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用于热蚀刻的快速且精确的温度控制
用于热蚀刻的快速且精确的温度控制
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作者： 南森·拉夫多夫斯基 布奇·伯尼 马克·直司·川口 朱济 司洪波 美国加利福尼亚州
描述了装置和方法，一种装置可以包含：处理室，其包含室壁；被配置成加热壁的室加热器；基座，其位于该室内且包含衬底加热器、窗以及三个或更多个衬底支撑件，该衬底加热器具有被配置成发出具有400纳米(nm)与800nm之间的波长范围的光... 详细信息
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包括具有高纯SP3键的CVD金刚石涂层的部件
包括具有高纯SP3键的CVD金刚石涂层的部件
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作者： 贾斯廷·查尔斯·卡尼夫 美国加利福尼亚州
一种包括具有高纯SP3键的CVD金刚石涂层的部件。一种用于等离子体处理系统的基座包括衬底支撑表面。环形边缘环围绕衬底支撑表面的周边布置。化学气相沉积(CVD)金刚石涂层布置在环形环的暴露于等离子体的表面上。CVD金刚石涂层包括sp3... 详细信息
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包括具有高纯SP3键的CVD金刚石涂层的边缘环之类的部件
包括具有高纯SP3键的CVD金刚石涂层的边缘环之类的部件
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作者： 贾斯廷·查尔斯·卡尼夫 美国加利福尼亚州
一种包括具有高纯SP3键的CVD金刚石涂层的边缘环之类的部件。一种用于等离子体处理系统的基座包括衬底支撑表面。环形边缘环围绕衬底支撑表面的周边布置。化学气相沉积(CVD)金刚石涂层布置在环形环的暴露于等离子体的表面上。CVD金刚石... 详细信息
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阳极化衬底支撑件
阳极化衬底支撑件
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作者： 秀迎·崔 标秀·朴 泉源·商 罗伯特·I·格林 约翰·M·怀特 东吉·林 钟喜·朴 甘·罗 美国加利福尼亚州
本发明提供了衬底支撑件和其制造方法。在本发明的一种实施例中，衬底支撑件包括具有衬底支撑表面的导电主体，所述衬底支撑表面被电绝缘涂层覆盖。涂层的至少位于衬底支撑表面中心上的一部分具有约80至约200微英寸的表面光洁度。在另... 详细信息
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可拆卸静电吸盘
可拆卸静电吸盘
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作者： 卡尔·布朗 诺拉·阿雷拉诺 谢约恩·舍尔斯廷斯基 刘家凌 蔡振雄 维尼特·梅赫塔 史蒂夫·桑索尼 王伟 美国加利福尼亚州
本实用新型提供了一种能够安装到处理室中底座上的静电吸盘。所述吸盘具有包括带嵌入电极的陶瓷体的静电圆盘。所述陶瓷体具有带环形外缘的衬底支撑表面。所述吸盘还具有在所述静电圆盘之下的基板，所述基板是陶瓷材料和金属的复合物。... 详细信息
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衬底加热器组件
衬底加热器组件
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作者： 马克·A·弗德 索菲娅·M·贝拉特吉 索沃·森 维斯瓦思瓦伦·西瓦诺马克斯南 皮特·韦曼·李 马里奥·大卫·西尔韦提 美国加利福尼亚州
本发明提供了一种衬底加热器组件，用于在处理期间支撑预定标准直径的衬底。在一个实施例中，所述衬底加热器组件包括主体，其具有上表面、下表面以及嵌入加热器元件。衬底支撑表面形成在所述主体的所述上表面中，并界定了衬底接收袋的... 详细信息
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在蚀刻制程中利用红外线传输的衬底温度测量
在蚀刻制程中利用红外线传输的衬底温度测量
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作者： 马修·芬顿·戴维斯 美国加利福尼亚州
本发明提出一种用以在制程期间测量温度的方法与设备。在实施例中，本发明提供一种用以在蚀刻制程期间测量衬底温度的设备，该设备包含：腔室主体；腔室盖，其封闭该腔室主体；以及衬底支撑组件。多个窗口形成在该衬底支撑组件的衬底支... 详细信息
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用于衬底传递的高温抗下垂终端受动器
用于衬底传递的高温抗下垂终端受动器
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作者： 杰弗里·A·布罗迪恩 多明戈·格拉 怀特尼·B·克勒兹 美国加利福尼亚州
本发明的实施方式涉及用于传递半导体衬底的高温抗下垂终端受动器。本发明的一个实施方式提供一种用于衬底传送器的终端受动器。所述终端受动器包含自由端，其具有配置为支撑衬底的衬底支撑表面，并使衬底相对于水平面成第一角度定位；... 详细信息
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使反应器中压强脉冲与射频调节协调的系统、方法及设备
使反应器中压强脉冲与射频调节协调的系统、方法及设备
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作者： 拉金德尔·迪恩赛 哈梅特·辛格 美国加利福尼亚州
本发明提供了使反应器中压强脉冲与射频调节协调的系统、方法及设备。具体而言，一种等离子体处理系统和方法包括处理室及包括在其中的等离子体处理体积。所述等离子体处理体积比所述处理室的体积小。所述等离子体处理体积由顶电极、与... 详细信息
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台装置、曝光装置和曝光方法
台装置、曝光装置和曝光方法
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作者： 西井康文 白石健一 河野博高 日本东京
一种台装置(PST)被提供以：支撑器(PH)，其具有支撑衬底(P)的衬底支撑表面(33A)；台(52)，其支撑和移动支撑器(PH)；以及回收装置(60)，其被布置在支撑器(PH)附近，并且具有亲液部分(3、5)，其中每一个的至少一部分是亲液性的，其利用... 详细信息
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