检索结果-内蒙古大学图书馆

应用光学 2011年第5期32卷 888-893页

作者：郭伟远成贤锴梁斌中国科学院国家天文台南京天文光学技术研究所江苏南京210042 中国科学院天文光学技术重点实验室江苏南京210042 中国科学院研究生院北京100039

在离子束抛光工艺中,驻留时间的求解是很关键的。通常求解驻留时间的时候,是用理想的高斯函数来近似实际的加工函数。如果使用实际的加工函数仿真加工,加工的效果不好。运用系数法和消去法的综合算法来提高采用实际加工函数仿真加工镜... 详细信息

在离子束抛光工艺中,驻留时间的求解是很关键的。通常求解驻留时间的时候,是用理想的高斯函数来近似实际的加工函数。如果使用实际的加工函数仿真加工,加工的效果不好。运用系数法和消去法的综合算法来提高采用实际加工函数仿真加工镜面面型的精度,首先多次用系数法得到比较理想且平滑的镜面面型,然后再用消去法精修面型。这种算法运算速度快,得到的面型精度高且较平滑。对这种综合算法进行仿真分析,比较了理想高斯函数与实际加工函数加工后的差别,同时比较了运用消去算法与综合算法得到的镜面面型,PV值由83.63nm减小到46.92nm,镜面精度提高了很多。

关键词：离子束抛光驻留时间矩阵运算计算机控制光学表面成形

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离子束抛光工艺中驻留时间的分步消去算法

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天文研究与技术 2011年第4期8卷 374-379页

作者：郭伟远成贤锴白华中国科学院国家天文台南京天文光学技术研究所江苏南京210042 中国科学院天文光学技术重点实验室江苏南京210042 中国科学院研究生院北京100049

在离子束抛光工艺中,驻留时间的求解是很关键的。求解驻留时间是利用离子束加工函数和驻留时间的卷积等于镜面去除量的关系,而离子束抛光的过程就是一个执行解卷积的过程。受此启发,采用一种分步消去算法解矩阵的卷积运算。这种新算法... 详细信息

在离子束抛光工艺中,驻留时间的求解是很关键的。求解驻留时间是利用离子束加工函数和驻留时间的卷积等于镜面去除量的关系,而离子束抛光的过程就是一个执行解卷积的过程。受此启发,采用一种分步消去算法解矩阵的卷积运算。这种新算法占用计算机资源少,运算速度快,同时可以根据预先设定的加工精度算得满足要求的驻留时间函数。对这种新算法进行仿真分析,采用3种不同的消去顺序分步加工,得到了理想的仿真结果,PV值由抛光前的363.721 nm分别减小到6.136 nm、33.347 nm、3.875 nm,抛光后的镜面精度提高了很多。

关键词：离子束抛光驻留时间矩阵运算计算机控制光学表面成形

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计算机控制大气等离子体光学加工方法研究

计算机控制大气等离子体光学加工方法研究

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作者：贺启强哈尔滨工业大学

学位级别：硕士

伴随空间光学的快速发展,非球面光学元件以其优越的光学性能、紧凑的结构等特点正越来越多的广泛应用于现代科技领域,要求必须寻找一种能够实现快速、批量生产非球面的制造技术。与此同时,现代微电子技术和光学技术的发展对光学元件质... 详细信息

