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文献类型

  • 3 篇 期刊文献
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  • 4 篇 电子文献
  • 0 种 纸本馆藏

日期分布

学科分类号

  • 4 篇 工学
    • 4 篇 电子科学与技术（可...
    • 3 篇 材料科学与工程（可...

主题

  • 4 篇 表面演化算法
  • 2 篇 反应离子深刻蚀
  • 2 篇 仿真
  • 1 篇 工艺模拟
  • 1 篇 降维分量拟合
  • 1 篇 三维
  • 1 篇 刻蚀
  • 1 篇 三维元胞模型
  • 1 篇 模型
  • 1 篇 硅刻蚀
  • 1 篇 mems

机构

  • 2 篇 东南大学
  • 1 篇 清华大学
  • 1 篇 温州大学
  • 1 篇 合肥工业大学

作者

  • 3 篇 张鉴
  • 2 篇 李伟华
  • 2 篇 黄庆安
  • 2 篇 zhang jian
  • 1 篇 徐栋梁
  • 1 篇 胡智文
  • 1 篇 孙晓民
  • 1 篇 郑树琳
  • 1 篇 宋亦旭
  • 1 篇 qi hao-chen
  • 1 篇 hu zhi-wen
  • 1 篇 戚昊琛
  • 1 篇 li wei-hua
  • 1 篇 huang qing-an
  • 1 篇 xu dong-lian

语言

  • 4 篇 中文
检索条件"主题词=表面演化算法"
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一种可用于硅刻蚀工艺模拟的三维表面演化算法
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电子学报 2011年 第8期39卷 1869-1872页
作者： 张鉴 戚昊琛 徐栋梁 胡智文 合肥工业大学电子科学与应用物理学院 安徽合肥230009 温州大学瓯江学院 浙江温州325035
针对硅微加工中的刻蚀工艺模拟应用,提出了一种基于点元网格和单位法向量的三维表面演化算法.在形成的连续曲面上,以高斯积分法得到点元步进的单位法向量,实现三维表面的构建与推进.根据典型的刻蚀工艺及其物理模型,该表面演化算法能够... 详细信息
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基于三维元胞模型的刻蚀工艺表面演化方法
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物理学报 2013年 第10期62卷 419-427页
作者： 郑树琳 宋亦旭 孙晓民 清华大学计算机科学与技术系 智能技术与系统国家重点实验室北京100084
为了更好地理解和认识刻蚀机理,并为制造工艺提供优化指导,采用三维元胞模型研究了刻蚀工艺的表面演化过程,并着重探讨了离子对表面演化过程的影响.针对刻蚀离子入射角度的求解问题,提出了一种降维分量拟合方法,将一个三维曲面拟合问题... 详细信息
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MEMS工艺中反应离子深刻蚀硅片的数值模型研究
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传感技术学报 2006年 第5期19卷 1426-1429页
作者： 张鉴 黄庆安 李伟华 东南大学MEMS教育部重点实验室 南京210096
反应离子深刻蚀(DRIE)是目前MEMS加工中便捷有效的主流加工工艺之一.开发较为快捷有效的工艺仿真模型与工具,对于工艺的数值预报,有着重要的作用.通过对现有表面演化算法的比较,建立了一种基于单一表面演化算法的反应离子深刻蚀模型,有... 详细信息
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MEMS工艺中反应离子深刻蚀硅片的数值模型研究
MEMS工艺中反应离子深刻蚀硅片的数值模型研究
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第八届中国微米/纳米技术学术年会
作者： 张鉴 黄庆安 李伟华 东南大学MEMS教育部重点实验室 南京210096
反应离子深刻蚀(DRIE)是目前MEMS加工中便捷有效的主流加工工艺之一.开发较为快捷有效的工艺仿真模型与工具,对于工艺的数值预报,有着重要的作用.通过对现有表面演化算法的比较,本文建立了一种基于单一表面演化算法的反应离子深刻蚀模型... 详细信息
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