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研磨装置
研磨装置
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作者： 井上雄贵 铃木孝雅 日本东京都
提供研磨装置，一边抑制浆料提供量，一边使浆料遍布研磨垫的整个研磨面，从而实现抑制了浆料消耗的经济的研磨加工。研磨装置包含：晶片保持工作台；研磨单元，其将研磨垫安装于主轴而使该研磨垫进行旋转，该研磨垫在对晶片进行研磨的... 详细信息
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研磨装置、处理系统及研磨方法
研磨装置、处理系统及研磨方法
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作者： 古泽磨奈人 赤泽贤一 小林贤一 日本国东京都大田区羽田旭町11番1号
实现一种适合表面基准研磨的研磨装置。研磨装置100包含：沿着基板300的第一方向(X方向)配置的多个基板保持机构200；沿着与第一方向(X方向)交叉的第二方向(Y方向)配置的多个研磨头201；夹着基板300而与多个研磨头201相对，并在第二方... 详细信息
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一种表面处理的研磨装置
一种表面处理的研磨装置
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作者： 王勇 黄长成 钱晨 伍红玲 芜湖巨轩金属科技有限公司
①课题来源与背景：极柱，即正负极端子，其一端与汇流排连接，另一端与外部导体连接，或者与电池组中相邻的单体电池的一极连接，极柱在生产时对产品表面的要求较高，需要对极柱表面进行研磨以提升表面亮度，满足客户需要并提升竞争力... 详细信息
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研磨装置及研磨方法
研磨装置及研磨方法
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作者： 关正也 中西正行 柏木诚 日本东京都大田区羽田旭町11番1号
本发明提供一种能够在晶片等基板的边缘部形成具有直角截面的阶梯形状的凹陷的研磨装置及研磨方法。研磨装置在基板(W)的边缘部形成阶梯形状的凹陷。研磨装置具备使基板(W)以旋转轴心CL为中心旋转该基板旋转装置(3)；具有将研磨带(38)... 详细信息
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研磨装置用承载头及其隔膜
研磨装置用承载头及其隔膜
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作者： 孙准晧 申盛皓 韩国京畿道
本发明涉及化学机械式研磨装置用承载头及其隔膜，提供一种随着研磨工序的进行，在发生研磨垫或卡环等耗材的磨损，并随着耗材的磨损量而发生隔膜的上下移动移位时，借助于第二固定瓣，提供补偿力而使之抵消，从而提高研磨品质的研磨装... 详细信息
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研磨装置以及晶圆的研磨方法
研磨装置以及晶圆的研磨方法
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作者： 上野淳一 石井薰 日本东京都千代田区大手町二丁目2番1号
本发明为一种研磨装置，包含黏贴有研磨晶圆的研磨布的平台及支承并同时得以旋转晶圆且得以在施加研磨载重至晶圆的同时将之推抵至研磨布的多个研磨头，在使研磨头旋转的同时将以研磨头所支承的晶圆推抵至研磨布而研磨，该研磨装置的特... 详细信息
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研磨装置和研磨方法
研磨装置和研磨方法
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作者： 刘传涛 崔慧成 230601 安徽省合肥市经济技术开发区空港工业园兴业大道388号
本公开提供一种研磨装置和研磨方法，研磨装置包括研磨基座、光发射器和光感应器，研磨基座具有研磨面，研磨面用于研磨待研磨件，待研磨件具有针尖；光发射器的发射端和光感应器的感应端均位于研磨面的所在平面，光发射器发出的光线贴... 详细信息
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研磨装置、研磨方法以及非暂时性计算机可读介质
研磨装置、研磨方法以及非暂时性计算机可读介质
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作者： 中村显 日本东京都大田区羽田旭町11番1号
本发明提供一种能够使研磨轮廓更均匀化的研磨装置、研磨方法以及非暂时性计算机可读介质。研磨装置包括：具有研磨面的研磨台；顶环，该顶环用于将研磨对象面向研磨面按压，该顶环具有能够对于晶片的多个区域独立地施加按压力的多个按... 详细信息
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研磨装置
研磨装置
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作者： 姜伟峰 朱梅生 215126 江苏省苏州市工业园区星龙街428号苏春工业坊10幢C单元
本发明提供一种研磨装置，包括：研磨壳体，所述研磨壳体的一侧设有出料口；第一研磨元件和第二研磨元件，同轴设置于研磨壳体内并且第一研磨元件和第二研磨元件之间形成研磨间隙，第二研磨元件相对于第一研磨元件旋转以将待研磨原料在... 详细信息
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研磨装置及研磨方法
研磨装置及研磨方法
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作者： 陈柏翰 外崎宏 曾根忠一 日本国东京都大田区羽田旭町11番1号
本发明提供一种降低研磨液的使用量的研磨装置及研磨方法。研磨装置使用具有研磨面的研磨垫进行研磨对象物的研磨，具备：研磨台，所述研磨台构成为能够旋转，并用于支承所述研磨垫；基板保持部，所述基板保持部用于保持研磨对象物并将... 详细信息
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