伴随空间光学的快速发展,非球面光学元件以其优越的光学性能、紧凑的结构等特点正越来越多的广泛应用于现代科技领域,要求必须寻找一种能够实现快速、批量生产非球面的制造技术。与此同时,现代微电子技术和光学技术的发展对光学元件质量提出了越来越高的要求;光学元件为了获取极高的反射度值,要求表面粗糙度低于纳米级别。传统机械加工方式属于应力加工,会破坏工件表面晶格完整性并引入残余应力,难以满足超光滑表面的需求。CNC数控技术己经能够实现光学非球面元件的精密快速铣磨成型,然而,非球面抛光仍是影响非球面加工效率和精度的主要因素。基于上述原因,提出了一种新型非球面加工方法——基于计算机控制光学成形的大气等离子体加工技术,取代现有抛光方法进行快速、高效、无表层损伤的非球面加工。结合计算机控制光学表面成形技术和大气等离子体化学加工方法,进行了相关的试验研究:运用经典Preston的抛光原理,对等离子体炬的工作方式和参数进行改进和优化,以改善其抛光精度和效率,并获得了更优的特征去除函数;推导抛光过程中的驻留时间函数的数学求解;编制抛光过程的轨迹规划工作,利用相关软件编制控制研抛的操作界面,在计算机上利用MATLAB软件进行抛光模型的仿真优化,有效的控制表面残差,提高加工精度,最后进行的实验验证,完成了非球面加工工作。这种结合计算机控制技术的新型研抛加工方法对实现大规模光学元件的高效、高精度、无损伤的加工和应用具有非常实际的意义。

关键词：计算机控制光学表面成形大气等离子体加工非球面路径规划

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光学平面镜面离子束修形中速度模式的实现

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机械工程学报 2009年第7期45卷 152-156页

作者：周林解旭辉戴一帆焦长君李圣怡国防科技大学机电工程与自动化学院长沙410073

针对光学平面镜面离子束修形工艺中,目前采用的位置加工模式额外加工时间长、精度不高的缺点,提出离子束修形工艺中的速度加工模式,并给出速度加工模式中如何根据驻留时间计算加工中进给速度的方法。使用速度模式在自研的离子束加工机床... 详细信息

针对光学平面镜面离子束修形工艺中,目前采用的位置加工模式额外加工时间长、精度不高的缺点,提出离子束修形工艺中的速度加工模式,并给出速度加工模式中如何根据驻留时间计算加工中进给速度的方法。使用速度模式在自研的离子束加工机床KDIFS-500上进行了验证试验,对一块直径98mm的微晶玻璃平面样镜进行修形,加工时间为17.5min,样镜经过一次加工后,其面形误差的方均根值由初始的33.2nm提高到了3.1nm,面形收敛比高达10.7。试验结果表明,速度模式加工比位置模式加工可以缩短加工时间,提高加工精度,获得更大的面形收敛比。

关键词：光学零件加工离子束修形计算机控制光学表面成形驻留时间速度模式

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应用离子束进行光学镜面确定性修形的实现

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光学学报 2008年第6期28卷 1131-1135页

作者：戴一帆周林解旭辉焦长君李圣怡国防科技大学机电工程与自动化学院机电系湖南长沙410073

为了克服传统光学镜面抛光方法的缺点,提出了应用离子束进行光学镜面修形的方法。介绍了离子束修形技术的原理和方法,并对离子束修形中涉及的关键技术进行了讨论。在自研的离子束修形设备上对一块直径98mm的微晶玻璃平面样件进行了离... 详细信息

为了克服传统光学镜面抛光方法的缺点,提出了应用离子束进行光学镜面修形的方法。介绍了离子束修形技术的原理和方法,并对离子束修形中涉及的关键技术进行了讨论。在自研的离子束修形设备上对一块直径98mm的微晶玻璃平面样件进行了离子束修形试验,经过两次的迭代修形使其面形精度均方根误差由初始的0.136λ提高到0.010λ(λ=632.8nm),平均每次迭代的面形收敛率达到3.7。实验结果表明,应用离子束进行光学镜面修形无边缘效应、面形收敛快、加工精度高;由于离子束修形技术去除材料过程自身的特点,使数控离子束修形技术对非球面的加工和对平面的加工难度相当。

关键词：光学加工离子束修形计算机控制光学表面成形驻留时间去除函数

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光学工艺

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中国光学与应用光学 2007年第2期21卷 93-95页

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驻留时间参数优化分析

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光学与光电技术 2006年第1期4卷 5-7页

作者：俞敏杨力万勇建中国科学院光电技术研究所

驻留时间的求解是计算机控制光学表面成形(CCOS)中最为关键的问题,它直接影响面形的收敛速度和面形精度。提出以面形精度和收敛速度两者加权综合最优的原则,对求解驻留时间的去除系数进行优化,得出其优化式,并对优化式中影响两者权重的... 详细信息

