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T=题名（书名、题名），A=作者（责任者），K=主题词，P=出版物名称，PU=出版社名称，O=机构（作者单位、学位授予单位、专利申请人），L=中图分类号，C=学科分类号，U=全部字段，Y=年（出版发行年、学位年度、标准发布年）

检索规则说明：

AND代表“并且”；OR代表“或者”；NOT代表“不包含”；(注意必须大写,运算符两边需空一格)

检索范例：

范例一：(K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 AND Y=1982-2016
范例二：P=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT K=Visual AND Y=2011-2016

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文献类型

14 篇 专利

馆藏范围

14 篇 电子文献
0 种 纸本馆藏

日期分布

机构

7 篇 株式会社三丰
5 篇 株式会社荏原制作...
2 篇 国立大学法人九州...
2 篇 株式会社东京精密

作者

4 篇 中山树
2 篇 松尾尚典
2 篇 本岛靖之
2 篇 田尻贵宽
2 篇 望月宣宏
2 篇 石冈鹰幸
2 篇 铃木惠友
2 篇 丸山彻
2 篇 森井秀树
2 篇 神木启佑
2 篇 片山实
2 篇 卡琼路鲁安帕纳特
1 篇 大田浩平
1 篇 大岛浩平
1 篇 本田博臣
1 篇 金马利文

语言

14 篇 中文

检索条件"主题词=表面性状测定"

共 14 条记录，以下是1-10 订阅

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详细简洁

排序：

表面性状测定方法和表面性状测定装置

表面性状测定方法和表面性状测定装置

引用

作者：中山树日本神奈川县

本发明提供一种表面性状测定方法和表面性状测定装置，不利用测定臂的位移速度的监视以及施加于测定臂的测定力的控制就能够防止在测定时臂落下。使用表面性状测定装置，该表面性状测定装置具有被支承为以使触针(12)沿上下方向产生位移... 详细信息

标准号: CN111121597B

本发明提供一种表面性状测定方法和表面性状测定装置，不利用测定臂的位移速度的监视以及施加于测定臂的测定力的控制就能够防止在测定时臂落下。使用表面性状测定装置，该表面性状测定装置具有被支承为以使触针(12)沿上下方向产生位移的方式自如摆动的臂(11)和使臂(11)转动来将触针(12)保持在规定高度的臂升降机(20)，将臂升降机(20)配置为能够将臂(11)保持在下限高度(L3)的状态，该下限高度(L3)为从规定的测定高度(L1)起的向下规定的落下量(F)的位置，之后，将臂(11)配置在下限高度(L3)且使触针(12)接触被测定物(W)，在该状态下对被测定物(W)的表面性状进行测定。

关键词：表面性状测定触针升降机被测定物落下表面性状上下方向测定力摆动支承配置转动监视施加

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表面性状测定机和表面性状判定方法

表面性状测定机和表面性状判定方法

引用

作者：本田博臣日本神奈川县

本发明提供一种表面性状测定机和表面性状判定方法。表面性状测定机具备：参数设定部(422)，其设定与工件的表面性状相关的一个以上的参数；测定部(423)，其基于扫描工件或主工件的表面所得到的位移测定数据，来计算与参数对应的测定值... 详细信息

标准号: CN115388746A

本发明提供一种表面性状测定机和表面性状判定方法。表面性状测定机具备：参数设定部(422)，其设定与工件的表面性状相关的一个以上的参数；测定部(423)，其基于扫描工件或主工件的表面所得到的位移测定数据，来计算与参数对应的测定值；判定值计算部(424)，其将主工件的测定值设为基准值，将相对于基准值成为规定的比例的值设为公差，来计算与参数对应的判定值；以及判定部(425)，其针对每个参数而将工件的测定值与判定值进行比较。

关键词：判定表面性状测定表面性状参数设定部测定数据扫描工件公差计算部判定部

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表面性状测定装置的控制方法

表面性状测定装置的控制方法

引用

作者：石冈鹰幸片山实日本神奈川县

本发明提供一种表面性状测定装置的控制方法，使得在自动设置时不使触针的顶端产生位移。通过相对移动机构使测定器与测定对象面在Z轴方向上进行相对移动以使测定器与测定对象面接近，探测触针的顶端是否接触到测定对象面，计算从触针... 详细信息

标准号: CN110657739B

本发明提供一种表面性状测定装置的控制方法，使得在自动设置时不使触针的顶端产生位移。通过相对移动机构使测定器与测定对象面在Z轴方向上进行相对移动以使测定器与测定对象面接近，探测触针的顶端是否接触到测定对象面，计算从触针的顶端接触到测定对象面起直到测定臂变为水平为止所需要的、测定器与测定对象物的在Z轴方向上的相对位移量ΔZ0，并计算在测定器与测定对象物在Z轴方向上相对移动了ΔZ0时触针的顶端所产生的X轴方向的位移量ΔX0，在通过相对移动机构使测定器与测定对象物在Z轴方向上相对移动ΔZ0来使测定臂成为水平的同时，通过相对移动机构使测定器与测定对象物在X轴方向上相对位移ΔX0。

关键词：测定器测定对象面测定对象物触针相对移动机构相对移动表面性状测定相对位移量相对位移自动设置位移量探测

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表面性状测定装置及其控制方法

表面性状测定装置及其控制方法

引用

作者：中山树日本神奈川县

本发明提供一种表面性状测定装置及其控制方法，抑制测定臂的落下从而使触针不与测定对象发生撞击。表面性状测定装置具有以能够进行圆弧运动的方式被支承的测定臂、设置于测定臂的顶端的触针、检测测定臂的位移的位移检测器以及对测定... 详细信息

