咨询与建议
  • 全部搜索
  • 期刊论文
  • 图书
  • 学位论文
  • 标准
  • 纸本馆藏
  • 外文资源发现
  • 数据库导航
  • 超星发现
高级检索

限定检索结果

文献类型

  • 30 篇 专利

馆藏范围

  • 30 篇 电子文献
  • 0 种 纸本馆藏

日期分布

机构

  • 5 篇 中国科学院上海光...
  • 2 篇 光科芯图科技有限...
  • 2 篇 福州大学
  • 2 篇 河海大学
  • 2 篇 南京理工大学
  • 2 篇 平安科技有限公司
  • 1 篇 上海微电子装备股...
  • 1 篇 中国科学院光电技...
  • 1 篇 长春理工大学
  • 1 篇 株式会社尼康
  • 1 篇 株式会社日本显示...
  • 1 篇 国际商业机器公司
  • 1 篇 三丰株式会社
  • 1 篇 三星电子株式会社
  • 1 篇 西安卓越视讯科技...
  • 1 篇 松下电器产业株式...
  • 1 篇 富士胶片株式会社
  • 1 篇 上海文广互动电视...
  • 1 篇 东北农业大学
  • 1 篇 北京卓视科技有限...

作者

  • 5 篇 廖陆峰
  • 5 篇 王向朝
  • 5 篇 李思坤
  • 2 篇 李悦洲
  • 2 篇 李鸣超
  • 2 篇 叱干鹏飞
  • 2 篇 霍冠英
  • 2 篇 陈健
  • 2 篇 和琨
  • 2 篇 周妍
  • 2 篇 魏周朝
  • 2 篇 柯逍
  • 2 篇 杜德川
  • 2 篇 叶宇
  • 2 篇 马国翠
  • 2 篇 李庆武
  • 2 篇 陈玥蓉
  • 2 篇 韩亚磊
  • 2 篇 曹晔锋
  • 2 篇 陈强

