检索结果-内蒙古大学图书馆

光电子技术 2009年第2期29卷 125-129页

作者：张永爱许华安郭太良福州大学场致发射显示技术教育部工程研究中心福州350002

研究了旋涂和光刻工艺对制备表面传导发射显示器(SED)微细结构的影响,分析正性光刻胶和旋涂工艺的作用机理,探讨光刻胶的平面旋涂工艺、曝光剂量、前烘对光刻图形的影响.借助旋涂技术将光刻胶转移在附有金属薄膜的玻璃基片上,利用紫外... 详细信息

研究了旋涂和光刻工艺对制备表面传导发射显示器(SED)微细结构的影响,分析正性光刻胶和旋涂工艺的作用机理,探讨光刻胶的平面旋涂工艺、曝光剂量、前烘对光刻图形的影响.借助旋涂技术将光刻胶转移在附有金属薄膜的玻璃基片上,利用紫外光对其进行曝光,通过视频显微镜、台阶仪对实验结果分析,优化实验工艺参数.结果表明,光刻胶留膜率随旋转速度增大而减少,随光刻胶的粘度增大而增大,光刻图形宽度随曝光剂量的增大而变窄,曝光剂量40～50 mJ/cm2,前烘110 ℃保温25 min条件下光刻图形边缘平整,为研制SED微细结构奠定了基础.

关键词：表面传导电子发射显示器光刻旋涂曝光剂量前烘

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表面传导电子发射显示器电子发射源制作技术

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真空电子技术 2007年第6期20卷 41-45页

作者：孙宏博吴胜利西安交通大学电子物理与器件教育部重点实验室陕西西安710049

表面传导电子发射显示器(SED)是最近开发的一种新型平板显示技术,具有高对比度、高灰度级、低功耗等优点。本文介绍了SED的工作原理及SED技术中处于核心地位的电子发射部件制造技术,并将各种电子发射部件制造技术进行了比较。

关键词：表面传导电子发射显示器电子发射部件导电膜

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磁控溅射法制作表面传导电子发射显示器

磁控溅射法制作表面传导电子发射显示器

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中国电子学会真空电子学分会第十六届学术年会暨军用微波管研讨会

作者：孙宏博吴胜利西安交通大学电子物理与器件教育部重点实验室西安 710049

本文介绍了表面传导电子发射显示(SED),采取了一种使用磁控溅射制作SED的方法,它具有发射均匀的优点。SED器件的电极厚度、导电膜材料、导电膜宽度对发射性能有很大影响,文中对这些参数进行了讨论。通过参数的优化,得到了稳定、均匀的... 详细信息

本文介绍了表面传导电子发射显示(SED),采取了一种使用磁控溅射制作SED的方法,它具有发射均匀的优点。SED器件的电极厚度、导电膜材料、导电膜宽度对发射性能有很大影响,文中对这些参数进行了讨论。通过参数的优化,得到了稳定、均匀的电子发射。

关键词：表面传导电子发射显示器磁控溅射法导电膜电极厚度

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电形成电压波形对表面传导电子发射显示器电学特性的影响

电形成电压波形对表面传导电子发射显示器电学特性的影响

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中国电子学会真空电子学分会第十七届学术年会暨军用微波管研讨会

作者：王辉张玉娟孟令国刘纯亮梁海锋西安交通大学电子物理与器件教育部重点实验室 710049西安

电形成工艺是制造表面传导电子发射显示器(SED)的关键步骤，因此研究电形成电压波形对SED电学特性的影响具有重要意义。本文比较了器件电压分别为幅值渐增波形和等幅波形时SED阴极的电形成过程，发现采用渐增波形时SED阴极的电形成是逐... 详细信息

电形成工艺是制造表面传导电子发射显示器(SED)的关键步骤，因此研究电形成电压波形对SED电学特性的影响具有重要意义。本文比较了器件电压分别为幅值渐增波形和等幅波形时SED阴极的电形成过程，发现采用渐增波形时SED阴极的电形成是逐步完成的，而采用等幅波形时SED阴极的电形成是瞬间完成的。两类波形下，开始电形成时的器件电压均为14V时，结束电形成时的器件电压均为17V。本文还研究了采用4种不同波形进行电形成的SED的发射特性。结果表明当器件电压达到20V时，采用渐增矩形波进行电形成的SED发射电流是采用其他波形进行电形成的SED的2倍，这说明采用渐增矩形波对SED阴极进行电形成更有利于电子发射。在测试电子发射特性的过程中还发现当器件电压高于11V时，采用渐增矩形波进行电形成的SED阴极电阻明显小于采用其它电压波形进行电形成的SED阴极，当器件电压达到20V时这种差别甚至高达10kΩ左右。

关键词：电形成工艺电压波形表面传导电子发射显示器电学特性

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表面传导电子发射显示器件制备工艺研究

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真空科学与技术学报 2012年第5期32卷 408-412页