标准号: CN111089528B

本发明提供一种表面性状测定装置及其控制方法，抑制测定臂的落下从而使触针不与测定对象发生撞击。表面性状测定装置具有以能够进行圆弧运动的方式被支承的测定臂、设置于测定臂的顶端的触针、检测测定臂的位移的位移检测器以及对测定臂向圆弧运动方向施力来施加测定力的测定力施加单元(音圈马达)。控制装置具备输出用于指示测定力的朝向和大小的测定力指令的中央控制部以及对由测定力施加单元产生的测定力的朝向和大小进行控制的测定力控制部。测定力控制部对来自位移检测器的位移检测信号进行监视，在测定臂的位移速度超过规定阈值的情况下，施加反馈以使测定力施加单元产生将测定臂的顶端向上方抬起的方向的力。

关键词：测定力施加单元表面性状测定位移检测器触针施加位移检测信号圆弧运动方向中央控制部测定对象控制装置音圈马达圆弧运动落下施力抬起支承监视指令反馈输出检测

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表面性状测定系统、表面性状测定方法、研磨装置以及研磨方法

表面性状测定系统、表面性状测定方法、研磨装置以及研磨方法

引用

作者：金马利文大岛浩平大田浩平日本国东京都大田区羽田旭町11番1号

本发明提供一种表面性状测定系统、表面性状测定方法、研磨装置以及研磨方法，不会损伤研磨垫并且不会降低研磨处理整体的生产率，能够精度良好地测定研磨垫的表面性状。表面性状测定系统(40)具备：光学测定装置(41)，该光学测定装置向... 详细信息

标准号: CN116945032A

本发明提供一种表面性状测定系统、表面性状测定方法、研磨装置以及研磨方法，不会损伤研磨垫并且不会降低研磨处理整体的生产率，能够精度良好地测定研磨垫的表面性状。表面性状测定系统(40)具备：光学测定装置(41)，该光学测定装置向旋转的研磨垫(2)的研磨面(2a)照射光，基于来自研磨面(2a)的反射光来测定研磨垫(2)的表面性状；罩部件(44)，该罩部件配置在光学测定装置(41)与研磨垫(2)之间；以及透明液供给线路(45)，该透明液供给线路与设置于罩部件(44)的注入口(44b)连结，通过注入口(44b)向研磨垫(2)上供给透明液，罩部件(44)在光和反射光的光路上具有光透过部(44a)。

关键词：研磨垫罩部件表面性状测定光学测定装置透明液表面性状供给线路反射光研磨面注入口光透过部研磨处理研磨装置研磨照射光连结损伤配置

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表面性状测定装置及其控制方法

表面性状测定装置及其控制方法

引用

作者：中山树日本神奈川县

标准号: CN111089528A

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表面性状测定方法和表面性状测定装置

表面性状测定方法和表面性状测定装置

引用

作者：中山树日本神奈川县

标准号: CN111121597A

关键词：表面性状测定触针升降机被测定物落下表面性状上下方向测定力摆动支承配置转动监视施加

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表面性状测定装置的控制方法

表面性状测定装置的控制方法

引用

作者：石冈鹰幸片山实日本神奈川县

标准号: CN110657739A

关键词：测定器测定对象面测定对象物触针相对移动机构相对移动表面性状测定相对位移量相对位移自动设置位移量探测

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具备研磨垫的表面性状测定装置的研磨装置及研磨系统

具备研磨垫的表面性状测定装置的研磨装置及研磨系统

引用

作者：神木启佑丸山徹本岛靖之日本国东京都大田区羽田旭町11番1号

本发明关于研磨装置及包含这种研磨装置的研磨系统，该研磨装置具备测定用于研磨半导体晶圆等基板的研磨垫的表面性状的表面性状测定装置。研磨装置具备：测定研磨垫(2)的表面性状的表面性状测定装置(30)；支承表面性状测定装置(30)的... 详细信息

标准号: CN112004640B

本发明关于研磨装置及包含这种研磨装置的研磨系统，该研磨装置具备测定用于研磨半导体晶圆等基板的研磨垫的表面性状的表面性状测定装置。研磨装置具备：测定研磨垫(2)的表面性状的表面性状测定装置(30)；支承表面性状测定装置(30)的支承臂(50)；及与支承臂(50)连结，使表面性状测定装置(30)从待避位置自动移动至测定位置的移动单元(53)。

关键词：研磨装置表面性状测定表面性状研磨垫支承臂半导体晶圆测定位置待避位置性状测定研磨系统移动单元支承表面自动移动研磨基板连结

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位移检测器、表面性状测定仪及真圆度测定仪

位移检测器、表面性状测定仪及真圆度测定仪

引用

作者：森井秀树日本国东京都

提供能够测定多个方向的位移、且具有简单的结构并且能够进行高精度的测定的位移检测器、表面性状测定仪及真圆度测定仪。位移检测器(20)具备：检测器主体(30)；大致L字形的触针(40)，其具有与测定对象物(W)的被测定面相接触的触头(44)... 详细信息

标准号: CN115574691A

提供能够测定多个方向的位移、且具有简单的结构并且能够进行高精度的测定的位移检测器、表面性状测定仪及真圆度测定仪。位移检测器(20)具备：检测器主体(30)；大致L字形的触针(40)，其具有与测定对象物(W)的被测定面相接触的触头(44)；触针保持部(33)，其设置于检测器主体(30)，用于将触针(40)保持为能够以包含相互正交的第1方向以及第2方向的面作为摆动面进行摆动；位移检测部，其设置于检测器主体(30)，用于检测伴随触头(44)与被测定面的接触而产生的触头(44)的位移。

关键词：检测器主体触头触针位移检测器表面性状测定测定对象物位移检测部面相接触摆动面测定仪真圆度正交的摆动检测

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