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81 条 记 录,以下是71-80 订阅
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表面分析讲座 第三讲 俄歇电子谱仪(一)
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真空与低温 1983年 第1期 46-52+45页
作者: 范垂祯
俄歇电子谱仪在表面物理的研究中几乎是必不可少的工具。现已广泛的应用于冶金、半导体工艺、化工、能源、医药等领域,成为质量检测和基础研究的一种有力手段。其特点是:检测的信息深度为1~5个单分子层,以其能量分析的结果提供固体表... 详细信息
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表面分析讲座 第四讲 俄歇电子谱仪(二)
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真空与低温 1983年 第2期 63-73页
作者: 范垂祯
在固体表面的俄歇分析中,应用筒镜型能量分析器(CMA)取得俄歇微分谱是普遍采用的灵敏度较高的方法。但是,如何由测出的俄歇峰的位置、峰高、峰形正确地得出关于待测的固体表面的更多信息,既有实验方法,也有数据分析和处理问题。 1.特征... 详细信息
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觊·西格巴恩教授与电子能谱
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物理 1982年 第4期 193-197页
作者: 吴念祖 北京大学化学系
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表面分析综述
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分析 1981年 第4期 1-17页
作者: 方天止 中国科学院科学仪器厂
一、前言在材料科学飞速发展过程中,要求对材料表面做充分研究,因为整体和表面具有非常不同的性能。过去对固体表面做过的某些研究工作,多属于实际应用方面,例如:金属表面的吸附、电子管阴极的热电子发射、触媒的表面活性,表面和晶界面... 详细信息
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俄歇电子谱仪和光电子谱仪及其在材料科学中的应用
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材料开发与应用 1981年 第2期 1-20页
作者: 韩順昌
在现代表面分析技术中,俄歇电子谱仪和光电子谱仪发挥很大的作用。本文将介绍俄歇电子谱仪和光电子谱仪的基本原理和组成,并通过在冶金、腐蚀、催化和半导体材料等方面的应用举例,说明俄歇电子谱仪和光电子仪谱仪的应用和分析方法。
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关于AES中CMA的分辨率的计算和测量
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真空科学与技术学报 1981年 第1期 7-10页
作者: 范垂祯 兰州物理研究所
分辨率是CMA这一装置本身固有的特性,与被检测的电子能量E之大小及分散度ε无关。我们不认为一些作者给出的底宽分辨率Rb的表示式中包含有ε是正确的。在θ0=42°18 30,n=2的条件下,我们给出 Rb=0.329ρ+0.178σ+0.964ρ|△θ|+5.5... 详细信息
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一个静电式电子能量分析器系统
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物理 1979年 第5期 401-406页
作者: 许自图 陈基辅 张水顺 中国科学院贵阳地球化学研究所 中国科学院沈阳科学仪器厂 中国科学院电子学研究所
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英国 VG 科学仪公司表面分析谱仪
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分析 1980年 第1期 87-91页
作者: 潘承璜 中国科学院化学研究所
应英国 VG 科学仪公司和 VG 电子显微镜公司的邀请,中国表面科学及其仪考察团一行十一人于一九七九年五月二十六日至六月十九日在英国进行了访问。我们总的印象是,英国的表面科学研究和表面分析已具有较高的水平。特别是 VG科... 详细信息
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电子能谱仪及其在摩擦磨损研究中的应用
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润滑与密封 1979年 第5期 11-20页
作者: 顾则鸣 赵家政 齐尚奎 党鸿辛 中国科学院兰州化学物理研究所
电子能谱仪是一种用途很广的表面分析工具,它广泛地应用于冶金、环境保护、催化、医疗和摩擦磨损等方面。本文主要对其中的X光电子能谱仪(XPS或ESCA)、俄歇电子能谱仪(AES)的简单原理及其在摩擦磨损方面的应用作一简略的介绍。
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迅速发展的表面分析方法
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物理 1978年 第1期 18-23页
作者: 赵良仲 中国科学院化学研究所
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