驻留时间的求解是计算机控制光学表面成形(CCOS)中最为关键的问题,它直接影响面形的收敛速度和面形精度。提出以面形精度和收敛速度两者加权综合最优的原则,对求解驻留时间的去除系数进行优化,得出其优化式,并对优化式中影响两者权重的系数β进行仿真分析, 结果表明β取值[0．1,0．3]时能使驻留时间达到最优。

关键词：驻留时间光学加工计算机控制光学表面成形

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基于Kohonen自组织网络算法规划数控抛光路径

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航空精密制造技术 2005年第6期41卷 15-17,30页

作者：王飞冯之敬程灏波清华大学精密仪器与机械学系北京100084

为避免在数控抛光中因采用规则运动路径产生的规律性高频误差,故借助于神经网络方法,采用基于Kohonen自组织网络算法,对抛光头的运动路径进行规划。

关键词：神经网络路径规划计算机控制光学表面成形非球面

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纳米精度光学非球面研磨、抛光技术

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航空精密制造技术 2004年第1期40卷 6-9页

作者：程灏波王英伟清华大学精仪系北京100084 长春理工大学材料系长春130022

介绍了高精度光学非球面的研磨、抛光技术与计算机控制水平、机械设计能力等相关领域的发展。

关键词：非球面计算机控制光学表面成形主轴摆动式

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计算机控制小工具研抛的去除特性及工艺研究

计算机控制小工具研抛的去除特性及工艺研究

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作者：李爱民国防科学技术大学

学位级别：硕士

现代空间光学技术的发展使得非球面光学元件在光学系统中被广泛采用，计算机控制光学表面成形技术(CCOS)已经成为现代光学元件精密超精密加工的重要手段。计算机控制小工具抛光是其中的一个重要分支。本文以自研光学非球面复合加工机床... 详细信息

现代空间光学技术的发展使得非球面光学元件在光学系统中被广泛采用，计算机控制光学表面成形技术(CCOS)已经成为现代光学元件精密超精密加工的重要手段。计算机控制小工具抛光是其中的一个重要分支。本文以自研光学非球面复合加工机床为对象，对计算机控制光学表面成形技术中的一些基本问题进行了研究。主要内容和创新点包括： 1．阐述了研磨和抛光的机理，针对SiC材料的加工特点，研究了SiC材料抛光过程的两个阶段，并且提出了SiC材料的抛光机理。 2．以自研双转子研抛模为主要研究对象，以Preston假设为基础，按照运动学原理推导了双转子机构抛光模的去除函数：仿真出相应的工作特性曲线：给出了系数K值的确定方法：搭建了去除函数的测量装置，进行了大量的研抛试验，并对典型的试验结果进行了细致的分析，在此基础上进行了去除函数稳定性的研究。 3．以理想去除函数的去除特性为指导，以加工实际为依据，根据双转子研抛模去除函数模型，搜索出适合加工的去除函数特征参数偏心率和转速比，并进行了试验验证；研究了偏心率和转速比对去除效率的影响，与此同时研究了抛光模材料、抛光模胶层厚度、抛光模直径以及几何形状与去除效率的关系。 4．确定了抛光模露边时压力的分布情况，总结了边缘效应的控制方法。 5．总结了选择抛光粉、抛光模及配制抛光液的方法：介绍了自行开发的CCOS软件；研究了工件的上盘方法以及抛光压力、自转公转速度、抛光液浓度对抛光质量的影响；针对不同的面形采用不同的抛光路径，分析了波浪形误差产生的原因，确定了合适的抛光步长；研究了抛光盘尺寸对表面误差的影响以及误差收敛的控制方法。

关键词：非球面计算机控制光学表面成形抛光机理去除函数参数优化去除效率边缘效应抛光工艺

来源：评论

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