9×10^‑10mol/g以上，上述振动抑制剂每1分子的上述氧化乙烯基团部分的重均分子量与振动抑制剂的质量浓度的积为8.0×10^‑2以上，振动抑制剂中，氧化乙烯基团占氧化烯烃基团的重均分子量的比率为80％以上。

关键词：振动抑制氧化乙烯基团重均分子量研磨用组合物胶体二氧化硅水溶性高分子碱性化合物降低装置氧化烯烃

学校读者我要写书评

暂无评论

研磨用组合物的浓缩液及使用其的研磨方法

研磨用组合物的浓缩液及使用其的研磨方法

作者：井泽由裕日本爱知县

本发明涉及研磨用组合物的浓缩液及使用其的研磨方法。本发明目的在于，提供可以使包含氧化铝作为磨粒的研磨用组合物的浓缩液的再分散性提高的方法。提供研磨用组合物的浓缩液，其包含：颗粒状氧化铝；长径比大于5且为800以下的胶体氧... 详细信息

标准号: CN113817410B

本发明涉及研磨用组合物的浓缩液及使用其的研磨方法。本发明目的在于，提供可以使包含氧化铝作为磨粒的研磨用组合物的浓缩液的再分散性提高的方法。提供研磨用组合物的浓缩液，其包含：颗粒状氧化铝；长径比大于5且为800以下的胶体氧化铝；选自由磷酸及其缩合物、有机磷酸、膦酸以及有机膦酸组成的组中的至少1种含磷酸；和水，所述研磨用组合物的浓缩液的pH为2以上且4.5以下。

关键词：研磨用组合物浓缩液颗粒状氧化铝胶体氧化铝有机磷酸有机膦酸再分散性自由磷酸研磨长径比含磷酸缩合物氧化铝磨粒膦酸

学校读者我要写书评

暂无评论

研磨用组合物及硅晶片的研磨方法

研磨用组合物及硅晶片的研磨方法