作者：刘婷周子云吴胜利胡文波西安交通大学电子物理与器件教育部重点实验室西安710049

介绍了表面传导电子发射显示器件阴极基板和阳极基板的制备方法及其详细的真空封接工艺。所封接器件排气到高真空后,首先对其阴极基板进行了电形成工艺处理以形成纳米裂缝作为电子发射源,然后测试了器件的发光显示,得到了比较均匀的阵... 详细信息

介绍了表面传导电子发射显示器件阴极基板和阳极基板的制备方法及其详细的真空封接工艺。所封接器件排气到高真空后,首先对其阴极基板进行了电形成工艺处理以形成纳米裂缝作为电子发射源,然后测试了器件的发光显示,得到了比较均匀的阵列发光。最后,针对发光显示图像从三个方面分别进行了分析,为整个器件性能的改进提供了很好的参考价值。

关键词：表面传导电子发射显示器阴极基板阳极基板真空封接

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SED显示原理

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电器评介 2004年第12期 10-11页

作者：杰瑞

在今年的CEATECJAPAN 2004尖端技术综合展示会上众多消费电子大厂展示了他们的最新科技与产品,在众多令人炫目的新产品当中一种名叫SED的显示技术吸引了众多人的目光,成为本届展会上最受人瞩目的产品之一。

关键词： SED 显示原理表面传导电子发射显示器 FED

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SED的磁控溅射法制作技术试验研究

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真空电子技术 2008年第2期21卷 30-33页

作者：孙宏博吴胜利张劲涛西安交通大学电子物理与器件教育部重点实验室陕西西安710049

介绍了表面传导电子发射显示(SED),采取了一种使用PdO膜和ZnO膜磁控溅射制作SED的方法,它具有发射均匀的优点。SED器件的电极厚度、导电膜材料、导电膜宽度对发射性能有很大影响,文中对这些参数进行了讨论。通过参数的优化,得到了稳定... 详细信息

介绍了表面传导电子发射显示(SED),采取了一种使用PdO膜和ZnO膜磁控溅射制作SED的方法,它具有发射均匀的优点。SED器件的电极厚度、导电膜材料、导电膜宽度对发射性能有很大影响,文中对这些参数进行了讨论。通过参数的优化,得到了稳定、均匀的电子发射。

关键词：表面传导电子发射显示器磁控溅射导电膜

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表面传导电子发射SED的制作及特性描述

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显示器件技术 2007年第3期 25-29页

表面传导电子发射（SED）作为下一代平板显示器被发展。表面传导发射习惯于通过喷墨打印工艺制作PdO薄膜（厚度大约10nm）。薄膜应用电压通电活化，从而获得良好特性的发射电子。当阳极电压10KV时，电流密度达到大约30mA／cm^2。而且，3... 详细信息

表面传导电子发射（SED）作为下一代平板显示器被发展。表面传导发射习惯于通过喷墨打印工艺制作PdO薄膜（厚度大约10nm）。薄膜应用电压通电活化，从而获得良好特性的发射电子。当阳极电压10KV时，电流密度达到大约30mA／cm^2。而且，36英寸表面传导电子发射显示器（SED），由SCEs和类似于CRT的显示屏组成，同样被发展。

关键词：场发射显示场发射阴极表面传导电子发射表面传导电子发射显示器碳纳米缝隙荧光粉

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磁控溅射法制作SED的工艺研究

磁控溅射法制作SED的工艺研究

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TFC’09全国薄膜技术学术研讨会

作者：杨宁吴胜利张劲涛西安交通大学电子物理与器件教育部重点实验室

介绍了一种利用磁控溅射法制作表面传导电子发射显示器(SED)的方法,讨论了在溅射过程中氧气浓度,溅射温度,溅射功率以及溅射时间对于制作SED导电膜的影响,并且通过对于这些参数的优化,得到了稳定的持续的电子发射。

关键词：表面传导电子发射显示器磁控溅射导电膜

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表面传导电子发射电子源电形成过程分析

表面传导电子发射电子源电形成过程分析

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中国电子学会真空电子学分会第十九届学术年会

作者：沈志华王晓刘婷吴胜利西安交通大学电子物理与器件教育部重点实验室

本文针对表面传导电子发射显示器件制备中,在导电膜上加电形成纳米级裂缝的这一过程从电压、电流变化方面进行分析。实验中发现在形成裂缝过程中,由于焦耳热效应作用,导电膜结构发生变化,电流电压特性上表现出明显的负阻效应。在整个形... 详细信息

本文针对表面传导电子发射显示器件制备中,在导电膜上加电形成纳米级裂缝的这一过程从电压、电流变化方面进行分析。实验中发现在形成裂缝过程中,由于焦耳热效应作用,导电膜结构发生变化,电流电压特性上表现出明显的负阻效应。在整个形成过程中,电流变化明显,最后趋于稳定。本文中关于加电形成过程的分析对于形成理想的纳米裂缝有一定指导意义。

关键词：表面传导电子发射显示器裂缝形成负阻效应

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