语言

  • 30 篇 中文
检索条件"主题词=计算掩模"
共 30 条 记 录，以下是1-10 订阅
全选 清除本页 清除全部 题录导出 标记到"检索档案"
详细 简洁
排序：
图案计算装置、图案计算方法、掩模、曝光装置、元件制造方法、计算机程序和记录媒体
图案计算装置、图案计算方法、掩模、曝光装置、元件制造方法、计...
收藏
分享
引用
作者： 加藤正纪 户口学 日本东京港区港南二丁目15番3号
图案计算装置(2)计算形成于掩模(131)上的掩模图案(1311d)，所述掩模(131)用于利用曝光用光(EL)在基板(151)上形成将单位元件图案部(1511u)排列多个而成的元件图案。图案计算装置计算用以形成一个单位元件图案部的单位掩模图案部(1311u... 详细信息
来源： 评论
掩模图案的优化方法、装置、曝光设备及存储介质
掩模图案的优化方法、装置、曝光设备及存储介质
收藏
分享
引用
作者： 和琨 牛志元 陈健 杜德川 102399 北京市大兴区荣华中路22号院1号楼31层3101
本申请涉及半导体制造的光刻技术领域，公开了掩模图案的优化方法、装置、曝光设备及存储介质，主节点和不同的从节点可以独立并行地根据元素组合中的元素以及自身存储的掩模图案，分别确定一个新的成像图案与目标图案之间的差异度，以... 详细信息
来源： 评论
基于多边形区域表征的全芯片光源掩模优化关键图形筛选方法
基于多边形区域表征的全芯片光源掩模优化关键图形筛选方法
收藏
分享
引用
作者： 廖陆峰 李思坤 王向朝 201800 上海市嘉定区清河路390号
一种基于多边形区域表征的全芯片光源掩模优化关键图形筛选方法。所述方法利用多个方向上的宽度构造多边形区域表征掩模图形的主要频率特征，并基于多边形区域设计主要频率之间的覆盖规则、主要频率聚类方法和关键图形筛选方法，实现了... 详细信息
来源： 评论
基于场景掩模的视频质量评价方法
基于场景掩模的视频质量评价方法
收藏
分享
引用
作者： 袁政 许颖浩 褚灵伟 200072 上海市闸北区洛川东路487号
本发明公开了一种基于场景掩模的视频质量评价方法，包括以下步骤：计算掩模效应的纹理因子T；计算掩模效应的视野因子F；计算掩模效应的运动因子M；根据纹理因子T、视野因子F和运动因子M计算掩模因子Maskf；根据掩模因子Maskf计算调节... 详细信息
来源： 评论
极紫外光刻掩模缺陷的补偿方法
极紫外光刻掩模缺陷的补偿方法
收藏
分享
引用
作者： 宋晓伟 张瀚之 林景全 李博超 130022 吉林省长春市卫星路7089号
本发明涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种极紫外光刻掩模缺陷的补偿方法，包括：S1：利用掩模布图计算掩模坯料的缺陷的平移范围和影响范围；S2：在缺陷的影响范围内，将对掩模布图的布图图形分别进行等距收缩操作和等距扩张操作所... 详细信息
来源： 评论
蒸镀掩模的制造方法
蒸镀掩模的制造方法
收藏
分享
引用
作者： 福田加一 日本东京都
本发明要解决的技术问题是，提供能够使开口区域的位置精度提高的蒸镀掩模的制造方法。蒸镀掩模的制造方法中，在支承基板上隔着基底金属层形成具有规定的图案的光致抗蚀剂层，以支承基板的第一面与水平面垂直的方式配置支承基板，测量... 详细信息
来源： 评论
掩模图案的优化方法、装置、曝光设备及存储介质
掩模图案的优化方法、装置、曝光设备及存储介质
收藏
分享
引用
作者： 和琨 牛志元 陈健 杜德川 102399 北京市大兴区荣华中路22号院1号楼31层3101
本申请涉及半导体制造的光刻技术领域，公开了掩模图案的优化方法、装置、曝光设备及存储介质，主节点和不同的从节点可以独立并行地根据元素组合中的元素以及自身存储的掩模图案，分别确定一个新的成像图案与目标图案之间的差异度，以... 详细信息
来源： 评论
基于轮廓表征的全芯片光源掩模优化关键图形筛选方法
基于轮廓表征的全芯片光源掩模优化关键图形筛选方法
收藏
分享
引用
作者： 李思坤 廖陆峰 王向朝 201800 上海市嘉定区清河路390号
一种基于轮廓表征的全芯片光源掩模优化关键图形筛选方法。所述方法利用轮廓表征掩模图形主要频率的特征，并基于主要频率的轮廓设计主要频率之间的覆盖规则、主要频率聚类方法和关键图形筛选方法，实现了全芯片光源掩模优化关键图形筛... 详细信息
来源： 评论
基于轮廓表征的全芯片光源掩模优化关键图形筛选方法
基于轮廓表征的全芯片光源掩模优化关键图形筛选方法
收藏
分享
引用
作者： 李思坤 廖陆峰 王向朝 201800 上海市嘉定区清河路390号
一种基于轮廓表征的全芯片光源掩模优化关键图形筛选方法。所述方法利用轮廓表征掩模图形主要频率的特征，并基于主要频率的轮廓设计主要频率之间的覆盖规则、主要频率聚类方法和关键图形筛选方法，实现了全芯片光源掩模优化关键图形筛... 详细信息
来源： 评论
基于多宽度表征的全芯片光源掩模优化关键图形筛选方法
基于多宽度表征的全芯片光源掩模优化关键图形筛选方法
收藏
分享
引用
作者： 廖陆峰 李思坤 王向朝 201800 上海市嘉定区清河路390号
一种基于多宽度表征的全芯片光源掩模优化关键图形筛选方法，利用多方向上的宽度表征掩模图形的主要频率特征，并基于主要频率的多方向宽度设计主要频率之间的覆盖规则、主要频率聚类方法和关键图形筛选方法，实现了全芯片光源掩模优化... 详细信息
来源： 评论
全选 清除本页 清除全部 题录导出 标记到“检索档案”
共3页 <<  < 1 2 3 >  >>
回到顶部
执行限定条件