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  • 635 篇 中文
检索条件"主题词=计算目标函数"
635 条 记 录,以下是561-570 订阅
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一种基于序贯蒙特卡罗方法的贝叶斯优化方法
一种基于序贯蒙特卡罗方法的贝叶斯优化方法
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作者: 王伟东 于秦 余俊良 611731 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号
本发明公开了一种基于序贯蒙特卡罗方法的贝叶斯优化方法,包括以下步骤:S1、建立目标函数,得到目标函数的后验分布;S2、加入噪声信号,计算目标函数的边缘Student‑t分布;S3、通过序贯蒙特卡罗近似的方法对目标函数进行优化。本发... 详细信息
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一种三维激光扫描仪内参数标定方法及装置
一种三维激光扫描仪内参数标定方法及装置
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作者: 宗文鹏 李广云 王力 李明磊 周阳林 王瑞鹏 高欣圆 张天天 450052 河南省郑州市高新区科学大道62号109信箱
本发明涉及一种三维激光扫描仪内参数标定方法及装置,属于三维激光测量技术领域。本发明以单站扫描数据中平面特征的总体平面度和平面内点数来评价点云总体质量,构建目标函数,使得该目标函数值最小的函数最优解作为待求内参数的估值... 详细信息
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光刻机运动轨迹规划方法、装置、计算机设备和存储介质
光刻机运动轨迹规划方法、装置、计算机设备和存储介质
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作者: 贾松涛 李猛 518051 广东省深圳市南山区高新区南区深港产学研基地西座二楼W211室
本申请涉及一种光刻机运动轨迹规划方法、装置、计算机设备和存储介质。方法包括:获取预设运动轨迹的预设规划值和约束条件;根据预设规划值和三阶扫描运动轨迹轮廓,确定预设运动轨迹中加加速度的初始时长;三阶扫描阶段轨迹轮廓包括... 详细信息
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一种基于生成式对抗网络的毫米波室内定位方法及系统
一种基于生成式对抗网络的毫米波室内定位方法及系统
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作者: 陈志刚 陈禄 王磊 李文 姬智 710049 陕西省西安市咸宁西路28号
本发明公开了一种基于生成式对抗网络的毫米波室内定位方法及系统,获取若干终端随机位置角度观测数据产生真实样本;将真实样本和生成样本同时输入到判别器,训练判别器神经网络;采用误差BP算法计算目标函数关于各层网络参数的梯度并... 详细信息
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一种用于光刻机的光源掩模优化方法
一种用于光刻机的光源掩模优化方法
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作者: 闫观勇 李思坤 王向朝 201800 上海市嘉定区上海市800-211邮政信箱
一种用于光刻机的光源掩模优化方法,光源由对称的子光源组成,优化方法是梯度法。计算目标函数F对光源或掩模的梯度,包含计算目标函数F对空间像的梯度及计算空间像对光源或掩模的梯度两部分。采用使目标函数F最优的阈值进行掩模二值... 详细信息
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一种目标形状及航向估计方法及系统
一种目标形状及航向估计方法及系统
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作者: 谢国涛 毛一鸣 边有钢 秦兆博 秦晓辉 王晓伟 秦洪懋 胡满江 徐彪 汪东升 丁荣军 214072 江苏省无锡市高浪东路999号D1栋6、7、8层
本发明公开了一种目标形状及航向估计方法及系统,该方法包括:步骤S1,获取原始的目标点云数据,并聚类;步骤S2,通过三维边界框描述聚类点云数据;步骤S3,将点云的x与y坐标沿一设定方向旋转预设步长;步骤S4,以三维边界框对应在xo... 详细信息
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基于多干扰效能值的群智能干扰决策方法
基于多干扰效能值的群智能干扰决策方法
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作者: 高敬鹏 郑凯元 郜丽鹏 武超群 蒋伊琳 赵忠凯 高路 白锦良 江志烨 秦鹏 150001 黑龙江省哈尔滨市南岗区南通大街145号哈尔滨工程大学科技处知识产权办公室
本发明属于电子干扰技术领域,具体涉及一种基于多干扰效能值的群智能干扰决策方法;包括飞行器从电磁环境中获取侦测目标信息,利用组网雷达检测概率和定位精度的自适应加权和构建目标函数,通过群智能技术对目标函数寻优,将连续解离... 详细信息
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一种基于单纯形法的电网频率仿真参数辨识方法
一种基于单纯形法的电网频率仿真参数辨识方法
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作者: 吴雪莲 李兆伟 李碧君 王亮 庄侃沁 李海峰 胡朝阳 刘福锁 李威 黄慧 王燕君 张子龙 100031 北京市西城区西长安街86号
本发明属于电力系统及其自动化技术领域,公开了一种基于单纯形法的电网频率仿真参数辨识方法。本发明首先利用多参数灵敏度分析方法,确定待辨识的仿真参数组,然后利用基于数值分析法的单纯形算法智能指导参数寻优方向,再使用电力系... 详细信息
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编队任务多脉冲控制条件下的推力器在轨自主标定方法
编队任务多脉冲控制条件下的推力器在轨自主标定方法
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作者: 完备 杜耀珂 沈阳 何煜斌 崔佳 汪礼成 贾艳胜 朱郁斐 吴敬玉 200233 上海市徐汇区宜山路710号
本发明涉及一种编队任务多脉冲控制条件下的推力器在轨自主标定方法,包含:S1、在卫星运行过程中,完成当前编队保持控制之后,确定相对导航结果,即计算编队保持控后偏差;S2、根据相对导航结果,计算相对半长轴;S3、根据相对半长轴... 详细信息
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CVD成膜工艺的膜厚调节优化方法
CVD成膜工艺的膜厚调节优化方法
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作者: 林伟华 翟立君 王艾 100176 北京市经济技术开发区文昌大道8号
本发明公开一种应用于CVD成膜工艺的膜厚调节优化方法,包括进行基准实验以获取基准膜厚;仅改变基准实验的工艺气体流量进行多组测试实验以获取测试硅片的膜厚;以相对于基准实验气体流量的流量变化值以及该流量变化值造成的相对于基... 详细信息
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